專利名稱:管道架和離子生成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本文論述的實(shí)施方式涉及在諸如離子生成裝置的裝置中引導(dǎo)氣流的管道架。
背景技術(shù):
存在用于向空氣中釋放離子并控制空氣的質(zhì)量的離子生成裝置。離子生成裝置向諸如管道的氣流路徑提供在離子生成器中生成的離子,從而釋放包含離子的空氣(參見例如日本特開專利2009-36411號(hào)公報(bào))。為了電離流經(jīng)管道的空氣而在管道中設(shè)置離子生成器增加了管道中的壓力損失并減少了送風(fēng)(blowing)效率。出于該原因,可以提供大的送風(fēng)機(jī)。大的送風(fēng)機(jī)產(chǎn)生大的工作噪聲和大的氣流噪聲。如果將離子生成器設(shè)置在管道外部,則可以在管道外部確保由離子生成器占據(jù)的空間。這增加了離子生成裝置的大小。 許多離子生成器使用通過(guò)使空氣冷卻所提取的水分來(lái)生成離子,并具有用于使空氣冷卻的冷卻器。出于該原因,離子生成器包括冷卻器的散熱部,并且向該散熱部提供氣流。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種管道架和離子生成裝置,其能夠在離子生成裝置中的冷卻器的散熱部散熱的同時(shí)有效地送氣并釋放離子。根據(jù)本發(fā)明的一方面,一種管道架包括第一氣流路徑,該第一氣流路徑被配置為包括第一排氣口 ;第二氣流路徑,該第二氣流路徑被配置為包括靠近所述第一排氣口設(shè)置的第二排氣口 ;離子生成器,該離子生成器被配置為設(shè)置在所述第二氣流路徑中并將所述第二氣流路徑劃分為第一劃分流路和第二劃分流路;以及微小流路,該微小流路被配置為設(shè)置在所述離子生成器下方并具有比所述第二氣流路徑的第一劃分流路的流路阻力高的流路阻力。
圖I是合并了具有根據(jù)本實(shí)施方式的管道架的離子生成裝置的顯示監(jiān)視器設(shè)備的立體圖;圖2是圖I所示的顯示監(jiān)視器設(shè)備的分解立體圖;圖3是具有根據(jù)本實(shí)施方式的管道架的離子生成裝置的立體圖;圖4是離子生成裝置的分解立體圖;圖5是例示離子生成裝置的蓋的內(nèi)部的立體圖;圖6是例示離子生成裝置的蓋的內(nèi)部的平面圖;以及圖7是例示圖6中的A-A丨截面的截面圖。
具體實(shí)施方式
接著將參照附圖來(lái)描述本實(shí)施方式。圖I是合并了具有根據(jù)本實(shí)施方式的管道架的離子生成裝置的顯示監(jiān)視器設(shè)備的立體圖。合并了離子生成裝置的設(shè)備并不局限于顯示監(jiān)視器設(shè)備。離子生成裝置可以合并在諸如針對(duì)家用或針對(duì)辦公室用的各種電力設(shè)備的任何設(shè)備中。顯示監(jiān)視器設(shè)備I包括基部2和附接到該基部2的顯示部3。圖I例示了從后部觀察時(shí)的顯示監(jiān)視器設(shè)備I。在圖I中,例示了顯示部3的后部。顯示部3是采用例如液晶面板的顯示裝置。顯示部3的后部附接到基部2。 基部2具有臺(tái)子4以及設(shè)置在該臺(tái)子4的頂部上的主體5。主體5中容納有電路板,在該電路板上形成有驅(qū)動(dòng)并控制顯示部3的液晶面板的電路以及附屬電子組件。安全蓋6設(shè)置在主體5的頂部上。安全蓋6覆蓋并掩蓋設(shè)置在顯示監(jiān)視器設(shè)備I上的連接器和其它組件。安全蓋6是被設(shè)置用來(lái)通過(guò)連接器防止對(duì)顯示監(jiān)視器設(shè)備I的未經(jīng)授權(quán)的使用 的蓋。圖2是顯示監(jiān)視器設(shè)備I的分解立體圖。離子生成裝置10容納在主體5中。離子生成裝置10的頂部上設(shè)置有主體蓋5a。