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一種基板處理系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:7111935閱讀:122來源:國知局
專利名稱:一種基板處理系統(tǒng)的制作方法
技術領域
本實用新型涉及基板處理技術領域,特別涉及ー種基板處理系統(tǒng)。
背景技術
現(xiàn)有基板處理系統(tǒng)在進行基板處理的過程中,基板都是由基板傳送設備傳送的,通常,整個基板處理過程中會有ー個或多個基板傳送設備完成基板的傳送操作,所有基板傳送設備都是完全相同的,每個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置都是相同的,這就容易使得基板的同一位置與基板傳送設備接觸頻繁,易出現(xiàn)基板劃傷。而且當出現(xiàn)基板劃傷時,由于每個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置都相同,又使得不容易查明是哪個基板傳送設備劃傷基板的,難以查明基板劃傷的原因,無法有效避免 再次劃傷基板。

實用新型內(nèi)容本實用新型實施例提供了ー種基板處理系統(tǒng),用以解決現(xiàn)有基板處理系統(tǒng)在整個基板處理過程中容易出現(xiàn)基板劃傷,并且難以查明基板劃傷原因的問題。本實用新型實施例提供了ー種基板處理系統(tǒng),包括至少兩個基板傳送設備;所述至少兩個基板傳送設備中任ー個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置為第一位置,其余任ー個基板傳送設備的基板支撐部件在所述基板上的接觸位置為第二位置,所述第一位置與所述第二位置不相同。其中,優(yōu)選地,所述的基板處理系統(tǒng),還可包括用于對所述基板進行操作的處理設備,與所述至少兩個基板傳送設備中的至少ー個基板傳送設備連接。其中,優(yōu)選地,所述處理設備可具體為用于對所述基板進行エ藝處理的エ藝設備;或者用于對所述基板進行檢測的檢測設備。其中,優(yōu)選地,所述至少兩個基板傳送設備為至少兩個基板傳送帯。其中,優(yōu)選地,所述至少兩個基板傳送帶中的任ー個基板傳送帶具有第一傳送橫桿和套設于所述第一傳送橫桿上的多個第一傳送輪,其余任ー個基板傳送帶具有第二傳送橫桿和套設于所述第二傳送橫桿上的多個第二傳送輪,所述第一傳送橫桿與所述第二傳送橫桿的長度相同;所述多個第一傳送輪中的任ー個第一傳送輪到所述第一傳送橫桿的中心點的距離為第一距離,所述多個第二傳送輪中的任ー個第二傳送輪到所述第二傳送橫桿的中心點的距離為第二距離,所述第一距離與所述第二距離不相同。本實用新型實施例提供的上述基板處理系統(tǒng)處理基板的過程中,基板與每個基板傳送設備的接觸位置互不相同,不會像現(xiàn)有技術那樣出現(xiàn)在整個基板處理過程中始終是基板上的同一位置與每個基板傳送設備接觸的現(xiàn)象,不易劃傷基板;進ー步地,當基板出現(xiàn)劃傷吋,能依據(jù)基板的劃傷位置和各基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置查找出劃傷基板的是哪個基板傳送設備,查明劃傷原因斗匕如基板的劃傷位置正好是ー個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置,則說明是該基板傳送設備劃傷了基板,通過對該基板傳送設備檢測可獲知劃傷原因,消除產(chǎn)生劃傷的原因便可有效避免基板的再次劃傷;更進一歩地,每個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置互不相同,相當于增大了整個基板處理過程中基板與基板傳送設備的總接觸面積,從而降低了基板彎曲的發(fā)生概率,降低了基板的不良率。

