專利名稱：緩沖單元、基板處理設(shè)備及基板處理方法
緩沖單元、基板處理設(shè)備及基板處理方法相關(guān)申請的交叉引用根據(jù)35U.S.C. § 119，此美國非臨時專利申請要求2011年5月31日遞交的申請?zhí)枮?0-2011-0052382及2011年8月19日遞交的申請?zhí)枮?0-2011-0082680的韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，它們的全部內(nèi)容通過弓I用方式合并于此。
背景技術(shù)：
此處公開的本發(fā)明涉及基板處理設(shè)備，尤其涉及光罩在其內(nèi)暫時停留的緩沖單元，基板處理設(shè)備及基板處理方法。光罩是覆蓋有與微細(xì)的半導(dǎo)體電路相對應(yīng)的圖案的石英或玻璃基板。例如，涂覆在透明石英基板的上層上的鉻薄層被刻蝕以形成與半導(dǎo)體集成電路或液晶顯示器(LCD)電 路相對應(yīng)的圖案。圖案尺寸大于半導(dǎo)體集成電路或液晶顯示器電路的尺寸I到5倍。光罩的微細(xì)圖案通過光刻過程形成于基板上。在光刻過程中，光刻膠均勻的涂覆在基板上，然后使用光罩圖案和諸如光刻機(st印per)的曝光裝置執(zhí)行按比例縮小的投影/曝光過程，然后，執(zhí)行顯影過程以形成二維光刻膠圖案。當(dāng)外來雜質(zhì)附著到光罩上時，外來雜質(zhì)會在曝光過程中分散或吸收光，以至于降低了光學(xué)分辨率，從而導(dǎo)致在基板上形成的圖案有重大缺陷。因此，作為保護構(gòu)件的薄膜(pellicle)在曝光過程期間被安裝在光罩上，以保護光罩免受外來雜質(zhì)影響。該薄膜設(shè)置在光罩圖案的上方的一定高度處，以使得即使外來雜質(zhì)附著到該薄膜上，外來雜質(zhì)也不會影響在曝光過程中形成在基板上的圖像。光罩可使用諸如硫酸過氧化氫混合物(SPM, sulfuric peroxide mixture)的化學(xué)品在濕法清洗設(shè)備中被清洗。當(dāng)在曝光過程中使用上面附著有諸如粘合劑(adhesive)的外來雜質(zhì)的光罩時，隨著曝光過程的進行，外來雜質(zhì)可被光催化能量逐漸培養(yǎng)為霧狀缺陷(haze defect)。由于生長的霧狀缺陷導(dǎo)致不希望的圖案轉(zhuǎn)移(transfer),需要有效地從光罩上移除諸如粘合劑的外來雜質(zhì)。當(dāng)光罩裝載在光罩清洗設(shè)備中時，光罩的清洗目標(biāo)表面(其圖樣表面)可向下朝向(反向)。為了這個目的，光罩清洗設(shè)備包括用來翻轉(zhuǎn)光罩的裝置。由于這樣的翻轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在光罩清洗腔內(nèi)，該翻轉(zhuǎn)裝置易受到由于化學(xué)煙霧導(dǎo)致的腐蝕，并且從驅(qū)動部處產(chǎn)生的微粒會污染光罩和光罩清洗腔的內(nèi)部。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種具有緩沖功能和翻轉(zhuǎn)功能的緩沖單元，基板處理設(shè)備和基板處理方法。本發(fā)明的目的不限于上述內(nèi)容，本領(lǐng)域技術(shù)人員將從下面的描述中，清楚地理解本文未描述的其它目的。本發(fā)明的實施例提供緩沖單元，所述緩沖單元包括框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔離；第一緩沖器，在所述第一緩沖器上放置基板，所述第一緩沖器被允許在所述第一和所述第二垂直板之間翻轉(zhuǎn)；及多個驅(qū)動部，所述多個驅(qū)動部設(shè)置在所述第一和第二垂直板外側(cè)，并驅(qū)動所述第一緩沖器夾持和翻轉(zhuǎn)放置在所述第一緩沖器上的基板。 在一些實施例中，所述第一緩沖器可包括第一支撐件，所述第一支撐件用來支撐所述基板的一個表面；及第二支撐件，所述第二支撐件面向所述第一支撐件，并支撐放置在所述第一支撐件上的所述基板的另一表面，并且所述驅(qū)動部可包括旋轉(zhuǎn)模塊，所述旋轉(zhuǎn)模塊同時旋轉(zhuǎn)所述第一支撐件和所述第二支撐件；及提升模塊，所述提升模塊垂直移動所述第二支撐件以使所述基板被所述第一和第二支撐件夾持。