專(zhuān)利名稱：刻蝕罐及刻蝕設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體器件刻蝕技術(shù)，尤其涉及一種刻蝕罐及刻蝕設(shè)備。
背景技術(shù)：
刻蝕是半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中一個(gè)重要的步驟，包括干法刻蝕和濕法刻蝕。其中， 濕法刻蝕是將用于制造半導(dǎo)體器件的基板放入濕法刻蝕設(shè)備中裝有腐蝕性化學(xué)溶液的刻 蝕罐內(nèi)，使基板上部分材料與化學(xué)溶液反應(yīng)，以去除該部分材料。圖1為現(xiàn)有刻蝕罐結(jié)構(gòu)的立體透視圖，現(xiàn)有的刻蝕罐包括罐體11，其中盛放有刻 蝕液；設(shè)置在罐體11內(nèi)部底面上的加熱棒12，用于加熱刻蝕液以達(dá)到更好的刻蝕效果；設(shè) 置在罐體11的一個(gè)側(cè)面上的可視窗13，用于觀察罐體11內(nèi)刻蝕進(jìn)行的情況；液位傳感裝 置14，其一端固定在罐體11的頂面，另一端伸進(jìn)刻蝕液中，液位傳感裝置14用于檢測(cè)刻蝕 罐中蝕刻液的液位高度。圖2為液位傳感裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖，液位傳感裝置包括柱狀本體21，本體21 底端M —體形成有直徑小于本體21的柱狀分體25，其上依次套設(shè)有浮子22和限位片23， 限位片23固定在分體25末端沈，用于防止浮子22從分體25上脫落，浮子22可在分體25 上作軸向運(yùn)動(dòng)。當(dāng)刻蝕液的液面未接觸到浮子22時(shí)，浮子22受重力作用，緊靠限位片23。隨著 刻蝕液液面的上漲并淹沒(méi)浮子22時(shí)，浮子22受到浮力的作用，向著本體21底端M的方向 運(yùn)動(dòng)，使浮子22里設(shè)置的磁鐵與分體25內(nèi)設(shè)置的線圈相互作用，以在線圈中產(chǎn)生磁感應(yīng)電 流。該電流通過(guò)本體21內(nèi)設(shè)置的導(dǎo)線傳送到信號(hào)處理裝置，經(jīng)過(guò)處理后，可獲得刻蝕液的 液位高度。在使用上述液位傳感裝置檢測(cè)刻蝕液的液位高度的過(guò)程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù) 中至少存在如下問(wèn)題限位片由聚氯乙烯(PVC)材料制成，通常制造得比較薄，由于長(zhǎng)時(shí)間 浸泡在具有腐蝕性的刻蝕液中，容易受到腐蝕，同時(shí)，由于經(jīng)常受到浮子在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中的沖 擊，該受到腐蝕的限位片容易從分體上脫落，從而使得浮子從分體上脫落，導(dǎo)致液位傳感裝 置損壞，因此，降低了液位傳感裝置的壽命。另外，液位傳感裝置損壞后，需要對(duì)刻蝕設(shè)備停 機(jī)并更換新的液位傳感裝置，從而嚴(yán)重影響了半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種刻蝕罐及刻蝕設(shè)備，能提高液位傳感裝置的壽命及 半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效率。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一種刻蝕罐，包括盛放刻蝕液的罐體及測(cè)量所述刻蝕液的液位高度的液位傳感 裝置，其中，所述液位傳感裝置包括刻蝕液取樣彎管、連通管、及測(cè)距裝置；所述刻蝕液取樣 彎管的一端固定連接于所述罐體的側(cè)面，另一端與所述連通管的一端密封連接，所述測(cè)距 裝置設(shè)置于所述連通管的另一端；所述測(cè)距裝置用于測(cè)量所述測(cè)距裝置與所述液位傳感裝置內(nèi)液面間的距離。一種刻蝕設(shè)備，包括上述刻蝕罐；與所述測(cè)距裝置電連接的液位顯示裝置。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的刻蝕罐及刻蝕設(shè)備，依據(jù)連通原理在罐體側(cè)面設(shè)置液位 傳感裝置，并在連通管的一端設(shè)置測(cè)距裝置，通過(guò)測(cè)量測(cè)距裝置與液位傳感裝置內(nèi)液面的 距離，可以實(shí)現(xiàn)以非接觸的方式對(duì)罐體內(nèi)刻蝕液的液位高度進(jìn)行測(cè)量。