專利名稱：有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光(EL)顯示裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
通常已知的其上安裝了有機(jī)EL元件的顯示裝置是將均具有單個(gè)或多個(gè)有機(jī)EL元件的像素以預(yù)定的圖案排列的裝置。通過這些像素，將顯示裝置的顯示區(qū)域兩維并且精細(xì)地分割。像素中包括的有機(jī)EL元件是輸出例如紅光、綠光和藍(lán)光的任一種的電子元件。其上安裝了有機(jī)EL元件的顯示裝置通過以所需的發(fā)光強(qiáng)度驅(qū)動(dòng)用于輸出所需顏色的有機(jī)EL元件而得到全色圖像。順便提及，作為顯示裝置的部件的有機(jī)EL元件中，該元件中的有機(jī)化合物層是通 過采用氣相沉積等形成由有機(jī)材料制成的薄膜而形成的薄膜層。采用氣相沉積對(duì)每個(gè)元件形成顯示裝置的有機(jī)EL元件中的有機(jī)化合物層時(shí),精細(xì)圖案化(fine patterning)技術(shù)是必須的。進(jìn)行圖案化時(shí)，其精細(xì)度(fineness)對(duì)應(yīng)圖案化的精細(xì)度的精細(xì)金屬掩模是必須的。但是，氣相沉積中反復(fù)使用金屬掩模時(shí)附著的氣相沉積膜可能使掩模中的開口變窄或者應(yīng)力可能使掩模中的開口變形。因此，必須在固定次數(shù)的成膜后清潔使用的掩模，從制造成本的觀點(diǎn)出發(fā)，這是不利的因素。此外，部分由于對(duì)掩模的加工精度的制約，像素尺寸具有約lOOym的極限，這對(duì)于更精細(xì)尺寸是不利的。此外，關(guān)于基板尺寸，使精細(xì)金屬掩模的尺寸增加時(shí)，為了確保掩模中的開口的位置精度，必須提高掩模框的剛性。但是，提高掩模的剛性時(shí)，相應(yīng)地引起掩模自身重量的增加。因此，從加工性和處理性兩者的觀點(diǎn)出發(fā)，制備第四代及其后的大版式顯示裝置時(shí)，精細(xì)有機(jī)EL元件和其上安裝了該有機(jī)EL元件的顯示裝置的最佳制備方法目前尚未具體化。在這些情況下，提出了不使用金屬掩模來制造具有精細(xì)有機(jī)EL元件的顯示裝置的方法。日本專利No.3839276中提出的方法中，在發(fā)光層上直接形成光致抗蝕劑。采用該方法時(shí)，通常使用的光致抗蝕劑含有大量的光引發(fā)劑、交聯(lián)劑等。其中，光引發(fā)劑、交聯(lián)劑等均為用于使至少在顯像劑中的不溶性變化的材料。在日本專利No. 4507759中提出的方法中，在有機(jī)化合物層上設(shè)置由水溶性材料形成的中間層，并且在該中間層上通過進(jìn)行光刻法(photolithography)來將有機(jī)化合物層圖案化。其中，用于構(gòu)成在發(fā)光層上形成的中間層的水溶性聚合物通常為絕緣性的。此外，日本專利No. 4544811提出了如下的技術(shù)將水溶性聚合物用作剝離層(release layer)并且與剝離層一起將光致抗蝕劑剝離?？刮g劑、中間層、剝離層等通常是絕緣性的。因此，這些層的任一個(gè)殘留在有機(jī)EL元件的發(fā)光層等的表面上時(shí)，該層作為電阻顯著地使有機(jī)EL顯示裝置中的有機(jī)EL元件的元件特性劣化。因此，需要將抗蝕劑、中間層、剝離層等除去以致這些層的任一個(gè)都不可能殘留在發(fā)光層等的表面上。但是，難以將均由聚合物材料形成的抗蝕劑、中間層、剝離層等完全除去，因此，不能完全除去的殘?jiān)谀撤N程度上殘留于裝置內(nèi)。此外，由于例如以下內(nèi)容，對(duì)元件特性的劣化產(chǎn)生擔(dān)心?？刮g劑、中間層、剝離層等中的痕量的雜質(zhì)或者涂布抗蝕齊U、中間層、剝離層等時(shí)使用的溶劑擴(kuò)散到構(gòu)成有機(jī)化合物層的發(fā)光層等以引起有機(jī)化合物層的結(jié)晶。