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一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液的制作方法

文檔序號:7130948閱讀:676來源:國知局
專利名稱:一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液的制作方法
技術領域
本發(fā)明屬于太陽能電池技術領域,具體涉及一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液。
背景技術
硅材料在晶體硅太陽電池的成本中占有很大比例,為了減少硅材料的用量,硅片厚度越來越薄。硅片變薄,除了要考慮生產(chǎn)中的碎片率,燒結后的彎曲度,還要關注電池的長波響應特性。目前,晶體硅太陽能電池背面一般由摻鋁背場層、鋁硅合金層鋁漿燒結層組成。鋁硅合金層與硅體結合緊密,兩者的界面對光產(chǎn)生反射作用。硅片制絨以后會進行刻蝕,刻蝕所用的拋光液就顯得尤為重要。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液。本發(fā)明的目的可以通過以下技術方案實現(xiàn)
一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液,其特征在于該拋光液由以下重量份的組分組成
硝酸10-48份
氫氟酸15-40份
醋酸2-25份
該拋光液由以下重量份的組分組成
硝酸30份
氫氟酸25份
醋酸15份
甘油10份
還包括添加劑亞硝酸鉀,所述的亞硝酸鉀重量份為2-7份。本發(fā)明的有益效果本發(fā)明制備的晶體硅片濕法刻蝕用拋光液組成簡單,拋光效果好,不損害硅片。
具體實施例方式下面結合具體實施例對本發(fā)明作進一步說明。實施例1
取重量份數(shù)的各組分,硝酸30份、氫氟酸25份、醋酸15份、甘油10份和亞硝酸鉀5份。本發(fā)明拋光液的制備步驟(1)將氫氟酸緩慢加入到硫酸中,邊混合邊攪拌;(2)待步驟(I)的混合液冷卻后加入醋酸,攪拌均勻;(3)向步驟(2)的混合液中加入添加劑亞硝酸鉀,充分攪拌,即得到本發(fā)明的拋光液。實施例2取重量份數(shù)的各組分,硝酸10份、氫氟酸15份、醋酸2份、甘油7份和亞硝酸鉀7份。本發(fā)明拋光液的制備步驟(1)將氫氟酸緩慢加入到硫酸中,邊混合邊攪拌;(2)待步驟(I)的混合液冷卻后加入醋酸,攪拌均勻;(3)向步驟(2)的混合液中加入添加劑亞硝酸鉀,充分攪拌,即得到本發(fā)明的拋光液。實施例3
取重量份數(shù)的各組分,硝酸48份、氫氟酸40份、醋酸25份、甘油15份和亞硝酸鉀2份。本發(fā)明拋光液的制備步驟(1)將氫氟酸緩慢加入到硫酸中,邊混合邊攪拌;(2)待步驟(I)的混合液冷卻后加入醋酸,攪拌均勻;(3)向步驟(2)的混合液中加入添加劑亞硝酸鉀,充分攪拌,即得到本發(fā)明的拋光液?!?br> 權利要求
1.一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液,其特征在于該拋光液由以下重量份的組分組成 硝酸10-48份 氫氟酸15-40份 醋酸2-25份 甘油7-15份。
2.根據(jù)權利要求1所述的晶體硅片濕法刻蝕用拋光液,其特征在于該拋光液由以下重量份的組分組成 硝酸30份 氫氟酸25份 醋酸15份 甘油10份。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的晶體硅片濕法刻蝕用拋光液,其特征在于還包括添加劑亞硝酸鉀,所述的亞硝酸鉀重量份為2-7份。
全文摘要
本發(fā)明公開一種晶體硅片濕法刻蝕用拋光液,其特征在于該拋光液由以下重量份的組分組成硝酸10-48份、氫氟酸15-40份、醋酸2-25份、甘油7-15份。本發(fā)明制備的晶體硅片濕法刻蝕用拋光液組成簡單,拋光效果好,不損害硅片。
文檔編號H01L21/306GK103000510SQ20121040171
公開日2013年3月27日 申請日期2012年10月22日 優(yōu)先權日2012年10月22日
發(fā)明者張晨, 張森林 申請人:江蘇晨電太陽能光電科技有限公司
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