專利名稱：掩膜板、制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言涉及一種掩膜板、制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法。
背景技術(shù)：
有機發(fā)光顯示面板(Organic Light-Emitting Diode, 0LED)是一種自主發(fā)光的顯示面板，其具備結(jié)構(gòu)簡單、省電等特性。目前，制備有機發(fā)光顯示面板的過程中，掩膜板(Shadow Mask)是其中不可缺少的 一個輔助元件，圖I是現(xiàn)有技術(shù)中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是圖I所示掩膜板的開口區(qū)的示意圖。參閱圖I和圖2，掩膜板100包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)110，每一開口區(qū)110呈圓角矩形，且相鄰的兩個圓角R之間的區(qū)域為成膜不保證區(qū)120。在使用掩膜板100蒸鍍形成有機發(fā)光顯示面板的有機發(fā)光層時，由于蒸鍍源與不同位置的開口區(qū)110具有的角度差異，極易使得蒸鍍源提供的有機發(fā)光材料在對應成膜不保證區(qū)120處的成膜填充率不足，從而導致有機發(fā)光顯示面板的有機發(fā)光層的每一發(fā)光區(qū)在對應成膜不保證區(qū)120處形成高度Hl為15微米以上的成膜無效區(qū)，進而降低有機發(fā)光顯示面板的開口率。綜上所述，有必要提供一種掩膜板、制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種掩膜板、制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法，以降低成膜無效區(qū)的面積，提高有機發(fā)光顯示面板的開口率。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是提供一種掩膜板，包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)，每一開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，第二開口區(qū)與第一開口區(qū)連通。其中，第二開口區(qū)是與第一開口區(qū)連通的側(cè)翼，側(cè)翼設置的寬度沿著遠離第一開口區(qū)的方向逐漸減小。其中，第二開口區(qū)采用蝕刻或電鑄工藝成型，且與第一開口區(qū)一體成型。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是提供一種制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置，包括掩膜板，包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)，且每一開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，第二開口區(qū)與第一開口區(qū)連通；蒸鍍源，間隔設置于掩膜板遠離基板的一側(cè)，用于為基板提供有機發(fā)光材料，以形成有機發(fā)光層；以及加熱裝置，用于加熱蒸鍍源。其中，蒸鍍裝置設置于真空且密閉的空間內(nèi)。其中，第二開口區(qū)是與第一開口區(qū)連通的側(cè)翼，側(cè)翼設置的寬度沿著遠離第一開口區(qū)的方向逐漸減小。
其中，第二開口區(qū)采用蝕刻或電鑄工藝成型，且與第一開口區(qū)一體成型。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的又一個技術(shù)方案是提供一種制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法，包括提供一掩膜板，掩膜板包括呈陣列分布的多個開口區(qū)，且每一開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，第二開口區(qū)與第一開口區(qū)連通；提供一基板，與掩膜板相鄰貼合設置；在真空且密閉的空間內(nèi)，通過掩膜板的開口區(qū)向基板提供有機發(fā)光材料形成有機發(fā)光層，有機發(fā)光材料由設置于掩膜板遠離基板一側(cè)的蒸鍍源提供。其中，第二開口區(qū)采用蝕刻或電鑄工藝成型。其中，第二開口區(qū)與第一開口區(qū)一體成型。本發(fā)明的有益效果是區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明通過在掩膜板的矩形第一開口區(qū)的側(cè)翼設置第二開口區(qū)，將成膜不保證區(qū)的圓角對成膜填充率的影響轉(zhuǎn)移到第二開口區(qū)， 提高了第一開口區(qū)在蒸鍍成膜時的成膜填充率，從而降低了成膜無效區(qū)的面積，進而提高了有機發(fā)光顯示面板的開口率。


圖I是現(xiàn)有技術(shù)中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖I所示掩膜板的開口區(qū)的示意圖；圖3是本發(fā)明掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是圖3所示掩膜板的開口區(qū)的示意圖；圖5是本發(fā)明制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本發(fā)明制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法的流程圖；圖7是本發(fā)明制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法的實施效果示意圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進行詳細說明。圖3是本發(fā)明掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖，圖4是圖3所示掩膜板的開口區(qū)的示意圖。參閱圖3和圖4，掩膜板300包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)310。其中，每一開口區(qū)310包括第一開口區(qū)311和第二開口區(qū)312。第一開口區(qū)311呈矩形設置，第二開口區(qū)312設置于第一開口區(qū)311的四個角，即第二開口區(qū)312構(gòu)成與第一開口區(qū)311連通的側(cè)翼，并且每一第二開口區(qū)312設置的寬度沿著遠離第一開口區(qū)311的方向逐漸減小。在本實施例中，第二開口區(qū)312與第一開口區(qū)311 —體成型，且采用蝕刻或電鑄工藝成型?；诖?，掩膜板300的材質(zhì)可以為任何合適的材料，并以具有高結(jié)構(gòu)強度或低膨脹系數(shù)的磁性材料為佳，舉例而言，掩膜板300的材質(zhì)可以為各式金屬或合金，例如為鐵鎳合金(Invar)ο圖5是采用圖3所示掩膜板300的蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖5所示，蒸鍍裝置600包括掩膜板300、蒸鍍源620以及加熱裝置630。蒸鍍裝置600用于對放置于掩膜板300上的基板640進行蒸鍍處理,其中，加熱裝置630用于加熱蒸鍍源620，蒸鍍源620與掩膜板300平行間隔設置，用于在達到一定溫度后為基板640提供有機發(fā)光材料，以在基板640上形成有機發(fā)光顯不面板的有機發(fā)光層。需要說明的是，蒸鍍裝置600在蒸鍍成膜時，必須設置于真空密閉的空間內(nèi)。圖6是采用圖5所示蒸鍍裝置600制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法的流程圖。如圖6所示，本發(fā)明制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法包括以下步驟步驟S 101 :提供一掩膜板，掩膜板包括呈陣列分布的多個開口區(qū)，且每一開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，第二開口區(qū)與第一開口區(qū)連通。步驟S102 :提供一基板，與掩膜板相鄰設置。步驟S103 :在真空且密閉的空間內(nèi)，通過掩膜板的開口區(qū)向基板提供有機發(fā)光材料以形成有機發(fā)光層，其中，有機發(fā)光材料由設置于掩膜板遠離基板一側(cè)的蒸鍍源提供。