因此，以往產(chǎn)生了以下問題。通過包括采用光刻法的圖案化制備的有機(jī)EL顯示裝置中的有機(jī)EL元件的元件特性劣于使用金屬掩模等以真空原位(vacuum in-situ)方式以圖案狀形成的有機(jī)EL元件的元件特性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述問題而完成，并且本發(fā)明的目的在于提供包括有機(jī)EL元件的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法，其具有與用金屬掩模等以真空原位方式形成的有機(jī)EL元件的那些相當(dāng)?shù)脑匦?，同時(shí)利用基于光刻法的圖案化方法。本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法是制造有機(jī)EL顯示裝置的方法，該有機(jī)EL顯示裝置具有有機(jī)EL元件，該有機(jī)EL元件包括第一電極和第二電極以及配置在該第一電極和該第二電極之間的有機(jī)化合物層，將該有機(jī)化合物層圖案化，該方法包括至少在第一電極上形成有機(jī)化合物層的有機(jī)化合物層形成步驟；在有機(jī)化合物層上形成剝離層的剝離·層形成步驟；將剝離層圖案化的剝離層的第一加工步驟；將沒有被在剝離層的第一加工步驟中加工過的剝離層覆蓋的區(qū)域中的有機(jī)化合物層除去的有機(jī)化合物層加工步驟；和將剝離層的一部分除去的剝離層的第二加工步驟，其中剝離層包括由電荷傳輸性有機(jī)化合物形成的沉積膜，并且可溶于極性溶劑中。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供包括有機(jī)EL元件的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法，其具有與以真空原位方式使用金屬掩模等形成的有機(jī)EL元件的那些相當(dāng)?shù)脑匦?，同時(shí)利用基于光刻法的圖案化方法。由以下參照附圖對(duì)例示實(shí)施方案的說明，本發(fā)明進(jìn)一步的特點(diǎn)將變得清楚。


圖I是表示通過本發(fā)明的制造方法制造的有機(jī)EL顯示裝置的實(shí)例的截面示意圖。圖 2A、2B、2C、2D、2E、2F、2G、2H、2I、2J、2K、2L、2M、2N 和 20 均為表示本發(fā)明的有機(jī)
EL顯示裝置的制造方法中的實(shí)施方案I的截面示意圖。圖3是表示化合物I和化合物A2中的對(duì)于蝕刻時(shí)間的厚度變化的坐標(biāo)圖。圖4是表示稠多環(huán)烴化合物(化合物I)和雜環(huán)化合物(化合物A2)在IPA/水混合溶劑(水極性溶劑)中的溶解度的坐標(biāo)圖。圖5A、5B、5C、ro和5E均為表示本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法中的實(shí)施方案2的截面示意圖。圖6A、6B、6C、6D、6E和6F均為表示本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法中的實(shí)
施方案3的截面示意圖。圖7是表示數(shù)碼相機(jī)系統(tǒng)的實(shí)例的方塊圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在根據(jù)附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案詳細(xì)說明。根據(jù)本發(fā)明的方法是制造有機(jī)EL顯示裝置的方法，該有機(jī)EL顯示裝置具有有機(jī)EL元件，該有機(jī)EL元件由第一電極和第二電極以及配置在該第一電極和該第二電極之間的有機(jī)化合物層形成，將該有機(jī)化合物層圖案化為所需的形狀。