由于測(cè)距裝置不接 觸刻蝕液，使得液位傳感裝置受刻蝕液腐蝕的幾率降低，從而提高了液位傳感裝置的壽命， 進(jìn)而能防止刻蝕設(shè)備頻繁停機(jī)，提高了半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效率。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例 或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅 是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前 提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現(xiàn)有刻蝕罐結(jié)構(gòu)的立體透視圖；圖2為現(xiàn)有液位傳感裝置的立體圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例1的刻蝕罐結(jié)構(gòu)的立體透視圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例1的連通管與刻蝕液取樣彎管的一種連接結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例1的連通管與刻蝕液取樣彎管的另一種連接結(jié)構(gòu)示意 圖；圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例2的液位顯示裝置的方框圖；圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例2的顯示面板與信號(hào)輸入設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種刻蝕罐，包括盛放刻蝕液的罐體及測(cè)量所述刻蝕液 的液位高度的液位傳感裝置，其中，所述液位傳感裝置包括刻蝕液取樣彎管、連通管、及測(cè) 距裝置。所述刻蝕液取樣彎管的一端固定連接于所述罐體的側(cè)面，另一端與所述連通管的 一端密封連接，所述測(cè)距裝置設(shè)置于所述連通管的另一端；所述測(cè)距裝置用于測(cè)量所述測(cè) 距裝置與所述液位傳感裝置內(nèi)液面間的距離。所述測(cè)距裝置優(yōu)選為超聲波傳感裝置或者激光傳感裝置。優(yōu)選地，上述液位傳感裝置還包括反射裝置，所述反射裝置設(shè)置于所述連通管內(nèi)， 所述反射裝置可漂浮于所述蝕刻液表面并隨所述蝕刻液的液位高度變化在所述連通管內(nèi) 作軸向運(yùn)動(dòng)。測(cè)距裝置發(fā)出測(cè)距信號(hào)，并接收由反射裝置反射回來(lái)的信號(hào)，經(jīng)過(guò)處理得到該 測(cè)距裝置與反射裝置間的距離。所述刻蝕液取樣彎管的徑向截面積可小于所述連通管的徑向截面積；進(jìn)一步地， 所述連通管的一端套接在所述刻蝕液取樣彎管上，所述反射裝置在所述連通管內(nèi)的所述刻 蝕液取樣彎管上方作軸向運(yùn)動(dòng)。優(yōu)選地，在上述設(shè)置有反射裝置的液位傳感裝置中，所述連通管內(nèi)壁上可設(shè)有凸 起，所述反射裝置在所述連通管內(nèi)的所述凸起上方作軸向運(yùn)動(dòng)。彎管和連通管可一體成型。連通管還可為透明管體，且該連通管上可 標(biāo)示有刻度，刻度可為指示液位高度的刻度，和/或指示對(duì)應(yīng)高度處所述罐體容積值的刻度。所述刻蝕液取樣彎管及所述連通管的徑向截面形狀可為圓形。本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種刻蝕設(shè)備，包括上述刻蝕罐；與所述測(cè)距裝置電 連接的液位顯示裝置。根據(jù)液體的連通原理，連通管內(nèi)的液位高度與刻蝕罐的罐體內(nèi)液位高度相同，因 此，本實(shí)用新型實(shí)施例通過(guò)在連通管的一端設(shè)置測(cè)距裝置以測(cè)量測(cè)距裝置與液位傳感裝置 內(nèi)液面的距離，可以實(shí)現(xiàn)以非接觸的方式對(duì)罐體內(nèi)刻蝕液的液位高度進(jìn)行測(cè)量。由于測(cè)距 裝置不接觸刻蝕液，使得液位傳感裝置受刻蝕液腐蝕的幾率降低，從而提高了液位傳感裝 置的壽命，進(jìn)而能防止刻蝕設(shè)備頻繁停機(jī)，提高了半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效率。下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行 清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的 實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下 所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。