在其他實施例中，所述旋轉(zhuǎn)模塊可包括多個轉(zhuǎn)子(rotators),所述多個轉(zhuǎn)子被可旋轉(zhuǎn)地安裝在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，且具有中空結(jié)構(gòu)；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部用于旋轉(zhuǎn)所述轉(zhuǎn)子，其中所述提升模塊包括固定在所述轉(zhuǎn)子上的氣缸；及連 接塊，所述連接塊根據(jù)所述氣缸的驅(qū)動而垂直運動，并且穿過所述轉(zhuǎn)子連接到所述第二支撐件。仍然在其他實施例中，所述框架還包括多個隔離蓋，所述隔離蓋覆蓋所述第一垂直板和所述第二垂直板的外表面，以將容納所述驅(qū)動部的驅(qū)動部空間與外部環(huán)境隔離。仍然在其他實施例中，所述框架還包括進氣端口，所述進氣端口用于向由所述隔離蓋限定的所述驅(qū)動部空間提供排氣壓力。仍然其他實施例中，所述第一緩沖器的旋轉(zhuǎn)軸可從所述基板的夾持位置的中心偏心(eccentric)，以使所述基板的裝載位置與所述基板被翻轉(zhuǎn)后所述基板的卸載位置相同。在又一些實施例中，所述緩沖單元可還包括第二緩沖器，所述第二緩沖器具有簡單的緩沖功能而不翻轉(zhuǎn)所述基板。在又一些實施例中，所述第二緩沖器可安裝在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，并被設(shè)置在所述第一緩沖器下方。在本發(fā)明的其他實施例中，基板處理設(shè)備包括索引(index)部，所述索引部包括索引機械手(robot)和端口，在所述端口上放置有容納基板的容器；處理部，所述處理部設(shè)置為處理所述基板；和緩沖單元，所述緩沖單元設(shè)置在所述索引部和所述處理部之間以翻轉(zhuǎn)所述基板，其中在索引部和處理部間傳遞(transferred)的基板暫時停留在所述緩沖單元中。在一些實施例中，緩沖單元可包括多個第一緩沖器，在所述多個第一緩沖器上放置基板；多個驅(qū)動部，用于翻轉(zhuǎn)所述第一緩沖器；及包括中心空間和多個驅(qū)動部空間的框架，所述中心空間包括開口的前部分和開口的后部分，且所述多個驅(qū)動部空間設(shè)置在所述中心空間的兩側(cè)，其中所述第一緩沖器設(shè)置在所述中心空間內(nèi)，所述驅(qū)動部設(shè)置在所述驅(qū)動部空間內(nèi)。在其他實施例中，所述框架可包括第一垂直板和第二垂直板，所述第一垂直板和第二垂直板面向彼此，且兩者之間相隔有所述中心空間；隔離蓋，所述隔離蓋圍繞所述驅(qū)動部空間以將所述驅(qū)動部空間與外部環(huán)境隔離；及進氣端口，所述進氣端口用于向所述驅(qū)動部空間提供排氣壓力。仍然在其他實施例中，所述第一緩沖器可包括第一支撐件，支撐基板的一個表面；第二支撐件，面向所述第一支撐件，并支撐放置在所述第一支持件上的所述基板的另一表面，并且所述驅(qū)動部可包括旋轉(zhuǎn)模塊，旋轉(zhuǎn)所述第一支撐件和所述第二支撐件；及提升模塊，垂直移動所述第二支撐件，以使基板被所述第一支撐件和所述第二支撐件夾持。還在其他實施例中，所述第一緩沖器的旋轉(zhuǎn)軸可從所述基板的夾持位置的中心偏心，以使所述基板的裝載位置與所述基板被翻轉(zhuǎn)后所述基板的卸載位置相同。還在其他實施例中，所述緩沖單元可包括第一緩沖器，所述第一緩沖器具有基板翻轉(zhuǎn)功能；及第二緩沖器，所述第二緩沖器具有簡單的緩沖功能而不翻轉(zhuǎn)所述基板。在進一步的實施例中，所述第二緩沖器可設(shè)置在所述第一緩沖器下方。