本發(fā)明的制造方法包括以下步驟(A)-(E) (A)在第一電極上形成有機(jī)化合物層的有機(jī)化合物層形成步驟；(B)在有機(jī)化合物層上形成剝離層的剝離層形成步驟；(C)將剝離層加工為所需形狀的剝離層的第一加工步驟；(D)將沒有被在剝離層的第一加工步驟中加工過的剝離層覆蓋的區(qū)域中的有機(jī)化合物層除去的有機(jī)化合物層加工步驟；和(E)將剝離層的一部分除去的剝離層的第二加工步驟。此外，本發(fā)明中，剝離層是由電荷傳輸性有機(jī)化合物形成的沉積膜，并且是可溶于極性溶劑中的薄膜層。通常，有機(jī)EL元件的有機(jī)化合物層由在極性溶劑中的溶解度小的化合物形成。因此，步驟(E)中，能夠選擇性地溶解剝離層而幾 乎不溶解有機(jī)化合物層。此外，步驟(E)后在有機(jī)化合物層的表面上殘留的剝離層是由電荷傳輸性有機(jī)化合物形成的層。因此，即使在其上形成構(gòu)成有機(jī)EL元件的層例如第二電極，也不防止電荷的流動(dòng)。應(yīng)指出的是，本發(fā)明中的方法優(yōu)選還包括步驟(E)(剝離層的第二加工步驟)后形成含有堿金屬的層的步驟。(實(shí)施方案I)以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方案進(jìn)行說明。應(yīng)指出的是，下述說明中，本技術(shù)領(lǐng)域中公知的技術(shù)或已知的技術(shù)可應(yīng)用于沒有具體圖示或說明的部分。此外，以下說明的實(shí)施方案均只是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案，本發(fā)明并不限于此。此外，只要組合不偏離本發(fā)明的主旨，可將下述的實(shí)施方案適當(dāng)?shù)亟M合。(有機(jī)EL顯示裝置)圖I是表示通過本發(fā)明的制造方法制造的有機(jī)EL顯示裝置的實(shí)例的截面示意圖。圖I的有機(jī)EL顯示裝置I在支撐基板10上設(shè)置有三種副像素(sub-pixel)，即，第一副像素20a、第二副像素20b和第三副像素20c。其中，像素由第一副像素20a、第二副像素20b和第三副像素20c構(gòu)成。盡管在圖I的有機(jī)EL顯示裝置I中示出由第一副像素20a、第二副像素20b和第三副像素20c形成的一組像素，但在實(shí)際的有機(jī)EL顯示裝置中在支撐基板10上以矩陣方式配置多個(gè)像素。此外，圖I的有機(jī)EL顯示裝置I中，各副像素(20a、20b或20c)具有第一電極21、有機(jī)化合物層22、電荷傳輸層23、電荷注入/傳輸層24和第二電極25。第一電極21(21a、21b或21c)是在支撐基板10上設(shè)置的電極層(下部電極)，并且對(duì)于每個(gè)副像素分別地設(shè)置。此外，第一電極21a、21b和21c均與開關(guān)元件(未圖示)例如晶體管電連接。有機(jī)化合物層22 (22a、22b或22c)是由預(yù)定的有機(jī)化合物形成的單層或者多個(gè)這種層形成的層疊體。應(yīng)指出的是，有機(jī)化合物層22a、22b或22c至少具有用于將包括紅色、綠色和藍(lán)色的任一種顏色的光輸出的發(fā)光層(未圖示)。為了將從第二電極25注入的空穴或電子注入或傳輸?shù)接袡C(jī)化合物層22中而設(shè)置電荷傳輸層23 (23a、23b或23c)。此外，圖I的有機(jī)EL顯示裝置I中，對(duì)于每個(gè)副像素分別設(shè)置電荷傳輸層23a、23b或23c。為了與電荷傳輸層23—起將從第二電極25注入的空穴或電子注入或傳輸?shù)接袡C(jī)化合物層22中而設(shè)置電荷注入/傳輸層24。盡管在圖I的有機(jī)EL顯示裝置I中作為各副像素(20a、20b和20c)共同的層設(shè)置電荷注入/傳輸層24，但本發(fā)明并不限于此。換言之，可對(duì)于每個(gè)副像素分別設(shè)置電荷注入/傳輸層24。