專利名稱：一種濕法刻蝕槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及硅太陽(yáng)電池濕法刻蝕設(shè)備領(lǐng)域，特別是一種濕法刻蝕槽。
背景技術(shù)：
采用HF/HN03體系對(duì)太陽(yáng)電池?fù)p傷層進(jìn)行刻蝕，減少發(fā)射極的復(fù)合。對(duì)于相對(duì)較薄的損傷層，刻蝕量需適中，刻蝕太多容易導(dǎo)致反射率下降，太少損傷層不能完全移除。而一般的清洗循環(huán)方式都是內(nèi)外槽單管循環(huán)，如

圖1所示，在內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置的內(nèi)槽出口位置流量較內(nèi)槽其他位置相對(duì)較大，在流量較大位置刻蝕量較大，這樣就導(dǎo)致同片硅片刻蝕不均勻。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種濕法刻蝕槽，提高藥液流量在內(nèi)槽的分布均勻性。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種濕法刻蝕槽，包括內(nèi)槽、外槽和內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置，在內(nèi)槽的槽體內(nèi)安裝沿槽體延伸的帶孔的管路，管路上的孔沿管路分布，管路與內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置的出口連通。帶孔的管路安裝在槽體兩側(cè)，管路上的孔沿管路均勻分布。本實(shí)用新型的有益效果是該方法改用從內(nèi)槽的旁側(cè)安裝帶孔的管路，讓藥液通過(guò)這種管路的孔洞內(nèi)進(jìn)入內(nèi)槽，這樣藥液流量在內(nèi)槽能均勻分布，改善刻蝕的均勻性。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明；圖1是改造前的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是改造后的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型的管路的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，1.內(nèi)槽，2.外槽，3.管路，4.孔，5.內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置。
具體實(shí)施方式
如圖2所示，一種濕法刻蝕槽，包括內(nèi)槽1和外槽2，在內(nèi)槽1的槽體內(nèi)安裝沿槽體延伸的帶孔的管路3，管路3上的孔4沿管路分布。孔洞大小需與流量匹配，管路擺放位置可依實(shí)際工藝條件有不同的定義，管路3與內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置5的出口連通，內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置5通過(guò)管路的孔4將外槽2的藥液輸入內(nèi)槽1。如圖2和3所示，帶孔的管路3 安裝在槽體兩側(cè)，管路3上的孔4沿管路均勻分布。
權(quán)利要求1.一種濕法刻蝕槽，包括內(nèi)槽(1)、外槽( 和內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置(5)，其特征是在所述的內(nèi)槽(1)的槽體內(nèi)安裝沿槽體延伸的帶孔的管路(3)，管路C3)上的孔(4)沿管路分布，管路C3)與內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置(5)的出口連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法刻蝕槽，其特征是所述的帶孔的管路C3)安裝在槽體兩側(cè)，管路C3)上的孔(4)沿管路均勻分布。
專利摘要本實(shí)用新型涉及硅太陽(yáng)電池濕法刻蝕設(shè)備領(lǐng)域，特別是一種濕法刻蝕槽，包括內(nèi)槽、外槽和內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置，在內(nèi)槽的槽體內(nèi)安裝沿槽體延伸的帶孔的管路，管路上的孔沿管路分布，管路與內(nèi)外槽藥液循環(huán)裝置的出口連通。本實(shí)用新型的有益效果是該方法改用從內(nèi)槽的旁側(cè)安裝帶孔的管路，讓藥液通過(guò)這種管路的孔洞內(nèi)進(jìn)入內(nèi)槽，這樣藥液流量在內(nèi)槽能均勻分布，改善刻蝕的均勻性。
文檔編號(hào)H01L31/18GK202120970SQ20112020511
公開(kāi)日2012年1月18日 申請(qǐng)日期2011年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月17日
發(fā)明者葉權(quán)華, 肖楊鑫 申請(qǐng)人:常州天合光能有限公司