實(shí)施例1本實(shí)施例詳細(xì)描述了測(cè)距裝置中包含有反射裝置的刻蝕罐，如圖3所示，刻蝕罐 包括盛放刻蝕液的罐體31 ；設(shè)置在罐體31內(nèi)部底面上的加熱棒32，用于加熱刻蝕液以達(dá) 到更好的刻蝕效果；設(shè)置在罐體31的一個(gè)側(cè)面上的可視窗33，用于觀察罐體31內(nèi)刻蝕進(jìn) 行的情況；測(cè)量刻蝕液的液位高度的液位傳感裝置34。其中，液位傳感裝置34包括刻蝕液 取樣彎管；341、連通管；342、反射裝置343及測(cè)距裝置；344。測(cè)距裝置344用于測(cè)量該測(cè)距裝置344與液位傳感裝置34內(nèi)液面間的距離。該 測(cè)距裝置344可為但不限于激光測(cè)距裝置或超聲波裝置。反射裝置343可為但不限于反射 板，其設(shè)置于連通管342內(nèi)并漂浮于蝕刻液表面并隨蝕刻液的液位高度變化在連通管342 內(nèi)作軸向運(yùn)動(dòng)。反射裝置343用于將測(cè)距信號(hào)(如激光信號(hào)或超聲波信號(hào))反射，測(cè)距裝 置344檢測(cè)從發(fā)出測(cè)距信號(hào)至收到反射的測(cè)距信號(hào)的時(shí)間間隔，可計(jì)算獲得測(cè)距裝置344 與反射裝置343間的距離。經(jīng)過(guò)換算，即可得到反射板343與罐體31底部平面的距離，在 當(dāng)罐體31的型號(hào)已知時(shí)，就可以得到對(duì)應(yīng)此液面高度的罐體31內(nèi)液體容積值了?？涛g液取樣彎管341的一端固定連接于罐體31的側(cè)面，另一端與連通管342的一 端密封連接，測(cè)距裝置344固定安裝于連通管342的另一端。例如，刻蝕液取樣彎管341與 連通管342可以一體成型，也可螺接。當(dāng)罐體31內(nèi)盛放有蝕刻液時(shí)，根據(jù)液體的連通原理，與罐體31連通的液位傳感裝 置34內(nèi)會(huì)流入蝕刻液，且液位傳感裝置34的液位高度與罐體31的液位高度相同。進(jìn)行液 位高度測(cè)量時(shí)，假設(shè)測(cè)距裝置344為激光測(cè)距裝置，其中的激光二極管對(duì)準(zhǔn)反射板343發(fā)射 激光脈沖；經(jīng)過(guò)反射板343反射后激光向各方向散射；部分散射光返回到激光測(cè)距傳感器 344中的接收器，被接收器中的光學(xué)系統(tǒng)接收后成像到雪崩光電二極管上，雪崩光電二極管 能夠檢測(cè)極其微弱的光信號(hào)；激光測(cè)距傳感器344記錄并處理從激光脈沖發(fā)出到返回被接 收所經(jīng)歷的時(shí)間，可產(chǎn)生與距離相對(duì)應(yīng)的電信號(hào)?？涛g液取樣彎管341的徑向截面積可以但不限于小于連通管342的徑向截面積，
5此時(shí)，連通管342可套接在刻蝕液取樣彎管341上，使得刻蝕液取樣彎管341的一端伸入連 通管342的內(nèi)部，通過(guò)設(shè)置反射板343的尺寸，可使反射板343在連通管342內(nèi)的刻蝕液取 樣彎管341上方作軸向運(yùn)動(dòng)，也就是說(shuō)，當(dāng)刻蝕液減少使得連通管342內(nèi)沒(méi)有刻蝕液時(shí)，反 射板343會(huì)受到伸入連通管342內(nèi)部的刻蝕液取樣彎管341的阻擋，不會(huì)繼續(xù)下落至刻蝕 液取樣彎管341內(nèi)部。通過(guò)上述設(shè)置，可防止反射板343隨著液位的下降，流入罐體31內(nèi)， 造成液位傳感裝置34失效。需要說(shuō)明的是為保證反射板在連通管的范圍內(nèi)軸向運(yùn)動(dòng)，連通管與刻蝕液取樣 彎管的連接方法并不限于圖3所示的套接，也可以為一體成型。如圖4所示，刻蝕液取樣彎 管41在其與連通管42連接處43的徑向截面積小于該連接處43的連通管42的徑向截面積 時(shí)，適當(dāng)設(shè)置反射板44的尺寸，可使得反射板44不會(huì)下落至刻蝕液取樣彎管41內(nèi)部。也 可以如圖5所示在連通管52內(nèi)壁上設(shè)置凸起53，使得反射板不會(huì)下落至刻蝕液取樣彎管 51內(nèi)部。因此，連通管與刻蝕液取樣彎管的任何連接方法，只要能使反射板漂浮于蝕刻液表 面并隨蝕刻液的液位高度變化在連通管內(nèi)作軸向運(yùn)動(dòng)，都可以可防止反射板隨著液位的下 降，流入罐體內(nèi)，造成液位傳感裝置失效。