盡管在圖I的有機(jī)EL顯示裝置I中如電荷注入/傳輸層24中那樣作為各副像素(20a、20b和20c)共同的層設(shè)置第二電極25 (上部電極)，但本發(fā)明并不限于此。換言之，可對(duì)于每個(gè)副像素分別設(shè)置第二電極25。(制造有機(jī)EL顯示裝置的方法)接下來，作為根據(jù)本發(fā)明的圖I的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法的具體實(shí)例，對(duì)包括用于顯示彼此不同的顏色的三種副像素的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法進(jìn)行說明。如上所述，本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法至少包括下述步驟(A)-(E) (A)在第一電極上形成有機(jī)化合物層的有機(jī)化合物層形成步驟；(B)在有機(jī)化合物層上形成剝離層的剝離層形成步驟；(C)將剝離層加工為所需形狀的剝離層的第一加工步驟；(D)將沒有被在剝離層的第一加工步驟中加工過的剝離層覆蓋的區(qū)域中的有機(jī)化合物層除去的有機(jī)化合物層加工步驟；和(E)將剝離層的一部分除去的剝離層的第二加工步驟。圖2A-20均為表示圖I的有機(jī)EL顯示裝置的制造工序的實(shí)例的截面示意圖。圖2A-20也均為表示本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法中的實(shí)施方案I的截面示意圖。制造圖I的有機(jī)EL顯示裝置時(shí)，通過例如以下步驟制造有機(jī)EL顯示裝置(I)形成第一電極的步驟(圖2A) ; (2)形成有機(jī)化合物層的步驟(圖2B) ; (3)形成剝離層的步驟(圖2C);
(4)形成感光樹脂層的步驟(圖2D) ; (5)加工感光樹脂層的步驟(圖2E) ; (6)剝離層的第一加工步驟(圖2F) ；(7)加工有機(jī)化合物層的步驟(圖2G) ；(8)除去感光樹脂層的步驟(圖2L) ；(9)剝離層的第二加工步驟(形成電荷傳輸層的步驟)(圖2M) ；(10)形成電荷注A /傳輸層的步驟(圖2N);和(11)形成第二電極的步驟(圖20)。應(yīng)指出的是，步驟(I)-(Il)只是具體實(shí)例，并且本發(fā)明并不限于該模式。由于圖I的有機(jī)EL顯示裝置I需要制備具有不同發(fā)光色的三種副像素20a、20b和20c的每一個(gè)，因此在進(jìn)行步驟(I)后進(jìn)行步驟(8)前步驟(2)-(7)需要進(jìn)行合計(jì)三次。例如，首先，通過步驟(2)-(7)形成第一副像素20a中的有機(jī)化合物層22a(圖2G)。然后，通過步驟(2)-(7)形成第二副像素20b中的有機(jī)化合物層22b (圖2H-圖21)。然后，通過步驟(2)-(7)形成第三副像素20c中的有機(jī)化合物層22c (圖2J-圖2K)。接下來，對(duì)步驟(I)-(Il)的每一個(gè)具體地說明。(形成第一電極的步驟)首先，在支撐基板10上形成第一電極21a、21b和21c。能夠選擇已知的基板例如玻璃基板作為支撐基板10。第一電極21a、21b和21c是均由已知的電極材料形成的電極層，并且對(duì)應(yīng)光取出方向來適當(dāng)選擇構(gòu)成材料。制備頂部發(fā)光型有機(jī)EL顯示裝置時(shí)，第一電極21a、21b和21c是反射電極，后述的第二電極25是光透過性電極。另一方面，制備底部發(fā)光型有機(jī)EL顯不裝置時(shí),第一電極21a、21b和21c是光透過性電極,第二電極25是反射電極。形成第一電極2la、2Ib和21c作為反射電極時(shí)，第一電極2la、2Ib和21c的每一個(gè)的構(gòu)成材料優(yōu)選為金屬材料例如Cr、Al、Ag、Au或P to這些金屬材料中，更優(yōu)選具有高反射率的材料，原因在于該材料能夠進(jìn)一步改善光取出效率。