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一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝的制作方法

文檔序號(hào):7102707閱讀:370來源:國(guó)知局
專利名稱:一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體(集成電路)制造后道工序封裝工序中的粘晶工序。
背景技術(shù)
在電子和半導(dǎo)體器件制造的自動(dòng)生產(chǎn)過程中,其中粘晶工序中按要求拾取芯片并放置到指定位置,拾放精度直接影響到半導(dǎo)體器件的品質(zhì),拾放工作的速度決定生產(chǎn)效率的高低,芯片從晶圓盤分離的速度也影響著拾取速讀,當(dāng)前電子技術(shù)的更新,芯片的規(guī)格也不斷發(fā)生變化。原有的生產(chǎn)工藝完成一個(gè)基島上的雙芯片(或多芯片)采用兩臺(tái)封裝設(shè)備(或多臺(tái)封裝)依次完成,這樣造成了二次氧化。例如圖I所示,現(xiàn)有芯片A,B需要封裝到框架上的Y區(qū)域;傳統(tǒng)工藝,利用第一臺(tái) 封裝設(shè)備對(duì)A芯片進(jìn)行封裝,然后以用第二臺(tái)封裝設(shè)備對(duì)B片進(jìn)行封裝(C點(diǎn)不需要粘結(jié)芯片)。傳統(tǒng)工藝?yán)枚嗯_(tái)設(shè)備進(jìn)行封裝,重復(fù)加熱對(duì)芯片內(nèi)部電路有較大損傷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有不足問題,提供個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝在一臺(tái)設(shè)備上完成雙芯片或多芯片的綁定和焊料封裝工序,實(shí)現(xiàn)器件的高速、精確裝片。為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是采用一臺(tái)封裝設(shè)備上兩個(gè)綁定頭按如下步驟進(jìn)行封裝
第一步預(yù)熱雙芯片或多芯片分別放置在原材料框架上,原材料框架通過上料結(jié)構(gòu)相對(duì)運(yùn)行進(jìn)入軌道溫區(qū),對(duì)芯片進(jìn)行加熱;
弟~■步點(diǎn)雙錫點(diǎn)加熱后的芯片在設(shè)定坐標(biāo)內(nèi)移動(dòng),移動(dòng)到位后分別對(duì)各芯片點(diǎn)雙錫占.
第三步壓膜點(diǎn)雙錫點(diǎn)后的芯片,壓膜系統(tǒng)XY方向的伺服馬達(dá),根據(jù)人機(jī)交換界面,預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),實(shí)現(xiàn)芯片兩次壓膜,伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)移動(dòng)間距,實(shí)現(xiàn)兩點(diǎn)或多點(diǎn)間的移動(dòng),完成壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型;
第四步綁定芯片利用熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)軌道內(nèi)的溫度,并進(jìn)行給定溫度的補(bǔ)償來保持工藝溫度平穩(wěn)冷卻,冷卻到溫度300°C _350°C后,芯片成品收進(jìn)全自動(dòng)下料盒。所述加熱溫度380°C -430°C ;加熱時(shí)間18s_35s (根據(jù)不同的芯片、框架進(jìn)行溫度相應(yīng)的調(diào)整)。所述點(diǎn)雙錫點(diǎn)是通過供錫系統(tǒng)XY方向的伺服馬達(dá),根據(jù)人機(jī)交換界面,預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)點(diǎn)移動(dòng)間距,通過此實(shí)現(xiàn)兩點(diǎn)或者多點(diǎn)間的移動(dòng)進(jìn)行點(diǎn)雙錫點(diǎn)。所述點(diǎn)雙錫點(diǎn)移動(dòng)間距Y區(qū)域之內(nèi)。所述壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型移動(dòng)間距Y區(qū)域之內(nèi)。
所述綁定芯片是綁定頭結(jié)構(gòu)利用真空拾取晶圓上的芯片,運(yùn)送到A芯片或B芯片位置后綁定芯片,Y向電機(jī)運(yùn)動(dòng)至預(yù)先給定的位置,電磁閥破壞拾取真空,使芯片置于事先壓膜后的基島上。所述第四步綁定芯片冷卻是通過熱電偶檢測(cè)軌道的實(shí)際溫度,當(dāng)溫度低于設(shè)定溫度時(shí),通過加熱對(duì)溫度進(jìn)行補(bǔ)償,達(dá)到設(shè)定溫度。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單,在一臺(tái)封裝設(shè)備上采用兩個(gè)綁定頭進(jìn)行封裝,綁定頭運(yùn)動(dòng)方向相對(duì)運(yùn)行(如圖2中箭頭所示),一次封裝成型,這樣避免重復(fù)加熱,徹底改變?cè)械膬膳_(tái)設(shè)備經(jīng)過兩次裝片,兩次加熱,容易造成兩次氧化的工藝、應(yīng)力二次釋放等缺點(diǎn),大大降低了重復(fù)加熱對(duì)芯片的損傷,并且提高了芯片的加工效率。


圖I是傳統(tǒng)工藝示意圖.