下面結(jié)合圖5和圖6，詳細說明采用圖3所示的掩膜板300制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍過程首先，將蒸鍍源620設置于一真空且密閉的空間內(nèi)，且相鄰于加熱裝置630。然后，開啟加熱裝置630對蒸鍍源620進行加熱，通過蒸發(fā)除去蒸鍍源620表面的雜質(zhì)。值得注意的是，在加熱過程中，控制加熱除雜的溫度低于蒸鍍所需的溫度，以避免因溫度過高使蒸鍍源620過度蒸發(fā)造成浪費。將除雜之后的蒸鍍源620移至另一真空密閉的空間內(nèi)，例如蒸鍍室。使用加熱裝置630在高溫狀態(tài)下對蒸鍍源620進行持續(xù)性加熱，蒸鍍源620在達到一定溫度后蒸發(fā)出有機發(fā)光材料粒子，一部分的有機發(fā)光材料粒子穿過掩膜板300的開口區(qū)310，并在接觸到溫度較低的基板640后以結(jié)晶狀態(tài)沉積，另一部分的有機發(fā)光材料粒子在接觸到溫度較低的掩膜板300后以結(jié)晶狀態(tài)沉積。綜上所述，本發(fā)明通過改變掩膜板300的開口設計，對于每一開口區(qū)310，在矩形第一開口區(qū)311的兩側(cè)設置第二開口區(qū)312，將成膜不保證區(qū)320的兩個圓角Rl設置在第二開口區(qū)312，使得有機發(fā)光材料粒子穿過第一開口區(qū)311在基板640上沉積時，不會形成圖2所示的圓角R，由此提高了開口區(qū)310在蒸鍍成膜時的成膜填充率，降低成膜無效區(qū)的面積。圖7是本發(fā)明制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法的實施效果示意圖。如圖7所示，本發(fā)明能夠使成膜無效區(qū)從現(xiàn)有技術(shù)的大于15微米降低至5 10微米(如H2所示)，進而提高了有機發(fā)光顯示面板的開口率。需要說明的是，第二開口區(qū)312的形狀并不限定于圖4所示的實施例，只要能夠降低成膜無效區(qū)的面積，提高有機發(fā)光顯示面板的開口率即可。以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種掩膜板,其特征在于，所述掩膜板包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)，其中，每一所述開口區(qū)包括 呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于所述第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，所述第二開口區(qū)與所述第一開口區(qū)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的掩膜板，其特征在于，所述第二開口區(qū)是與所述第一開口區(qū)連通的側(cè)翼，所述側(cè)翼設置的寬度沿著遠離所述第一開口區(qū)的方向逐漸減小。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第二開口區(qū)采用蝕刻或電鑄工藝成型，且與所述第一開口區(qū)一體成型。
4.一種制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括 掩膜板，包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)，且每一所述開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于所述第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，所述第二開口區(qū)與所述第一開口區(qū)連通； 蒸鍍源，間隔設置于所述掩膜板的一側(cè)，用于提供有機發(fā)光材料，以形成有機發(fā)光層；以及 加熱裝置，用于加熱所述蒸鍍源。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置設置于真空且密閉的空間內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第二開口區(qū)是與所述第一開口區(qū)連通的側(cè)翼，所述側(cè)翼設置的寬度沿著遠離所述第一開口區(qū)的方向逐漸減小。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第二開口區(qū)采用蝕刻或電鑄工藝成型，且與所述第一開口區(qū)一體成型。
8.—種制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍方法，其特征在于，所述蒸鍍方法包括 提供一掩膜板，所述掩膜板包括呈陣列分布的多個開口區(qū)，且每一所述開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于所述第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，所述第二開口區(qū)與所述第一開口區(qū)連通； 提供一基板，與所述掩膜板相鄰設置； 在真空且密閉的空間內(nèi)，通過所述掩膜板的所述開口區(qū)向所述基板提供有機發(fā)光材料形成有機發(fā)光層，所述有機發(fā)光材料由設置于所述掩膜板遠離所述基板一側(cè)的蒸鍍源提供。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述第二開口區(qū)采用蝕刻或電鑄工藝成型。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述第二開口區(qū)與所述第一開口區(qū)一體成型。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種掩膜板、制造有機發(fā)光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法。該掩膜板包括呈陣列狀分布的多個開口區(qū)，其中，每一開口區(qū)包括呈矩形設置的第一開口區(qū)以及設置于第一開口區(qū)的四個角的第二開口區(qū)，第二開口區(qū)與第一開口區(qū)連通。本發(fā)明通過改變掩膜板的開口區(qū)設計，能夠降低開口區(qū)的成膜無效區(qū)的面積，從而提高有機發(fā)光顯示面板的開口率。
文檔編號H01L51/56GK102899609SQ20121039528
公開日2013年1月30日 申請日期2012年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月17日
發(fā)明者吳泰必, 吳元均 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司