通過例如采用已知的方法例如濺射形成金屬材料的薄膜并且通過光刻法等將該薄膜加工為所需的形狀，從而對(duì)各副像素分別形成反射電極。應(yīng)指出的是，出于例如薄膜的保護(hù)或者功函數(shù)的調(diào)節(jié)的原因，可在、由任何這樣的金屬材料形成的薄膜上進(jìn)一步設(shè)置由具有光透過性的氧化物半導(dǎo)體例如ITO或IZO形成的層。形成第一電極21a、21b和21c時(shí)也可利用使用了金屬掩模的氣相沉積。即使進(jìn)行使用了金屬掩模的氣相沉積時(shí)，對(duì)各副像素也分別形成第一電極21a、21b或21c。形成第一電極21a、21b和21c作為光透過性電極時(shí),第一電極21a、21b和21c的每一個(gè)的構(gòu)成材料的實(shí)例包括具有光透過性的氧化物半導(dǎo)體例如氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅。(形成有機(jī)化合物層的步驟)有機(jī)化合物層22 (22a、22b或22c)是有機(jī)EL顯示裝置的構(gòu)成部件，并且是至少包括發(fā)光層的單層或者多層形成的層疊體。有機(jī)化合物層22中發(fā)光層以外的層是例如空穴注入層、空穴傳輸層、電子阻擋層、空穴阻擋層、電子傳輸層或電子注入層，條件是本發(fā)明并不限于此。其中，與發(fā)光層接觸的層可以是電荷傳輸層(空穴傳輸層或電子傳輸層)，或者可以是電荷阻擋層(電子阻擋層或空穴阻擋層)。 此外，只需根據(jù)從第一電極21向有機(jī)化合物層22注入的載流子的種類來適當(dāng)?shù)卦O(shè)定相對(duì)于第一電極21的有機(jī)化合物層22的具體構(gòu)成。即，從第一電極21注入空穴時(shí)，在第一電極21側(cè)設(shè)置用于注入或傳輸空穴的層(空穴注入層或空穴傳輸層)，在第二電極25側(cè)設(shè)置用于注入或傳輸電子的層(電子注入層或電子傳輸層)。另一方面，從第一電極21注入電子時(shí)，在第一電極21側(cè)設(shè)置用于注入或傳輸電子的層(電子注入層或電子傳輸層)，在第二電極25側(cè)設(shè)置用于注入或傳輸空穴的層(空穴注入層或空穴傳輸層)。應(yīng)指出的是，從發(fā)光效率的觀點(diǎn)出發(fā)，有機(jī)化合物層22優(yōu)選為無定形膜。此外，優(yōu)選取決于發(fā)光波長(zhǎng)以適當(dāng)?shù)姆绞皆O(shè)計(jì)各有機(jī)層的厚度以致可獲得光學(xué)干涉效應(yīng)。設(shè)置空穴注入層和空穴傳輸層中的一者或者兩者時(shí)，對(duì)作為空穴注入層或空穴傳輸層的構(gòu)成材料的空穴注入性/傳輸性材料并無特別限制，但優(yōu)選使用具有至少比發(fā)光層的構(gòu)成材料的功函數(shù)小的功函數(shù)并且具有高空穴傳輸性的材料。此外，空穴注入層或空穴傳輸層可設(shè)置有阻擋從發(fā)光層流入的電子的功能以及傳輸空穴的功能。或者，與空穴注入層或空穴傳輸層獨(dú)立地，可在空穴傳輸層(或空穴注入層)和發(fā)光層之間插入具有阻擋從發(fā)光層流入的電子的功能的層(電子阻擋層)。例如，芳基胺衍生物、I，2- 二苯乙烯衍生物、聚亞芳基(polyarylene)、稠多環(huán)烴化合物、雜環(huán)芳族化合物、雜環(huán)稠多環(huán)化合物和有機(jī)金屬絡(luò)合物、以及它們的均低聚物和雜低聚物均能夠用作發(fā)光層中的各色(紅色/綠色/藍(lán)色)的有機(jī)發(fā)光材料，條件是本發(fā)明中的發(fā)光材料并不限于這些材料。應(yīng)指出的是，制造圖I的有機(jī)EL顯示裝置時(shí)，對(duì)下部電極21a、21b和21c分別設(shè)置的三種有機(jī)化合物層22a、22b和22c中的發(fā)光層的發(fā)光色分別為藍(lán)色、紅色和綠色，即，發(fā)光色彼此不同。此外，對(duì)發(fā)光色的組合并無特別限制。