仍然在進一步的實施例中，多個所述第一緩沖器可垂直排列。還在進一步的實施例中，所述處理部可包括第一處理部和第二處理部，它們垂直排列，并且所述第一處理部和所述第二處理部中的每個可包括傳送(conveyor)通道，所述傳送通道包括傳遞機械手；及多個模塊，所述多個模塊設(shè)置在傳送通道一側(cè)部分上，并沿著所述傳送通道排列。還在進一步的實施例中，所述第一處理部可包括去膠處理模塊和冷卻處理模塊，且第二處理部可包括熱處理模塊和功能水處理模塊。仍然在本發(fā)明的其它實施例中，基板處理方法包括在上面放置有容器的端口和處理部之間設(shè)置緩沖單元，所述處理部配置為處理基板以使在所述容器和所述處理部之間傳遞的所述基板停留在所述緩沖單元中，其中所述基板在停留在所述緩沖單元期間被翻轉(zhuǎn)。在一些實施例中，所述基板可包括光罩，并且所述處理部可清洗所述光罩。在其他實施例中，所述緩沖單元可包括具有翻轉(zhuǎn)功能的第一緩沖器，和不具有翻轉(zhuǎn)功能的第二緩沖器，且設(shè)置在所述容器中的基板可在所述第二緩沖器上等待，然后，被傳遞到所述第一緩沖器。


附圖被列入以提供對本發(fā)明的進一步理解，并被包含進來且構(gòu)成本說明書的一部分。附圖示出了本發(fā)明的示例性實施例，并且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。在附圖中圖I示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的基板處理設(shè)備的布局平面圖；圖2示出了圖I中基板處理設(shè)備內(nèi)的第一層的布局平面圖；圖3示出了圖I中基板處理設(shè)備內(nèi)的第二層的布局平面圖；圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的緩沖單元的透視圖；圖5示出了圖4中的緩沖單元的前視圖；圖6示出了圖4中緩沖單元的平面圖；圖7示出了圖4中緩沖單元的剖視圖；圖8A和8B示出了圖6中的感測(sensing)構(gòu)件的平面圖和側(cè)視圖；圖9到12示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例在第一緩沖器內(nèi)翻轉(zhuǎn)光罩的過程的剖視圖；圖13示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例僅包括第一緩沖器的緩沖單元的側(cè)視圖；和
圖14示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例包括第一緩沖器和第二緩沖器的緩沖單元的側(cè)視圖。
具體實施例方式下面，將參考附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的基板處理設(shè)備。全文中相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件。此外，關(guān)于公知的功能或構(gòu)造的細(xì)節(jié)描述將被省去，以免不必要地模糊本發(fā)明的主題。[實施例]圖I示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的基板處理設(shè)備的布局平面圖。圖2和圖3不出了圖I中基板處理設(shè)備內(nèi)的第一層和第二層的布局平面圖在當(dāng)前實施例中，光罩被例示為基板。但是，諸如半導(dǎo)體晶圓和平面顯示面板的各 種基板可被例示。此外，在當(dāng)前實施例中，光罩清洗設(shè)備被例示為基板處理設(shè)備。但是，用于清洗諸如晶圓的基板的設(shè)備可被例示為基板處理設(shè)備。而且，不僅可例示用于清洗諸如光罩或晶圓的基板的基板處理設(shè)備，還可例示用于處理基板背側(cè)的基板處理設(shè)備。參考圖I到圖3，根據(jù)當(dāng)前實施例的基板處理設(shè)備I包括索引(index)部1000，處理部200及緩沖單元4000。索引部1000包括四個端口 1100和索引機械手1200，容納光罩的容器被放置在所述端口上，所述索引機械手1200用于傳遞所述光罩。當(dāng)容器被放置在端口 1100上時，光罩被翻轉(zhuǎn)以使其上的圖案表面向下朝向。這樣，圖案表面的污染被最小化。在光罩被傳遞到第一處理部2000或第二處理部3000之前，光罩在緩沖單元4000中被再次翻轉(zhuǎn)以使圖案表面向上朝向。