圖I為本實用新型實施例中ー種基板處理系統(tǒng)的結構示意圖;圖2為本實用新型實施例中另一種基板處通系統(tǒng)的結構不意圖;圖3為本實用新型實施例中再ー種基板處理系統(tǒng)的結構示意圖。
具體實施方式
為使本實用新型實施例要解決的技術問題、技術方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。本實用新型實施例提供了ー種基板處理系統(tǒng),包括至少兩個基板傳送設備;上述至少兩個基板傳送設備中任ー個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置為第一位置,其余任ー個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置為第二位置;第一位置與第二位置不相同。也就是說,上述至少兩個基板傳送設備中每個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置都互不相同。以三個基板傳送設備為例,如圖I所示,一基板處理系統(tǒng)包括三個基板傳送設備基板傳送設備I、基板傳送設備2和基板傳送設備3 ;其中,基板傳送設備I的基板支撐部件10(表示為無填充色的圓圈)在基板4上的接觸位置為基板支撐部件10在基板4上的投影位置(即無填充色的圓圈所占位置);基板傳送設備2的基板支撐部件20 (表示為填充有黒色的圓圈)在基板4上的接觸位置為基板支撐部件20在基板4上的投影位置(即填充有黒色的圓圈所占位置);基板傳送設備3的基板支撐部件30 (表示為填充有斜線的圓圈)在基板4上的接觸位置為基板支撐部件30在基板4上的投影位置(即填充有斜線的圓圈所占位置);上述三個接觸位置互不相同。上述接觸位置除圖I所示可橫向均勻排布外,也可以是不規(guī)則排布,如排布形狀圍成三角形、四邊形、多邊形等不規(guī)則圖形,只要保證不同的基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置互不相同即可。本實用新型實施例提供的上述基板處理系統(tǒng)處理基板的過程中,基板與每個基板傳送設備的接觸位置互不相同,不會像現(xiàn)有技術那樣出現(xiàn)在整個基板處理過程中始終是基板上的同一位置與每個基板傳送設備接觸的現(xiàn)象,不易劃傷基板;[0029]進ー步地,當基板出現(xiàn)劃傷吋,能依據(jù)基板的劃傷位置和各基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置查找出劃傷基板的是哪個基板傳送設備,查明劃傷原因斗匕如基板的劃傷位置是正好是ー個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置,則說明是該基板傳送設備劃傷了基板,通過對該基板傳送設備檢測可獲知劃傷原因,消除產(chǎn)生劃傷的原因便可有效避免基板的再次劃傷;更進一歩地,每個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置互不相同,相當于增大了整個基板處理過程中基板與基板傳送設備的總接觸面積,從而降低了基板彎曲的發(fā)生概率,降低了基板的不良率。其中,優(yōu)選地,上述至少兩個基板傳送設備可具體實施為至少兩個基板傳送帶?;鍌魉蛶ǔ>哂卸鄠€相互平行的傳送橫桿,每個傳送橫桿上套設有多個傳送輪,基板放置在傳送輪上,在驅(qū)動裝置的驅(qū)動下傳送輪可以繞傳送橫桿軸向轉動,傳送輪在軸向轉動的過程中將基板傳送出去。此時,優(yōu)選地,上述至少兩個基板傳送帶中任ー個基板傳送帶具有第一傳送橫桿和套設于第一傳送橫桿上的多個第一傳送輪,其余任ー個基板傳送帶具有第二傳送橫桿和套設于第二傳送橫桿上的多個第二傳送輪,第一傳送橫桿與第二傳送橫桿的長度相同;多個第一傳送輪中的任ー個第一傳送輪到第一傳送橫桿的中心點的距離為第一距離,多個第二傳送輪中的任ー個第二傳送輪到第二傳送橫桿的中心點的距離為第二距離,第一距離與第二距離不相同。