主體蓋5a的頂部上附接有安全蓋6。安全蓋6設(shè)置有進(jìn)氣口 6a,并且可以通過(guò)進(jìn)氣口 6a向安全蓋6的內(nèi)部空間提供空氣。容納在主體5中的離子生成裝置10通過(guò)主體蓋5a的進(jìn)氣口 5b吸入安全蓋6的內(nèi)部空間中的空氣,并釋放所吸入的空氣以及在離子生成裝置10中生成的離子。包含離子的空氣通過(guò)主體蓋5a的排氣口 5c和安全蓋6的排氣口 6b釋放到環(huán)境中。圖3是離子生成裝置10的立體圖,而圖4是離子生成裝置10的分解立體圖。離子生成裝置10包括底部20和蓋30。底部20是板狀部件,并且蓋30附接到底部20的頂部。如以下所描述的,在蓋30內(nèi)部設(shè)置有離子生成器50和管道架,并且從蓋30釋放在離子生成器50中生成的離子以及流經(jīng)管道架的空氣。作為送風(fēng)機(jī),風(fēng)扇40附接到蓋30。通過(guò)驅(qū)動(dòng)風(fēng)扇40,可以使得空氣流經(jīng)形成在蓋30內(nèi)部的管道架(氣流路徑)。通過(guò)形成在蓋30中的排氣口 30a來(lái)釋放提供到蓋30內(nèi)部的管道架的空氣,并且如上所述,該空氣通過(guò)主體蓋5a的排氣口 5c和安全蓋6的排氣口 6b釋放到環(huán)境中。從蓋30延伸出板附接部30b。在該板附接部30b上安裝有設(shè)置有控制離子生成裝置10的操作的控制電路的控制板60以及其它電子組件??刂瓢?0由屏蔽蓋62來(lái)覆蓋和屏蔽。圖5例示了圖3的從下面觀察的移除了底部20的離子生成裝置10,并且圖5是例示蓋30的內(nèi)部的立體圖。圖6是例示蓋30的內(nèi)部的平面圖。圖7是例示圖6的A-A^截面的截面圖。在蓋30內(nèi)部,作為氣流路徑形成有管道架,由風(fēng)扇40吸入的空氣在經(jīng)由排氣口30a釋放之前流經(jīng)該氣流路徑。在該管道架中,設(shè)置有離子生成器50。離子生成器50在該管道架中生成尚子。形成在蓋30中的管道架包括氣流路徑A (在圖6中通過(guò)實(shí)線箭頭A例示)和氣流路徑B (在圖6中通過(guò)虛線箭頭B例示),大部分由風(fēng)扇40吸入的空氣經(jīng)由氣流路徑A流向排氣口 30a,小部分由風(fēng)扇40吸入的空氣經(jīng)由氣流路徑B流動(dòng)。在氣流路徑B中,小部分由風(fēng)扇40吸入的空氣經(jīng)過(guò)離子生成器50,并與在離子生成器50中生成的離子一起流向排氣Π 30ao具體而言,來(lái)自風(fēng)扇40的空氣所流經(jīng)的蓋30的內(nèi)部空間的部分由間隔壁32劃分為氣流路徑A和氣流路徑B。也就是說(shuō),氣流路徑A與氣流路徑B相鄰。間隔壁32延伸以劃分排氣口 30a。排氣口 30a被劃分為在氣流路徑A側(cè)敞開的空氣排氣口 30a_l以及在氣流路徑B側(cè)敞開的離子排氣口 30a-2。設(shè)置在氣流路徑B中的離子生成器50具有離子生成部52和散熱片部54。離子生成部52設(shè)置有珀?duì)栙N元件(Peltier element)的冷端,并且使流經(jīng)氣流路徑B的空氣冷卻并使水分凝結(jié)(condense)。通過(guò)放電來(lái)分解在拍爾貼元件中生成的水分,并生成離子。拍爾貼元件的熱端連接到散熱片部54。離子生成器50設(shè)置在氣流路徑B中,以使得在散熱片部54與底部20 (具有附接到底部20的蓋30)之間形成微小空隙70。也就是說(shuō),氣流路徑B包括該微小空隙70,并且 流經(jīng)氣流路徑B的空氣的量受限于該微小空隙70。也就是說(shuō),該微小空隙70是在氣流路徑B中提供非常高的流路阻力的部件,并且由風(fēng)扇40產(chǎn)生的氣流的動(dòng)態(tài)壓力不足以使得空氣通過(guò)該微小空隙70。