處理部200包括第一處理部2000和第二處理部3000。在第一處理部2000中對光罩施行濕法清洗過程。第一處理部2000被連接到作為翻轉(zhuǎn)緩沖部的緩沖單元4000，并包括第一傳送通道2100,所述第一傳送通道2100包括用于傳遞光罩的第一傳遞機械手2200 ;及多個去膠處理模塊(HSU和GSU) 2300和2400，去膠處理模塊2300和2400沿傳送通道2100排列；及用于冷卻光罩的冷卻處理模塊(CPU) 2500。去膠處理模塊2300和2400的數(shù)量可以是三個，冷卻處理模塊2500的數(shù)量可以是兩個。去膠處理模塊2300和2400可包括全處理模塊(HSU)2300，所述全處理模塊2300通過施加硫酸過氧化氫混合物(SPM)溶液到光罩的表面而去膠；及局部處理模塊(HSU)2400，所述局部處理模塊2400通過局部施加SPM溶液到光罩的邊緣而去膠。冷卻處理模塊2500將在熱處理模塊3300中被加熱處理的光罩冷卻到室溫。第一處理部2000和第二處理部3000設(shè)置在不同層。在第二處理部3000中對光罩執(zhí)行干法清洗和功能水清洗處理。第二處理部3000包括第二傳送通道3100，所述第二傳送通道3100包括用于傳遞光罩的第二傳遞機械手3200 ;及多個熱處理模塊(HPU) 3300和功能水處理模塊(SCU) 3400，熱處理模塊(HPU) 3300和功能水處理模塊(SCU) 3400沿第二傳送通道3100排列。熱處理模塊3300可使用紫外線加熱光罩。熱處理模塊3300的數(shù)量可以是兩個，功能水處理模塊3400的數(shù)量可以是兩個。緩沖單元4000設(shè)置在處理部200和索引部1000之間。例如緩沖單元4000設(shè)置在索引部1000和第一處理單元2000之間?？商娲?，緩沖單元4000可設(shè)置在第二處理部3000和索引部1000之間。緩沖單元4000翻轉(zhuǎn)光罩。用于進行濕法清洗處理的模塊設(shè)置在基板處理設(shè)備I的第一層上，用于執(zhí)行干法清洗處理的模塊設(shè)置在基板處理設(shè)備I的第二層上。即，在第一層執(zhí)行使用化學(xué)溶液的濕法清洗處理以保護被干法處理的光罩免受由于化學(xué)溶液向下流動而引起的離子污染?？商娲模糜趫?zhí)行濕法清洗處理的模塊和用于執(zhí)行干法清洗處理的模塊可設(shè)置在基板處理設(shè)備I的同一層。如在當(dāng)前實施例中的，處理部可包括去膠處理模塊，光罩冷卻處理模塊，熱處理模塊，和功能水處理模塊。然而，構(gòu)成處理部的處理模塊的類型可根據(jù)被處理的基板的類型和對該基板的處理而改變。根據(jù)本發(fā)明實施例的基板處理設(shè)備可同時處理五個光罩，因此提高了生產(chǎn)率。
由于光罩的圖案表面包括鉻(Cr)，因此圖案表面易受靜電影響。這樣，根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的基板處理設(shè)備可包括在移動通道(第一傳送通道、第二傳送通道和與它們對應(yīng)的處理模塊)內(nèi)的離子發(fā)生器(ionizers)以最小化由于靜電而導(dǎo)致的損害。圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的緩沖單元的透視圖。圖5示出了圖4中的緩沖單元的前視圖。圖6示出了圖4中緩沖單元的平面圖。圖7示出了圖4中緩沖單元的首1J視圖。參考圖4到圖7，緩沖單元包括框架4100、具有翻轉(zhuǎn)功能的多個第一緩沖器4200、具有簡單緩沖功能的第二緩沖器4300和多個驅(qū)動部4400?？商峁﹥蓚€第一緩沖器和兩個第二緩沖器?？蚣?100包括底板4110、第一垂直板4120、第二垂直板4130，和兩個隔離蓋4140。第一垂直板4120和第二垂直板4130垂直于底板4110。第一垂直板4120和第二垂直板4130相互隔開。第一垂直板4120和第二垂直板4130之間的空間被稱為中心空間CA (光罩在該空間內(nèi)被儲存和翻轉(zhuǎn))。第一垂直板4120的右空間和第二垂直板4130的左空間各自被稱為驅(qū)動部空間DA。