對(duì)空穴阻擋層的構(gòu)成材料并無特別限制，只要該材料具有防止空穴從發(fā)光層向陰極泄漏的能量壁壘并且具有電子傳輸性。本發(fā)明中，在將有機(jī)化合物層圖案化后進(jìn)行的除去剝離層的步驟中需要將剝離層選擇性地蝕刻?？紤]到上述內(nèi)容，在形成有機(jī)化合物層的步驟中形成的有機(jī)化合物層22的全體優(yōu)選為由在極性溶劑中的溶解度比剝離層低的材料形成的層。其中，有機(jī)化合物層22至少具有發(fā)光層，并且可進(jìn)一步包括選自空穴阻擋層、電子阻擋層、電荷傳輸層(空穴傳輸層或電子傳輸層)和電荷注入層(電子注入層或空穴注入層)中的層。其中，在極性溶劑中的溶解度低的材料具體為不含任何間-三聯(lián)苯基團(tuán)(m-terphenyl group)的稠多環(huán)烴化合物。其中，稠多環(huán)烴化合物是只由烴構(gòu)成的環(huán)狀不飽和有機(jī)化合物。更具體地，該化合物是含有通過芳環(huán)例如苯環(huán)的至少一邊的稠合而得到的稠環(huán)的化合物。稠多環(huán)烴化合物的具體實(shí)例包括萘、荷、突蒽、篇、蒽、并四苯、菲、花和苯并[9,10]菲(triphenylene)。但是，難以使用稠多環(huán)烴化合物作為有機(jī)化合物層的構(gòu)成材料，原因在于原樣使用該化合物時(shí)其具有低熱穩(wěn)定性。因此，將通過將取代基引入這樣的稠多環(huán)烴化合物中而得到的化合物用作有機(jī)化合物層的構(gòu)成材料。其中，作為尤其是有機(jī)化合物層的最上層的構(gòu)成材料的化合物優(yōu)選為通過用單鍵將多個(gè)稠多環(huán)烴化合物鍵合而得到的有機(jī)化合物。該有機(jī)化合物包含通過用烷基例如甲基或乙基適當(dāng)?shù)貙⒆鳛橹鞴羌艿某矶喹h(huán)烴化合物取代而得到的化合物。這樣的有機(jī)化合物在 極性溶劑中具有特別低的溶解度，原因在于該化合物不含任何在其主鏈或其取代基中具有雜原子(例如N或0)的化合物。由芳族烴化合物形成的層具有電荷傳輸性。其中，術(shù)語(yǔ)“電荷傳輸性”是指能夠流過電流的性質(zhì)。具體地，不僅電子傳輸層或空穴傳輸層而且電子注入層、空穴注入層、阻擋層等包括在具有電荷傳輸性的層中。應(yīng)指出的是，現(xiàn)有的方法例如真空沉積法、旋涂法、浸涂法或噴墨法能夠用作形成由芳族烴化合物形成的層的方法?？紤]到有機(jī)EL顯示裝置的發(fā)光特性，成膜法更優(yōu)選為真空沉積法。(形成剝離層的步驟)有機(jī)化合物層22上設(shè)置的剝離層30可以是單層，或者可以是由多層形成的層疊體。本發(fā)明中，剝離層30由單層形成時(shí)，該層是由可溶于極性溶劑中的材料形成的沉積膜?；蛘?，剝離層30是由多層形成的層疊體時(shí)，構(gòu)成該層疊體的層中至少最下層是采用真空沉積法形成為膜的由低分子量材料形成的層。更具體地，剝離層30的最下層是由可溶于極性溶劑中的材料形成的沉積膜。結(jié)果，極性溶劑的使用能夠?qū)冸x層30選擇性除去。此外，本發(fā)明中的剝離層30優(yōu)選為無定形膜。在此，對(duì)剝離層30 (或至少其最下層)是采用真空沉積法由可溶于極性溶劑中的材料形成的沉積膜的理由進(jìn)行說明。采用真空沉積法形成為膜的材料自然限于具有升華性的低分子量化合物，原因在于真空沉積法是應(yīng)用于具有高升華性的化合物的薄膜形成法。具有高升華性的化合物具體為在10_4Pa-10_5Pa的壓力下400°C以下的溫度下升華的化合物。此外，沉積膜中的化合物的分子量與聚合物材料的分子量相比小，因此構(gòu)成沉積膜的分子之間的相互作用(分子間力)弱并且它們對(duì)有機(jī)化合物層22的吸附力也弱。此外，在無定形狀態(tài)下形成的沉積膜中的分子的狀態(tài)例如分子彼此之間的取向是無規(guī)的。結(jié)果，與固體狀態(tài)和結(jié)晶狀態(tài)下的那些相比，分子間距離變大，因此實(shí)現(xiàn)使分子鋪展開并且溶劑分子容易進(jìn)入的狀態(tài)，即，容易將分子溶解的狀態(tài)。因此，通過使其與含有極性溶劑的溶劑接觸，從而以基本上均勻的方式將該采用真空沉積法形成的(有機(jī)化合物的)沉積膜從其表面蝕刻，因此能夠使幾納米至幾十納米的所需厚度殘留。
