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低應(yīng)力澆灌整流方橋的制作方法

文檔序號:7173160閱讀:284來源:國知局
專利名稱:低應(yīng)力澆灌整流方橋的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種低應(yīng)力澆灌整流方橋。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的澆灌方橋,因澆灌環(huán)氧的應(yīng)力較大,導(dǎo)致工作中抗溫度沖擊的能力較低,僅能夠滿足-40 +125°C的溫度循環(huán)試驗(yàn)。應(yīng)用的局限性較大。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于針對上述存在的問題,提供一種低應(yīng)力澆灌整流方橋。低應(yīng)力澆灌整流方橋,交流輸入一與框架一相連,框架一連接芯片一,芯片一連接跳線一,跳線一與框架四相連后在連接到直流輸出負(fù)端;框架一連接跳線二,跳線二連接芯片二,芯片二連接框架二,框架二連接到直流輸出正端;交流輸入二與框架三相連,框架三連接芯片四,芯片四連接跳線四,跳線四與框架四相連后在連接到直流輸出負(fù)端;框架三連接跳線三,跳線三連接芯片三,芯片三連接框架二,框架二連接到直流輸出正端。1、調(diào)整內(nèi)部框架厚度原設(shè)計(jì)厚度為0. 3mm,更新設(shè)計(jì)到0. 5mm改進(jìn)了內(nèi)部框架厚度,提高內(nèi)部框架的抗應(yīng)力能力,減少變形。2、更改內(nèi)部框架結(jié)構(gòu),使?jié)补喹h(huán)氧在產(chǎn)生應(yīng)力時,由內(nèi)部框架來抵御該應(yīng)力。改變了原設(shè)計(jì)內(nèi)部在澆灌環(huán)氧產(chǎn)生應(yīng)力后,原設(shè)計(jì)的內(nèi)部框架增加該應(yīng)力導(dǎo)致芯片損壞的現(xiàn)象。綜上所述,由于采用了上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型的有益效果是采用低應(yīng)力設(shè)計(jì),幫助芯片抵擋澆灌環(huán)氧在溫度沖擊時形成的應(yīng)力,提高產(chǎn)品的抗溫度沖擊能力到-55 150°C,提高產(chǎn)品可靠性。

圖1是本實(shí)用新型電路結(jié)構(gòu)連接示意圖。圖中標(biāo)記DC1---直流輸出“ + ”端,DC2-—直流輸出“_”端,ACl一一交流輸入一,AC2-—交流輸入二 ;Kl——框架一,K2——框架二,K3-—框架三,K4-—框架四, Xl-—芯片一,X2—芯片二,X3-—芯片三,X4—芯片四,Tl-—跳線一,T2-—跳線二,T3-—跳線三,T4——跳線四。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖,對本實(shí)用新型作詳細(xì)的說明。為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型。[0014]如圖1所示,1、調(diào)整內(nèi)部框架厚度原設(shè)計(jì)厚度為0. 3mm,更新設(shè)計(jì)到0. 5mm改進(jìn)了內(nèi)部框架厚度,提高內(nèi)部框架的抗應(yīng)力能力,減少變形。2、更改內(nèi)部框架結(jié)構(gòu),使?jié)补喹h(huán)氧在產(chǎn)生應(yīng)力時,由內(nèi)部框架來抵御該應(yīng)力。改變了原設(shè)計(jì)內(nèi)部在澆灌環(huán)氧產(chǎn)生應(yīng)力后,原設(shè)計(jì)的內(nèi)部框架增加該應(yīng)力導(dǎo)致芯片損壞的現(xiàn)象。效果請見下表。 以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1. 一種低應(yīng)力澆灌整流方橋,其特征在于交流輸入一與框架一相連,框架一連接芯片一,芯片一連接跳線一,跳線一與框架四相連后在連接到直流輸出負(fù)端;框架一連接跳線二,跳線二連接芯片二,芯片二連接框架二,框架二連接到直流輸出正端;交流輸入二與框架三相連,框架三連接芯片四,芯片四連接跳線四,跳線四與框架四相連后在連接到直流輸出負(fù)端;框架三連接跳線三,跳線三連接芯片三,芯片三連接框架二,框架二連接到直流輸出正端。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種低應(yīng)力澆灌整流方橋,其特征在于交流輸入一與框架一相連,框架一連接芯片一,芯片一連接跳線一,跳線一與框架四相連后在連接到直流輸出負(fù)端;框架一連接跳線二,跳線二連接芯片二,芯片二連接框架二,框架二連接到直流輸出正端;交流輸入二與框架三相連,框架三連接芯片四,芯片四連接跳線四,跳線四與框架四相連后在連接到直流輸出負(fù)端;框架三連接跳線三,跳線三連接芯片三,芯片三連接框架二,框架二連接到直流輸出正端。采用低應(yīng)力設(shè)計(jì),幫助芯片抵擋澆灌環(huán)氧在溫度沖擊時形成的應(yīng)力,提高產(chǎn)品的抗溫度沖擊能力到-55~150℃,提高產(chǎn)品可靠性。
文檔編號H01L23/495GK202018959SQ20112004301
公開日2011年10月26日 申請日期2011年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月21日
發(fā)明者梁魯川, 邱志述 申請人:樂山無線電股份有限公司
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