中心空間CA具有開口的前部分和開口的后部分，光罩通過所述開口的前部分和開口的后部分被放進或拿出。第一緩沖器4200和第二緩沖器4300在中心空間CA內(nèi)被排列成多級結(jié)構(gòu)。驅(qū)動部4400被設(shè)置在驅(qū)動部空間DA內(nèi)。驅(qū)動部空間DA被隔離蓋4140與外部環(huán)境隔離。底板4110包括進氣端口 4112以在驅(qū)動部空間DA內(nèi)形成排氣壓力(負(fù)壓)。即，驅(qū)動部空間DA被隔離蓋4140與外部環(huán)境隔離，并且通過進氣端口4112形成的排氣壓力(負(fù)壓)阻止空氣從驅(qū)動部空間DA向中心空間CA流動。第二緩沖器4300被設(shè)置在第一緩沖器4200的下方，并具有簡單的緩沖功能。第一緩沖器4200被可旋轉(zhuǎn)地安裝在第一和第二垂直板4120和4130上。每個第一緩沖器4200包括作為第一支撐件的固定支架4210和作為第二支撐件的夾持支架4220。固定支架4210面向夾持支架4220。夾持支架4220垂直移動以夾持放置在固定支架4210上的光罩M的邊緣。固定支架4210和夾持支架4220在平面圖中具有四方形框架形狀。參考圖4，固定支架4210包括在其邊緣的用于支撐光罩M的邊緣的支撐突起4212，夾持支架4220包括在其邊緣的用于支撐光罩M的邊緣的支撐突起4222。驅(qū)動部4400包括旋轉(zhuǎn)模塊4410和提升模塊4420。驅(qū)動部4400設(shè)置在驅(qū)動部空間DA內(nèi)以防止驅(qū)動部4400產(chǎn)生的微粒污染光罩。旋轉(zhuǎn)模塊4410包括兩個轉(zhuǎn)子(rotator) 4412和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部4414。轉(zhuǎn)子4412分別對應(yīng)于第一垂直板4120和第二垂直板4130。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部4414設(shè)置在第一垂直板4120上。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部4414包括發(fā)動機4416、皮帶4417和滑輪4418，用于翻轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)子4412經(jīng)過約180°。轉(zhuǎn)子4412具有帶有內(nèi)部通道的中空結(jié)構(gòu)。固定支架4210的兩端均固定在轉(zhuǎn)子4412上。提升模塊4420包括氣缸4422、連接塊4424，和直線運動(LM)引導(dǎo)件4426。氣缸4422在驅(qū)動部空間DA固定在轉(zhuǎn)子4412的外部。連接塊4424根據(jù)氣缸4422的驅(qū)動而垂直運動。LM引導(dǎo)件4426固定至轉(zhuǎn)子4412。LM引導(dǎo)件4426引導(dǎo)根據(jù)氣缸4422的驅(qū)動而垂直運動的連接塊4424。連接塊4424通過轉(zhuǎn)子4412的內(nèi)部通道連接到設(shè)置在中心空間CA內(nèi)的夾持支架4220上。 緩沖單元4000包括用于感測光罩M的不穩(wěn)定的放置的感測構(gòu)件9300。所述感測構(gòu)件9300設(shè)置在第一緩沖器4200和第二緩沖器4300的光罩裝載/卸載高度處。感測構(gòu)件9300被對角線設(shè)置以用于交叉檢驗。圖8A和8B示出了圖6中的感測構(gòu)件的平面圖和側(cè)視圖。參考圖8A和圖8B，感測構(gòu)件9300圍繞對應(yīng)的緩沖器設(shè)置。感測構(gòu)件9300可同時檢測光罩M的存在和光罩裝載失敗。感測構(gòu)件9300包括成對的光發(fā)射部9310和光接收部9320。光發(fā)射部9310發(fā)出激光束，且光接收部9320接收激光束。光發(fā)射部9310和光接收部9320設(shè)置為沿光罩M的對角線方向傳播激光束。即，激光束從光罩M的一側(cè)傾斜(inclined)。