圖2是本發(fā)明工藝示意圖。圖3是本發(fā)明裝片工藝示意圖。附圖標(biāo)識(shí)I-綁定頭二,2-框架,3_成品,4_綁定頭一,A-芯片,B-芯片,Y-區(qū)域。
具體實(shí)施例方式如圖2所示,采用一臺(tái)封裝設(shè)備上兩個(gè)綁定頭按如下步驟進(jìn)行封裝
第一步預(yù)熱如圖中芯片A和B可以為不同芯片或相同芯片,雙芯片或多芯片分別放置在原材料框架2上,原材料框架通過上料結(jié)構(gòu)相對(duì)運(yùn)行進(jìn)入軌道溫區(qū),對(duì)芯片進(jìn)行加熱,力口熱溫度380°C -430°C ;加熱時(shí)間18s-35s (根據(jù)不同的芯片、框架進(jìn)行溫度相應(yīng)的調(diào)整);
弟~■步點(diǎn)雙錫點(diǎn)加熱后的芯片在設(shè)定坐標(biāo)內(nèi)移動(dòng),點(diǎn)雙錫點(diǎn)移動(dòng)間距Y區(qū)域之內(nèi),通過供錫系統(tǒng)XY方向的伺服馬達(dá),根據(jù)人機(jī)交換界面,預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)點(diǎn)移動(dòng)間距,通過此實(shí)現(xiàn)兩點(diǎn)或者多點(diǎn)間的移動(dòng)進(jìn)行點(diǎn)雙錫點(diǎn),移動(dòng)到位后分別對(duì)各芯片點(diǎn)雙錫點(diǎn);所述點(diǎn)雙錫點(diǎn)是。第三步壓膜點(diǎn)雙錫點(diǎn)后的芯片,壓膜系統(tǒng)XY方向(常規(guī)的XY方向)的伺服馬達(dá),根據(jù)人機(jī)交換界面,預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),實(shí)現(xiàn)芯片兩次壓膜,伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)移動(dòng)間距,實(shí)現(xiàn)兩點(diǎn)或多點(diǎn)間的移動(dòng),完成壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型,壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型移動(dòng)間距Y區(qū)域之內(nèi);
第四步綁定芯片綁定芯片是綁定頭二 I和綁定頭一4利用真空拾取晶圓上的芯片,運(yùn)送到A芯片或B芯片位置后綁定芯片,Y向電機(jī)運(yùn)動(dòng)至預(yù)先給定的位置,電磁閥破壞拾取真空,使芯片置于事先壓膜后的基島上,利用熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)軌道內(nèi)的溫度,并進(jìn)行給定溫度的補(bǔ)償來保持工藝溫度平穩(wěn)冷卻,冷卻到溫度300°C _350°C后(通過熱電偶檢測(cè)軌道的實(shí)際溫度,當(dāng)溫度低于設(shè)定溫度時(shí),通過加熱對(duì)溫度進(jìn)行補(bǔ)償,達(dá)到設(shè)定溫度),芯片成品3收進(jìn)全自動(dòng)下料盒。
權(quán)利要求
1.一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是采用一臺(tái)封裝設(shè)備上兩個(gè)綁定頭按如下步驟進(jìn)行封裝第一步預(yù)熱雙芯片或多芯片分別放置在原材料框架上,原材料框架通過上料結(jié)構(gòu)相對(duì)運(yùn)行進(jìn)入軌道溫區(qū),對(duì)芯片進(jìn)行加熱;弟一步點(diǎn)雙錫點(diǎn)加熱后的芯片在設(shè)定坐標(biāo)內(nèi)移動(dòng),移動(dòng)到位后分別對(duì)各芯片點(diǎn)雙錫占.