氣流路徑B連接到離子排氣口 30a_2。從氣流路徑B中包含離子的空氣中拉走經(jīng)由氣流路徑A的空氣排氣口 30a-l釋放的大量空氣,從而在離子生成器50前方的氣流路徑B的部分中產(chǎn)生負(fù)壓。離子生成器50前方的氣流路徑B的部分(圖6所例示的BI)是在上述的微小空隙70與離子排氣口 30a-2之間的氣流路徑B的部分。歸因于在微小空隙70前方產(chǎn)生的該負(fù)壓,離子生成器50后方的氣流路徑B的部分(圖6所例示的B2)中的空氣能夠經(jīng)由微小空隙70流入到離子生成器50前方的氣流路徑B的部分中。因此,能夠流入到離子生成器50前方的氣流路徑B的部分中的空氣的量是非常小的。在該實(shí)施方式中,上述的微小空隙70形成在散熱片54與底部20之間,從而在離子生成部52的后方設(shè)置有具有高流路阻力的部分。但是,還可以按照另一種方式形成具有高流路阻力的部分,例如,通過(guò)在散熱片部54中設(shè)置微小通孔。如上所述,通過(guò)放電來(lái)分解經(jīng)由微小空隙70進(jìn)入離子生成器50的離子生成部52的空氣中的水分,并生成離子。此時(shí),還通過(guò)水分的電離來(lái)生成臭氧。在離子生成部52的前方,設(shè)置有其中形成有小的開口的間隔壁34。在間隔壁34的前方,設(shè)置有其中形成有小的開口的間隔壁36。因此,包含有在離子生成部52中生成的離子和臭氧的空氣首先蓄積在形成在間隔壁34與間隔壁36之間的空間SI中。歸因于經(jīng)由氣流路徑A的空氣排氣口 30a-l釋放的大量空氣所產(chǎn)生的負(fù)壓,空間SI中蓄積的包含離子和臭氧的空氣經(jīng)由間隔壁36的開口逐漸移動(dòng)到空間S2。從包含離子和臭氧的空氣中拉走經(jīng)由空氣排氣口 30a-l釋放的大量空氣,并且該包含離子和臭氧的空氣從空間S2經(jīng)由離子排氣口 30a-2被釋放到離子生成裝置10的外部。離子生成部52中生成的臭氧具有很高的活性,并且不希望從離子生成裝置10中釋放出臭氧。因此,在該實(shí)施方式中,如上所述,包含離子生成部52中生成的離子和臭氧的空氣在經(jīng)過(guò)空間SI和空間S2以后逐漸經(jīng)由離子排氣口 30a-2排出。當(dāng)經(jīng)過(guò)空間SI和空間S2時(shí),大部分臭氧被分解為氧氣。當(dāng)經(jīng)由離子排氣口 30a-2被釋放時(shí),臭氧幾乎被分解完。因此,防止從離子生成裝置10釋放出活性臭氧。在離子生成部52中,通過(guò)放電來(lái)電離水分,并生成離子。如果從離子生成裝置10釋放出伴隨放電的聲音(放電聲),則可能是嘈雜的。但是,在該實(shí)施方式中,在離子生成部52前方由具有小的開口的間隔壁34和間隔壁36形成空間SI,因此離子生成部52中產(chǎn)生的放電聲能夠受限于空間SI并被抑制。因此,能夠減小經(jīng)由離子排氣口 30a-2排出的放電聲的等級(jí)。如果在空間SI中設(shè)置諸如海綿的聲音絕緣材料,則能夠進(jìn)一步降低放電聲的等級(jí)。如上所述,根據(jù)該實(shí)施方式的離子生成裝置10的管道架包括由間隔壁32隔開的氣流路徑A和氣流路徑B,并且在氣流路徑B中設(shè)置有離子生成器50。氣流路徑B被劃分為在離子生成器50與排氣口 30a-l之間的前流路以及在風(fēng)扇40與離子生成器50之間的后流路。也就是說(shuō),離子生成器50將氣流路徑B劃分為前流路和后流路,并且該前流路與該后流路通過(guò)微小空隙70 (微小流路)相連接。微小空隙70具有非常高的流路阻力,并且通過(guò)微小空隙70的空氣的量是非常小的。因此,經(jīng)由具有非常高的流路阻力的微小空隙70,微量的空氣被提供到設(shè)置有離子生成器50的離子生成部52的前流路。因而,離子生成部52中生成的離子能夠在蓄積在前流路中的空間SI和空間S2中以后被逐漸釋放,并且能夠、40吸入的大量空氣經(jīng)由離子生成器50的散熱片部54流向氣流路徑A,所以能夠充分冷卻連接到珀?duì)栙N元件的熱端的散熱片部54。因而,能夠改進(jìn)珀?duì)栙N元件的冷卻效果。