連通管可為透明管體，且其上可標(biāo)示有刻度，該刻度可為指示液位高度的刻度，如 果刻蝕罐處理基板的過(guò)程中液位傳感裝置出現(xiàn)故障，可以通過(guò)人工讀取刻度的方式獲得刻 蝕罐的液位高度值，經(jīng)過(guò)計(jì)算可以進(jìn)一步得出對(duì)應(yīng)該高度的罐體內(nèi)的液體的容積值。進(jìn)一 步地，當(dāng)罐體的型號(hào)已知時(shí)，可以在連通管上標(biāo)示有指示對(duì)應(yīng)高度處罐體容積值的刻度。兩 種刻度也可同時(shí)標(biāo)識(shí)出。因此，可減小刻蝕設(shè)備停機(jī)的幾率，提高工作效率，并能提高半導(dǎo) 體器件的良率?？涛g液取樣彎管及連通管的徑向截面形狀可為但不限于圓形，具有其它形狀徑向 截面的管體也可用于實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。還需要說(shuō)明的是刻蝕液取樣彎管不限于圖3所示的直角彎管，也可以是弧形彎 管，連通管也不限于圖3所示的直管?？涛g罐中液位傳感裝置的結(jié)構(gòu)并不限于本實(shí)施例所描述的結(jié)構(gòu)，測(cè)距裝置還可采 用超聲波傳感裝置，或者其它借助聲、光介質(zhì)檢測(cè)距離的非接觸式的測(cè)距裝置。液位傳感裝 置中也可不包含反射裝置，設(shè)置反射裝置后，可提高測(cè)距信號(hào)(如激光信號(hào)或超聲波信號(hào)) 的反射率，進(jìn)而可提高檢測(cè)的精度。本實(shí)用新型實(shí)施例依據(jù)連通原理在罐體側(cè)面設(shè)置液位傳感裝置，并在連通管的一 端設(shè)置測(cè)距裝置，通過(guò)測(cè)量測(cè)距裝置與液位傳感裝置內(nèi)液面的距離，可以實(shí)現(xiàn)以非接觸的 方式對(duì)罐體內(nèi)刻蝕液的液位高度進(jìn)行測(cè)量。由于測(cè)距裝置不接觸刻蝕液，若設(shè)置有反射裝 置時(shí)，反射裝置只有一部分接觸刻蝕液，使得液位傳感裝置受刻蝕液腐蝕的幾率降低，從而 提高了液位傳感裝置的壽命，進(jìn)而能防止刻蝕設(shè)備頻繁停機(jī)，提高了半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效 率。另外，本實(shí)施例提供的液位傳感裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，且設(shè)置在罐體外部，更換時(shí)不需要打開(kāi) 罐體，更換成本低，同時(shí)，該液位傳感裝置不占用罐體空間，可大大提高罐體的處理能力。實(shí)施例2刻蝕設(shè)備包括刻蝕罐及液位顯示裝置，該刻蝕罐的具體結(jié)構(gòu)已在實(shí)施1中進(jìn)行了 詳細(xì)描述，在此不再贅述。該液位顯示裝置與該刻蝕罐上的測(cè)距裝置電連接，以將測(cè)距裝置 上測(cè)量得到的測(cè)距裝置與反射裝置或液位傳感裝置內(nèi)液面之間的距離轉(zhuǎn)換為罐體中刻蝕液的液位高度，并進(jìn)行顯示，以使刻蝕設(shè)備的使用者能直觀地獲得刻蝕液的液位高度信息。如圖6所示，液位顯示裝置60包括數(shù)據(jù)處理單元61、液位信號(hào)輸入接口 62、顯示 和設(shè)置液位信息的顯示面板63及供電電源64。數(shù)據(jù)處理單元61通過(guò)液位信號(hào)輸入接口 62與刻蝕罐上的測(cè)距裝置(圖中未示 出)電連接，以獲取測(cè)距裝置上產(chǎn)生的電信號(hào)，并將該電信號(hào)進(jìn)行計(jì)算，可獲得刻蝕罐罐體 內(nèi)刻蝕液的液位高度及在該高度處罐體的容積。顯示面板63與數(shù)據(jù)處理單元61電連接，顯示面板63接收數(shù)據(jù)處理單元61計(jì)算 得到的液位高度和容積并進(jìn)行顯示。供電電源64分別與數(shù)據(jù)處理單元61、顯示面板63及刻蝕罐上的測(cè)距裝置(圖中 未示出)電連接，用于向這些裝置供電。需要說(shuō)明的是液位顯示裝置并不僅限于圖6所示的結(jié)構(gòu)，其它任何能接收上述 激光測(cè)距傳感器所產(chǎn)生的電信號(hào)并能根據(jù)該信號(hào)顯示液位高度信息的裝置，都能用于實(shí)現(xiàn) 本實(shí)用新型。上述的數(shù)據(jù)處理單元61可以為但不限于單片機(jī)。上述的液位顯示裝置還可包括信號(hào)輸入設(shè)備，該信號(hào)輸入設(shè)備用于輸入與液位高 度相對(duì)應(yīng)的容積值。顯示面板63可對(duì)應(yīng)設(shè)置有控制設(shè)置屏以顯示該經(jīng)過(guò)設(shè)置的容積值，顯 示面板63還能將該經(jīng)過(guò)設(shè)置的容積值傳送到單片機(jī)61中存儲(chǔ)。