光發(fā)射部9310包括光發(fā)射傳感器9312和第一遮光板9316,所述光發(fā)射傳感器9312發(fā)出激光束，所述第一遮光板9316包括限制激光束的光束寬度的第一狹縫9314。從光發(fā)射部9310發(fā)出的激光束具有垂直的狹縫形狀的橫截面。光接收部9320包括第二遮光板9326和光接收傳感器9322，第二遮光板9326包括第二狹縫9324，從光發(fā)射部9310發(fā)出的激光束穿過所述第二狹縫9324，所述光接收傳感器9322設(shè)置在第二遮光板9326后方，并感測穿過第二狹縫9324射入的激光束的強度。激光束的高度hi高于光罩M的高度h2，并且激光束穿過光罩M的一部分。例如，光罩M可具有大約6. 35mm的高度(厚度),且激光束的高度hi可為大約10mm。在該情況下，穿過光罩M的激光束的一部分可具有大約5mm的高度以有效感測光罩M的存在和光罩裝載失敗。即，激光束的一半(5_的高度)可穿過光罩M。由于這部分激光束(穿過光罩M)是傾斜射入光罩M的側(cè)表面，那么這部分激光束在光罩內(nèi)折射，并因此不射入第二狹縫9324。因此，僅有越過光罩M的頂表面的一部分激光束，射入第二狹縫9324，使得感測的激光束強度降低。圖9到12示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例在第一緩沖器內(nèi)翻轉(zhuǎn)光罩的過程的剖視圖。參考圖9到圖12，光罩M被傳遞裝置(未示出)傳遞到作為翻轉(zhuǎn)緩沖部的緩沖單元4000的中心空間CA，并被裝載到固定支架4210上。然后，夾持支架4220被提升模塊4420向下移動以從光罩M的上側(cè)支撐所述光罩M。當(dāng)光罩M被固定支架4210和夾持支架4220固定時，第一緩沖器4200被旋轉(zhuǎn)模塊4410旋轉(zhuǎn)。在這之后，夾持支架4220被設(shè)置在較低偵牝固定支架4210被設(shè)置在較高側(cè)。夾持支架4220被提升模塊4220向下移動以釋放光罩M0然后，被夾持支架4220支持(held)的光罩M被移動到裝載/卸載位置。此時，以虛線示出的光罩M的旋轉(zhuǎn)軸被設(shè)置在光罩M的上方。即光罩M的旋轉(zhuǎn)軸從光罩M的放置位置(其裝載/卸載位置)的中心偏心，使得光罩M的初始裝載位置與光罩M翻轉(zhuǎn)后的卸載位置相同。圖13示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的僅包括多個第一緩沖器的緩沖單元的側(cè)視圖。圖14示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的包括第一緩沖器和第二緩沖器的緩沖單元的側(cè)視圖。參考圖13，緩沖單元4000可僅包括具有翻轉(zhuǎn)功能的第一緩沖器4200。參考圖14，緩沖單元4000可包括第一緩沖單元4200和第二緩沖單元4300?？商娲模缭趫D5的實施例中，第一緩沖器的數(shù)量可不同于第二緩沖器的數(shù)量。進一步的，第一緩沖器和第二緩沖器可改變它們的位置。 根據(jù)實施例，緩沖功能可與翻轉(zhuǎn)功能相結(jié)合。此外，光罩的污染可最小化。上述公開的主題被認(rèn)為是示例性而非限制性的，附加的權(quán)利要求意圖涵蓋所有落入本發(fā)明真實精神和范圍內(nèi)的此類變型、增強和其他實施例。這樣，以法律允許的最大限度，本發(fā)明的范圍由下面權(quán)利要求和它們的等同物的可允許的最廣義解釋來確定，而不應(yīng)受前述的細(xì)節(jié)描述約束和限制。
權(quán)利要求