權(quán)利要求
1.一種管道架,該管道架包括 第一氣流路徑,該第一氣流路徑被配置為包括第一排氣口 ; 第二氣流路徑,該第二氣流路徑被配置為包括靠近所述第一排氣口設(shè)置的第二排氣Π ; 離子生成器,該離子生成器被配置為設(shè)置在所述第二氣流路徑中并將所述第二氣流路徑劃分為第一劃分流路和第二劃分流路;以及 微小流路,該微小流路被配置為設(shè)置在所述離子生成器下方并具有比所述第二氣流路徑的所述第一劃分流路的流路阻力高的流路阻力。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的管道架,其中,所述第一氣流路徑和所述第二氣流路徑的所述第二劃分流路在空氣提供側(cè)相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的管道架,其中,所述微小流路包括形成在所述離子生成器的一部分與被配置為形成所述第二氣流路徑的壁面之間的微小空隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的管道架,其中,所述第二氣流路徑的所述第一劃分流路包括一空間,包含由所述離子生成器生成的離子的空氣蓄積在該空間中。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的管道架,其中,所述空間由敞開的間隔壁劃分為所述離子生成器側(cè)的第一空間和所述第二排氣口側(cè)的第二空間。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的管道架,其中,所述離子生成器包括設(shè)置在所述第二氣流路徑的所述第二劃分流路中的散熱片部。
7.一種離子生成裝置,該離子生成裝置包括 管道架,該管道架包括 第一氣流路徑,該第一氣流路徑被配置為包括第一排氣口 ; 第二氣流路徑,該第二氣流路徑被配置為包括靠近所述第一排氣口設(shè)置的第二排氣Π ; 離子生成器,該離子生成器被配置為設(shè)置在所述第二氣流路徑中并將所述第二氣流路徑劃分為第一劃分流路和第二劃分流路;以及 微小流路,該微小流路被配置為設(shè)置在所述離子生成器下方并具有比所述第二氣流路徑的所述第一劃分流路的流路阻力高的流路阻力; 殼體,該殼體被配置為形成所述管道架;以及 送風(fēng)機(jī),該送風(fēng)機(jī)被配置為設(shè)置在所述殼體中并向所述管道架提供氣流。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離子生成裝置,其中,所述第一氣流路徑和所述第二氣流路徑由形成于所述殼體的間隔壁劃分。
全文摘要
管道架和離子生成裝置。一種管道架包括第一氣流路徑,該第一氣流路徑被配置為包括第一排氣口;第二氣流路徑,該第二氣流路徑被配置為包括靠近所述第一排氣口設(shè)置的第二排氣口;離子生成器,該離子生成器被配置為設(shè)置在所述第二氣流路徑中并將所述第二氣流路徑劃分為第一劃分流路和第二劃分流路;以及微小流路,該微小流路被配置為設(shè)置在所述離子生成器下方并具有比所述第二氣流路徑的所述第一劃分流路的流路阻力高的流路阻力。
文檔編號(hào)H01T23/00GK102738710SQ20121009810
公開日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2012年4月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月5日
發(fā)明者藤川英之, 西川晃正 申請(qǐng)人:富士通株式會(huì)社