如圖7所示，顯示面板包括但不限于液位指示燈71、容積顯示屏72及控制設(shè)置屏 74。信號(hào)輸入設(shè)備73可為但不限于數(shù)字鍵盤(pán)，其可設(shè)置于顯示面板上，或者在顯示面板外 單獨(dú)設(shè)置，該信號(hào)輸入設(shè)備73用于設(shè)置與液位高度相對(duì)應(yīng)的容積值。液位指示燈71共有9個(gè)，每個(gè)液位指示燈71分別用字符串來(lái)表示液位高度，如 LL、L、Ml、M2、M3、M4、M5、H及HH，9個(gè)字符串表示從低到高不同的液位高度，單片機(jī)經(jīng)過(guò)計(jì) 算獲得罐體內(nèi)刻蝕液的液位高度后，會(huì)控制與該液位高度對(duì)應(yīng)的液位指示燈71點(diǎn)亮。容積顯示屏用于顯示當(dāng)前測(cè)量的液位高度所對(duì)應(yīng)的容積值?？刂圃O(shè)置屏分為 Remote和Maint兩種模式Remote模式顯示use與No Use, use表示液位傳感裝置正在使 用，No Use表示液位傳感裝置處于空閑狀態(tài)；Maint模式下顯示數(shù)字鍵盤(pán)73上輸入的數(shù)值。數(shù)字鍵盤(pán)用來(lái)設(shè)置和更改LL、L、Ml、M2、M3、M4、M5、H、HH等液位高度對(duì)應(yīng)的罐體 容積值，具有0 9的數(shù)字鍵及若干功能鍵，功能鍵可包括Delete鍵和Save鍵，用于修改 和保存所設(shè)置的容積值。本實(shí)施例通過(guò)在液位顯示裝置中使用數(shù)據(jù)處理單元(如單片機(jī))，不僅能對(duì)測(cè)距 裝置所產(chǎn)生的對(duì)應(yīng)液位高度的電信號(hào)進(jìn)行處理并顯示，還能顯示該液位高度對(duì)應(yīng)的刻蝕罐 罐體的容積，還可以對(duì)該容積進(jìn)行修改，使得液位顯示裝置能應(yīng)用在刻蝕罐尺寸不同的刻 蝕裝置中，增加了該液位顯示裝置的通用性。同時(shí)，本實(shí)施例的刻蝕罐依據(jù)連通原理在罐體側(cè)面設(shè)置液位傳感裝置，并在連通 管的一端設(shè)置測(cè)距裝置，通過(guò)測(cè)量測(cè)距裝置與液位傳感裝置內(nèi)液面的距離，可以實(shí)現(xiàn)以非 接觸的方式對(duì)罐體內(nèi)刻蝕液的液位高度進(jìn)行測(cè)量。由于測(cè)距裝置不接觸刻蝕液，使用反射 裝置時(shí)，反射裝置只有一部分接觸刻蝕液，使得液位傳感裝置受刻蝕液腐蝕的幾率降低，從 而提高了液位傳感裝置的壽命，進(jìn)而能防止刻蝕設(shè)備頻繁停機(jī)，提高了半導(dǎo)體器件的生產(chǎn) 效率。另外，本實(shí)施例提供的液位傳感裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，且設(shè)置在罐體外部，更換時(shí)不需要打開(kāi)罐體，更換成本低，同時(shí)，該液位傳感裝置不占用罐體空間，可大大提高罐體的處理能力。本實(shí)用新型實(shí)施例中的方案用于制造半導(dǎo)體器件。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限 于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化 或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán) 利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種刻蝕罐，包括盛放刻蝕液的罐體及測(cè)量所述刻蝕液的液位高度的液位傳感裝 置，其特征在于，所述液位傳感裝置包括刻蝕液取樣彎管、連通管、及測(cè)距裝置；所述刻蝕液取樣彎管的一端固定連接于所述罐體的側(cè)面，另一端與所述連通管的一端 密封連接，所述測(cè)距裝置設(shè)置于所述連通管的另一端；所述測(cè)距裝置用于測(cè)量所述測(cè)距裝置與所述液位傳感裝置內(nèi)液面間的距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕罐，其特征在于，所述測(cè)距裝置為超聲波傳感裝置或者 激光傳感裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的刻蝕罐，其特征在于，所述液位傳感裝置還包括反射裝 置，所述反射裝置設(shè)置于所述連通管內(nèi)，所述反射裝置可漂浮于所述蝕刻液表面并隨所述 