另一方面，剝離層是聚合物材料時(shí)，難以在殘留幾納米至幾十納米的所需厚度下將剝離層除去。例如，剝離層中使用導(dǎo)電水溶性聚合物時(shí)，涂布后通過焙烘干燥在界面區(qū)域形成具有低溶解度的變質(zhì)層，因此難以均勻地蝕刻剝離層。此外，發(fā)光層等中使用的n -共軛聚合物等也不能形成為剝離層，原因在于將該材料涂布時(shí)涂布液的溶劑引起作為下層的有機(jī)化合物層的溶解。在后述的剝離層的第二加工步驟中，優(yōu)選使用用于將剝離層的一部分除去的極性溶劑。此外，用于將剝離層的一部分除去的極性溶劑更優(yōu)選為通過將與水混溶的有機(jī)溶劑和水混合而得到的混合溶劑。可使用與水混溶的多種有機(jī)溶劑。其中，極性溶劑的實(shí)例包括醇類、多元醇類、酮類、酯類、吡啶類和醚類，條件是后述的剝離層的第二加工步驟中使用的溶劑在進(jìn)行第二加工步驟后需要通過揮發(fā)而除去。因此，使用的有機(jī)溶劑的沸點(diǎn)優(yōu)選至少低于有機(jī)化合物層22中的有機(jī)化合物的分解溫度或玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。以醇類作為具體實(shí)例進(jìn)行說明時(shí)，由于它們低的沸點(diǎn)，因此優(yōu)選均具有少數(shù)碳原子的醇例如甲醇、乙醇和異丙醇?！?duì)于極性溶劑的由各種化合物形成的膜的蝕刻速率(etching rate)之差，即溶解度之差產(chǎn)生的原因可認(rèn)為如下所述。作為極性溶劑列舉的化合物均必然在其分子中含有雜原子，并且該雜原子作為對(duì)象化合物分子的極性部位發(fā)揮功能。這樣，該極性部位與剝離層的構(gòu)成材料中的極性部位相互作用，因此使剝離層的構(gòu)成材料溶解于極性溶劑中。此外，極性部位之間的相互作用影響各種化合物在極性溶劑中的溶解度?？紤]到上述內(nèi)容，通過在考慮用作剝離層30的構(gòu)成材料的化合物的結(jié)構(gòu)的同時(shí)適當(dāng)?shù)剡x擇極性溶劑，與有機(jī)化合物層在其中的溶解性相比，能夠改善剝離層的最下層在由極性溶劑形成的溶劑中的溶解性。因此，除了極性溶劑的沸點(diǎn)以外，通過考慮用作剝離層30的構(gòu)成材料的化合物中的極性部位與溶劑分子的極性部位之間的相互作用來適當(dāng)?shù)剡x擇剝離層30的構(gòu)成材料，能夠選擇性地溶解剝離層30。順便提及，在極性溶劑中溶解的化合物具體為雜環(huán)化合物、或者具有給電子或吸電子取代基的有機(jī)化合物。(I)具有電荷傳輸性的雜環(huán)化合物本發(fā)明中，雜環(huán)化合物可用作剝離層30的構(gòu)成材料。本發(fā)明中，適合使用電荷傳輸性優(yōu)異的雜環(huán)化合物。其實(shí)例包括均含有雜環(huán)化合物例如吡啶、聯(lián)吡啶、三嗪、菲繞啉、喹啉、咪唑、魂唑、噻唑、魂二唑和噻二唑作為基本骨架的化合物組。應(yīng)指出的是，這樣的化合物含有喹啉作為基本骨架時(shí)，該化合物可以是輕基喹啉絡(luò)合物(quinolinate complex)。雜環(huán)化合物的化合物組中包括的化合物為例如下述化合物。
權(quán)利要求
