清潔組合物及清洗方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種清潔組合物，此清潔組合物包括至少一多胺多羧酸或其鹽類、至少一溶劑、至少一經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯乙胺以及水。其中，溶劑選自由二醇類所構(gòu)成的族群。
【專利說明】清潔組合物及清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是有關(guān)于一種清潔組合物及清洗方法，且特別是有關(guān)于一種用于半導(dǎo)體處理的清潔組合物及清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在超大規(guī)模集成電路(VLSI)處理中，化學(xué)機(jī)械研磨(chemicalmechanicalpolishing, CMP)處理可提供晶片表面全面性的平坦化(globalplanarization),尤其當(dāng)半導(dǎo)體處理進(jìn)入亞微型(sub-micron)領(lǐng)域后,化學(xué)機(jī)械研磨法更是一項不可或缺的處理技術(shù)。
[0003]在CMP處理的所有衡量效能的項目中，缺陷存在與否成為重要項目之一?；瘜W(xué)機(jī)械研磨處理中的缺陷包括有機(jī)殘留物、小顆粒、微刮痕及腐蝕等。舉例而言，若在清洗步驟時，無法將因研磨后而在研磨墊或晶片上產(chǎn)生的殘留物或污痕等污染物清洗干凈，將會使得研磨墊的效能降低，進(jìn)而影響到膜層移除率的均一性，且也會影響元件的電性效能。
[0004]在現(xiàn)有技術(shù)中，使用具有例如氫氧化四甲基氫銨(TMAH)的清洗液，以達(dá)到去除晶片表面的污染物的效果。然而，氫氧化四甲基氫銨具有毒性，在操作上存在危險性。因此，亟需一種可有效清除晶片表面殘留污染物，且能維持晶片表面的平坦度并具操作安全性的清洗液。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種清潔組合物及清洗方法。
[0006]本發(fā)明提供一種清潔組合物，其具有好的濕潤能力及清洗效率。
[0007]本發(fā)明提供一種清洗方法，可使進(jìn)行清洗的晶片具有好的表面輪廓。
[0008]本發(fā)明提供一種清潔組合物，此清潔組合物包括至少一多胺多羧酸或其鹽類、至少一溶劑、至少一經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯乙胺以及水。其中，溶劑選自由二醇類所構(gòu)成的族群。
[0009]在本發(fā)明的一實施例中，上述的多胺多羧酸例如是三胺五乙酸(triaminepentaacetic acid)。
[0010]在本發(fā)明的一實施例中，上述的三胺五乙酸例如是選自由乙三胺五乙酸(ethylene triamine pentaacetic acid)、二乙烯三胺五乙酸(diethy Ienetriaminepentaacetic acid)及三乙烯三胺五乙酸(triethylene triaminepentaacetic acid)所構(gòu)成的族群。
[0011]在本發(fā)明的一實施例中，上述的多胺多羧酸的鹽類例如是選自由堿金屬鹽、堿土金屬鹽及銨鹽所構(gòu)成的族群。
[0012]在本發(fā)明的一實施例中，上述多胺多羧酸或其鹽類的含量相對于清潔組合物的總重例如是0.001重量％至10重量％。
[0013]在本發(fā)明的一實施例中，上述的溶劑例如是選自由2-甲氧基乙醇(2-methoxyethanol)、2_ 乙氧基乙醇(2-ethoxyethanol)、2_ 丙氧基乙醇(2-propoxyethanol)、2_ 異丙氧基乙醇(2-1sopropoxyethanol)、2_ 丁氧基乙醇(2-butoxyethanol)、2_ 苯氧基乙醇(2-phenoxyethanol)、2_(2_ 甲氧基乙氧基)乙醇(2-(2_methoxyethoxy) ethanol)、2_(2_ 乙氧基乙氧基)乙醇(2- (2-ethoxyethoxy)ethanol)、2_ (2_ 丁氧基乙氧基)乙醇(2_ (2-butoxyethoxy) ethanol)、2_ 異丁氧基乙醇(2-1sobutoxyethanol)、1，2_ 丙二 醇(1，2-propylene glycol)、1，3-丙二 醇(I，3-propylene glycol)、二乙二酉享(diethylene glycol)、三乙二酉享(triethyleneglycol)、1，4- 丁二醇(1，4-butanediol)、1，5-戊二醇(1，5-pentanediol)、1，6-己二醇(1，6-hexanediol)、1，7_ 庚二醇(1，7-heptanediol)、2，3-二甲基 _2，3-丁二醇(2，
3-dimethyl-2，3-butanediol)及其衍生物所構(gòu)成的族群。
[0014]在本發(fā)明的一實施例中，上述溶劑的含量相對于清潔組合物的總重例如是0.001
重量％至10重量％。
[0015]在本發(fā)明的一實施例中，上述經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯乙胺包括由一般式(I)表示的化合物，其:
[0016]
【權(quán)利要求】
1.一種清潔組合物，其特征在于，包括: 至少一多胺多羧酸或其鹽類； 至少一溶劑，該溶劑選自由二醇類所構(gòu)成的族群； 至少一經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯乙胺；以及 水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該多胺多羧酸為一三胺五乙酸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔組合物，其特征在于，該三胺五乙酸為選自由乙三胺五乙酸、二乙烯三胺五乙酸及三乙烯三胺五乙酸所構(gòu)成的族群。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該多胺多羧酸的鹽類為選自由堿金屬鹽、堿土金屬鹽及銨鹽所構(gòu)成的族群。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該多胺多羧酸或其鹽類的含量相對于該清潔組合物的總重為0.0Ol重量％至10重量％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該溶劑為選自由2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2_丙氧基乙醇、2_異丙氧基乙醇、2_ 丁氧基乙醇、2_苯氧基乙醇、2_ (2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇、2-異丁氧基乙醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、二乙二醇、三乙二醇、1，4-丁二醇、1，5-戊二醇、1，6-己二醇、1，7-庚二醇、2，3- 二甲基-2，3- 丁二醇及其衍生物所構(gòu)成的族群。`
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該溶劑的含量相對于該清潔組合物的總重為0.001重量％至10重量％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯乙胺包括由一般式⑴表示的化合物: ιψν"-般式⑴ 其中R2、R3、R4、R5、R°、Re及Rn各自獨立為氫原子、羥基、烷基或羥烷基。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯乙胺的含量相對于該清潔組合物的總重為0.001重量％至10重量％。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該水的含量相對于該清潔組合物的總重為70重量％至99.997重量％。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組合物，其特征在于，該清潔組合物的酸堿值為8至12。
12.一種清洗方法，其特征在于，包括: 使用權(quán)利要求1~10中任一項所述的清潔組合物對一晶片進(jìn)行清洗。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的清潔組合物，其特征在于，還包括對進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨后的該晶片進(jìn)行清洗。
【文檔編號】H01L21/02GK103725455SQ201210527533
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2012年12月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月16日
【發(fā)明者】傅育棋, 蔡文財, 陸明輝, 張松源 申請人:盟智科技股份有限公司