1.一種緩沖單元，包括 框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔離； 第一緩沖器，在所述第一緩沖器上放置基板，所述第一緩沖器被允許在所述第一垂直板和所述第二垂直板之間翻轉(zhuǎn)；及 多個驅(qū)動部，所述多個驅(qū)動部設(shè)置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外側(cè)，并驅(qū)動所述第一緩沖器夾持和翻轉(zhuǎn)放置在所述第一緩沖器上的基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖單元，其中第一緩沖器包括 第一支撐件，所述第一支撐件支撐所述基板的一個表面；及 第二支撐件，所述第二支撐件面向所述第一支撐件，并支撐放置在所述第一支撐件上的所述基板的另一表面，并且所述驅(qū)動部包括 旋轉(zhuǎn)模塊，所述旋轉(zhuǎn)模塊同時旋轉(zhuǎn)所述第一支撐件和所述第二支撐件；及提升模塊，所述提升模塊垂直移動所述第二支撐件以使所述基板被所述第一和第二支撐件夾持。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的緩沖單元，其中所述旋轉(zhuǎn)模塊包括 多個轉(zhuǎn)子，所述多個轉(zhuǎn)子被可旋轉(zhuǎn)地安裝在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，且具有中空結(jié)構(gòu)； 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部用于旋轉(zhuǎn)所述轉(zhuǎn)子， 其中，所述提升模塊包括 固定在所述轉(zhuǎn)子上的氣缸；及 連接塊，所述連接塊根據(jù)所述氣缸的驅(qū)動而垂直運動，并且穿過所述轉(zhuǎn)子連接到所述第二支撐件。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3任一項所述的緩沖單元，其中所述框架還包括多個隔離蓋，所述隔離蓋覆蓋所述第一垂直板和所述第二垂直板的外表面，以將容納所述驅(qū)動部的驅(qū)動部空間與外部環(huán)境隔尚。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的緩沖單元，其中所述框架還包括進氣端口，所述進氣端口用于向由所述隔離蓋限定的所述驅(qū)動部空間提供排氣壓力。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的緩沖單元，其中所述第一緩沖器的旋轉(zhuǎn)軸從所述基板的夾持位置的中心偏心，以使所述基板的裝載位置與所述基板被翻轉(zhuǎn)后所述基板的卸載位置相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖單元，所述緩沖單元還包括第二緩沖器，所述第二緩沖器具有簡單的緩沖功能而不翻轉(zhuǎn)所述基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的緩沖單元，其中所述第二緩沖器安裝在所述第一垂直板和所述第二垂直板上，并被設(shè)置在所述第一緩沖器下方。
9.一種基板處理設(shè)備，包括 索引部，所述索引部包括索引機械手和端口，在所述端口上放置有容納基板的容器； 處理部，所述處理部設(shè)置為處理所述基板；和 緩沖單元，所述緩沖單元設(shè)置在所述索引部和所述處理部之間以翻轉(zhuǎn)所述基板，其中在索引部和處理部間傳遞的基板暫時停留在所述緩沖單元中。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理設(shè)備，其中所述緩沖單元包括 多個第一緩沖器，在所述多個第一緩沖器上放置基板； 多個驅(qū)動部，用于翻轉(zhuǎn)所述第一緩沖器 '及 包括中心空間和多個驅(qū)動部空間的框架，所述中心空間包括開口的前部分和開口的后部分，且所述多個驅(qū)動部空間設(shè)置在所述中心空間的兩側(cè)，其中，所述第一緩沖器設(shè)置在所述中心空間內(nèi)，所述驅(qū)動部設(shè)置在所述驅(qū)動部空間內(nèi)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理設(shè)備，其中所述框架包括 第一垂直板和第二垂直板，所述第一垂直板和第二垂直板面向彼此，且兩者之間相隔有所述中心空間； 隔離蓋，所述隔離蓋圍繞所述驅(qū)動部空間以將所述驅(qū)動部空間與外部環(huán)境隔離；及 進氣端口，所述進氣端口用于向所述驅(qū)動部空間提供排氣壓力。