1.有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，該有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置包括有機(jī)電致發(fā)光元件，該有機(jī)電致發(fā)光元件包括第一電極和第二電極以及配置在該第一電極和該第二電極之間的有機(jī)化合物層，將該有機(jī)化合物層圖案化，該方法包括 至少在該第一電極上形成該有機(jī)化合物層的有機(jī)化合物層形成步驟； 在該有機(jī)化合物層上形成剝離層的剝離層形成步驟； 將該剝離層圖案化的剝離層的第一加工步驟； 將沒有被在該剝離層的第一加工步驟中已加工的剝離層覆蓋的區(qū)域中的有機(jī)化合物層除去的有機(jī)化合物層加工步驟；和 將該剝離層的一部分除去的剝離層的第二加工步驟， 其中該剝離層包括由電荷傳輸性有機(jī)化合物形成的沉積膜，并且可溶于極性溶劑中。
2.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其中該極性溶劑包括通過將水和與水混溶的極性溶劑混合而得到的溶劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其中將該剝離層的第二加工步驟中形成的膜用作電荷傳輸層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其中該剝離層包含雜環(huán)化合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其中該剝離層包含具有吸電子基團(tuán)的電荷傳輸性化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其中該剝離層包含具有間-三聯(lián)苯基團(tuán)和稠環(huán)基團(tuán)的化合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其中下式成立 [剝離層的蝕刻速率]η ------:-->10[有機(jī)化合物層的蝕刻速率] 其中η為蝕刻速率之比。
8.根據(jù)權(quán)利要求I的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其還包括在該剝離層的第二加工步驟后形成含有堿金屬的層的步驟。
9.由根據(jù)權(quán)利要求I的制造方法制造的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置。
10.電子設(shè)備，包括 用于拍攝圖像的攝像部； 用于記錄拍攝的圖像的存儲(chǔ)器； 用于將該攝像部中拍攝的圖像和該存儲(chǔ)器中記錄的圖像信息轉(zhuǎn)化為圖像信號(hào)的圖像信號(hào)處理電路； 用于控制該攝像部、該存儲(chǔ)器和該圖像信號(hào)處理電路的CPU ； 用于輸入控制該CPU的信號(hào)的操作部；和 用于根據(jù)來自該CPU的信號(hào)，將從該圖像信號(hào)處理電路傳輸?shù)脑搱D像信號(hào)作為圖像顯示的顯示裝置， 其中該顯示裝置是根據(jù)權(quán)利要求9的有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其包括在第一電極上形成有機(jī)化合物層的有機(jī)化合物層形成步驟；在該有機(jī)化合物層上形成剝離層的剝離層形成步驟；將該剝離層圖案化的剝離層的第一加工步驟；將沒有被在該剝離層的第一加工步驟中已被加工的剝離層覆蓋的區(qū)域中的有機(jī)化合物層除去的有機(jī)化合物層加工步驟；和將該剝離層的一部分除去的剝離層的第二加工步驟，其中該剝離層是由電荷傳輸性有機(jī)化合物形成的沉積膜并且被含有與水混溶的有機(jī)溶劑的溶劑溶解。
文檔編號(hào)H01L51/54GK102760747SQ201210128498
公開日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2012年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月27日
發(fā)明者佐藤信彥, 廣木知之, 鹽原悟, 西出洋祐, 遠(yuǎn)藤太郎, 鐮谷淳 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社