蝕刻液的液位高度變化在所述連通管內(nèi)作軸向運(yùn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刻蝕罐，其特征在于，所述刻蝕液取樣彎管的徑向截面積小 于所述連通管的徑向截面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕罐，其特征在于，所述連通管的一端套接在所述刻蝕液 取樣彎管上，所述反射裝置在所述連通管內(nèi)的所述刻蝕液取樣彎管上方作軸向運(yùn)動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刻蝕罐，其特征在于，所述連通管內(nèi)壁上設(shè)有凸起，所述反射 裝置在所述連通管內(nèi)的所述凸起上方作軸向運(yùn)動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的刻蝕罐，其特征在于，所述刻蝕液取樣彎管和所述連通管 為一體成型。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的刻蝕罐，其特征在于，所述連通管為透明管體，且所述連 通管上標(biāo)示有刻度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的刻蝕罐，其特征在于，所述刻度為指示液位高度的刻度，和/ 或指示對(duì)應(yīng)高度處所述罐體容積值的刻度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的刻蝕罐，其特征在于，所述刻蝕液取樣彎管及所述連通 管的徑向截面形狀為圓形。
11.一種刻蝕設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1 10任一項(xiàng)所述的刻蝕罐；與所述測(cè)距裝置電連接的液位顯示裝置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述液位顯示裝置包括數(shù)據(jù)處理 單元、液位信號(hào)輸入接口、顯示面板及供電電源；所述數(shù)據(jù)處理單元通過(guò)所述液位信號(hào)輸入接口與所述刻蝕罐上的測(cè)距裝置電連接，所 述顯示面板與所述數(shù)據(jù)處理單元電連接，所述供電電源分別與所述數(shù)據(jù)處理單元、所述顯 示面板及所述刻蝕罐上的測(cè)距裝置電連接。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述液位顯示裝置還包括信號(hào)輸 入設(shè)備，所述信號(hào)輸入設(shè)備用于輸入與液位高度相對(duì)應(yīng)的容積值。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述顯示面板包括液位指示燈、容 積顯示屏及顯示所述信號(hào)輸入設(shè)備輸入的數(shù)值的控制設(shè)置屏。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理單元為單片機(jī)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種刻蝕罐及刻蝕設(shè)備，涉及半導(dǎo)體器件刻蝕技術(shù)，解決了現(xiàn)有液位傳感裝置在檢測(cè)刻蝕液的液位高度時(shí)存在的壽命短及降低半導(dǎo)體器件生產(chǎn)效率的問(wèn)題。本實(shí)用新型依據(jù)連通原理在罐體側(cè)面設(shè)置液位傳感裝置，并在連通管的一端設(shè)置測(cè)距裝置，通過(guò)測(cè)量測(cè)距裝置與液位傳感裝置內(nèi)液面的距離，可以實(shí)現(xiàn)以非接觸的方式對(duì)刻蝕罐罐體內(nèi)刻蝕液的液位高度進(jìn)行測(cè)量，由于測(cè)距裝置不接觸刻蝕液，使得液位傳感裝置受刻蝕液腐蝕的幾率降低，從而提高了液位傳感裝置的壽命，進(jìn)而能防止刻蝕設(shè)備頻繁停機(jī)，能提高半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型用于制造半導(dǎo)體器件。
文檔編號(hào)H01L21/66GK201927585SQ20112000104
公開(kāi)日2011年8月10日 申請(qǐng)日期2011年1月4日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月4日
發(fā)明者孫文昌, 張家歡, 靖瑞寬 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司