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理設(shè)備，其中所述第一緩沖器包括 第一支撐件，所述第一支撐件支撐基板的一個表面； 第二支撐件，所述第二支撐件面向所述第一支撐件，并支撐放置在所述第一支持件上的所述基板的另一表面，并且所述驅(qū)動部包括 旋轉(zhuǎn)模塊，所述旋轉(zhuǎn)模塊旋轉(zhuǎn)所述第一支撐件和所述第二支撐件；及提升模塊，所述提升模塊垂直移動所述第二支撐件，以使所述基板被所述第一支撐件和所述第二支撐件夾持。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理設(shè)備，其中所述第一緩沖器的旋轉(zhuǎn)軸從所述基板的夾持位置的中心偏心，以使所述基板的裝載位置與所述基板被翻轉(zhuǎn)后所述基板的卸載位置相同。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理設(shè)備，其中所述緩沖單元包括 第一緩沖器，所述第一緩沖器具有基板翻轉(zhuǎn)功能；及 第二緩沖器，所述第二緩沖器具有簡單的緩沖功能而不翻轉(zhuǎn)所述基板。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板處理設(shè)備，其中所述第二緩沖器設(shè)置在所述第一緩沖器下方。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理設(shè)備，其中多個所述第一緩沖器垂直排列。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理設(shè)備，其中所述處理部包括第一處理部和第二處理部，它們垂直排列，并且 所述第一處理部和所述第二處理部中的每個包括 傳送通道，所述傳送通道包括傳遞機械手；及 多個模塊，所述多個模塊設(shè)置在傳送通道一側(cè)部分上，并沿著所述傳送通道排列。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板處理設(shè)備，其中所述第一處理部包括去膠處理模塊和冷卻處理模塊，且 第二處理部包括熱處理模塊和功能水處理模塊。
19.一種基板處理方法，包括在上面放置有容器的端口和處理部之間設(shè)置緩沖單元，所述處理部配置為處理基板以使在所述容器和所述處理部之間傳遞的所述基板停留在所述緩沖單元中， 其中，所述基板在停留在所述緩沖單元期間被翻轉(zhuǎn)。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的基板處理方法，其中所述基板包括光罩，并且所述處理部清洗所述光罩。
21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的基板處理方法，其中所述緩沖單元包括具有翻轉(zhuǎn)功能的第一緩沖器，和不具有翻轉(zhuǎn)功能的第二緩沖器，且 設(shè)置在所述容器中的基板在所述第二緩沖器上等待，然后，被傳遞到所述第一緩沖器。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種緩沖單元，所述緩沖單元包括框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔離；第一緩沖器，在所述第一緩沖器上放置基板，所述第一緩沖器被允許在所述第一垂直板和所述第二垂直板之間翻轉(zhuǎn)；及多個驅(qū)動部，所述多個驅(qū)動部設(shè)置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外側(cè)，并驅(qū)動所述第一緩沖器夾持和翻轉(zhuǎn)放置在所述第一緩沖器上的基板。
文檔編號H01L21/67GK102810500SQ201210179529
公開日2012年12月5日 申請日期2012年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
發(fā)明者崔基熏, 姜秉萬, 姜丙喆, 張東赫 申請人:細(xì)美事有限公司