第三步壓膜點(diǎn)雙錫點(diǎn)后的芯片,壓膜系統(tǒng)XY方向的伺服馬達(dá),根據(jù)人機(jī)交換界面,預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),實(shí)現(xiàn)芯片兩次壓膜,伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)移動(dòng)間距,實(shí)現(xiàn)兩點(diǎn)或多點(diǎn)間的移動(dòng),完成壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型;第四步綁定芯片利用熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)軌道內(nèi)的溫度,并進(jìn)行給定溫度的補(bǔ)償來保持工藝溫度平穩(wěn)冷卻,冷卻到溫度300°c -350°c后,芯片成品收進(jìn)全自動(dòng)下料盒。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是所述加熱溫度380°C -430°C ;加熱時(shí)間18s-35s。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是所述點(diǎn)雙錫點(diǎn)是通過供錫系統(tǒng)XY方向的伺服馬達(dá),根據(jù)人機(jī)交換界面,預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)點(diǎn)移動(dòng)間距,通過此實(shí)現(xiàn)兩點(diǎn)或者多點(diǎn)間的移動(dòng)進(jìn)行點(diǎn)雙錫點(diǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是所述點(diǎn)雙錫點(diǎn)移動(dòng)間距Y區(qū)域之內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是所述壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型移動(dòng)間距Y區(qū)域之內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是所述綁定芯片是綁定頭結(jié)構(gòu)利用真空拾取晶圓上的芯片,運(yùn)送到A芯片或B芯片位置后綁定芯片,Y向電機(jī)運(yùn)動(dòng)至預(yù)先給定的位置,電磁閥破壞拾取真空,使芯片置于事先壓膜后的基島上。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,其特征是所述第四步綁定芯片冷卻是通過熱電偶檢測(cè)軌道的實(shí)際溫度,當(dāng)溫度低于設(shè)定溫度時(shí),通過加熱對(duì)溫度進(jìn)行補(bǔ)償,達(dá)到設(shè)定溫度。
全文摘要
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體(集成電路)制造后道工序——封裝工序中的粘晶工序。一個(gè)基島上同一工位的雙芯片或多芯片的封裝工藝,采用一臺(tái)封裝設(shè)備上兩個(gè)綁定頭按如下步驟進(jìn)行封裝第一步預(yù)熱雙芯片或多芯片分別進(jìn)行加熱;第二步點(diǎn)雙錫點(diǎn)加熱后的芯片在設(shè)定坐標(biāo)內(nèi)移動(dòng),移動(dòng)到位后分別對(duì)各芯片點(diǎn)雙錫點(diǎn);第三步壓膜預(yù)先設(shè)計(jì)XY方向點(diǎn)坐標(biāo),實(shí)現(xiàn)芯片兩次壓膜,伺服馬達(dá)向XY方向設(shè)定的坐標(biāo)移動(dòng)間距,完成壓膜雙點(diǎn)成型或單點(diǎn)成型;第四步綁定芯片冷卻到溫度300℃-350℃后,芯片成品收進(jìn)全自動(dòng)下料盒。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單,一次封裝成型,大大降低了重復(fù)加熱對(duì)芯片的損傷,并且提高了芯片的加工效率。
文檔編號(hào)H01L21/603GK102709205SQ20121021910
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2012年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月29日
發(fā)明者伊亞輝, 李巖, 王云峰, 王賓 申請(qǐng)人:大連佳峰電子有限公司
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