以三個基板傳送帶為例,如圖2所示,一基板處理系統(tǒng)包括三個基板傳送帶基板傳送帶5、基板傳送帶6和基板傳送帶7 ;基板傳送帶5具有傳送橫桿51,傳送橫桿51上套設有多個傳送輪52,基板傳送帶6具有傳送橫桿61,傳送橫桿61上套設有多個傳送輪62,基板傳送帶7具有傳送橫桿71,傳送橫桿71上套設有多個傳送輪72 ;傳送橫桿51、傳送橫桿61、傳送橫桿71的長度相同;傳送橫桿51上的任一個傳送輪52到傳送橫桿51的中心點的距離為dl ;傳送橫桿61上的任一個傳送輪62到傳送橫桿61的中心點的距離為d2 ;傳送橫桿71上的任一個傳送輪72到傳送橫桿71的中心點的距離為d3 ;其中,dl、d2、d3互不相同。通常,在基板傳送過程中,基板位于傳送橫桿的中間位置,因此,dl、d2、d3互不相同,就可保證每個基板傳送帶的傳送輪在基板上的接觸位置都互不相同。這樣,不僅不易出現(xiàn)基板劃傷,而且當出現(xiàn)基板劃傷時,能依據(jù)基板的劃傷位置和各基板傳送帶的傳送輪在基板上的接觸位置查找出劃傷基板的是哪個基板傳送帶,查明劃傷原因,消除產(chǎn)生劃傷的原因便可有效避免基板的再次劃傷;進ー步地,還可降低基板彎曲的發(fā)生概率,降低了基板的不良率。實際實施過程中,基板傳送設備還可以實施為其它用于傳送基板的設備,并不限于上述基板傳送帯。另外,優(yōu)選地,如圖3所示,上述基板處理系統(tǒng)還可以包括用于對基板進行操作的處理設備,與上述至少兩個基板傳送設備中的至少ー個基板傳送設備連接。處理設備的數(shù)量可以是ー個或者多個;每個處理設備可以根據(jù)需要與ー個或兩個基板傳送設備連接。[0041]其中,上述處理設備可具體實施為用于對基板進行エ藝處理的エ藝設備,如彩色濾光片生產(chǎn)設備等;或者用于對基板進行檢測的檢測設備,如檢測基板是否有劃傷的檢測設備等。需要說明的是,實際實施過程中,上述至少兩個基板傳送設備中的任意兩個基板傳送設備可以直接連接,使基板可以由ー個基板傳送設備直接傳送到另ー個基板傳送設備,這樣可以避免基板在一段傳送過程中始終保持ー個接觸位置,可進ー步避免出現(xiàn)劃傷;或者,上述至少兩個基板傳送設備中的任意兩個基板傳送設備可以間接連接,即該任意兩個基板傳送設備之間設置ー處理設備,這樣,基板通過ー個基板傳送設備被傳送到該處理設備,基板經(jīng)過該處理設備的處理后再通過另ー個基板傳送設備被傳送出去。以上所述是本實用新型的優(yōu)選實施方式,應當指出,對于本技術領域的普通技術 人員來說,在不脫離本實用新型所述原理的前提下,還可以作出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應視為本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種基板處理系統(tǒng),其特征在于,包括 至少兩個基板傳送設備; 所述至少兩個基板傳送設備中任ー個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置為第一位置,其余任ー個基板傳送設備的基板支撐部件在所述基板上的接觸位置為第二位置,所述第一位置與所述第二位置不相同。
2.如權利要求I所述的基板處理系統(tǒng),其特征在于,還包括 用于對所述基板進行操作的處理設備,與所述至少兩個基板傳送設備中的至少ー個基板傳送設備連接。
3.如權利要求2所述的基板處理系統(tǒng),其特征在于,所述處理設備具體為 用于對所述基板進行エ藝處理的エ藝設備;或者 用于對所述基板進行檢測的檢測設備。
4.如權利要求1-3中任一所述的基板處理系統(tǒng),其特征在干, 所述至少兩個基板傳送設備為至少兩個基板傳送帯。
5.如權利要求4所述的基板處理系統(tǒng),其特征在干, 所述至少兩個基板傳送帶中的任ー個基板傳送帶具有第一傳送橫桿和套設于所述第ー傳送橫桿上的多個第一傳送輪,其余任ー個基板傳送帶具有第二傳送橫桿和套設于所述第二傳送橫桿上的多個第二傳送輪,所述第一傳送橫桿與所述第二傳送橫桿的長度相同; 所述多個第一傳送輪中的任ー個第一傳送輪到所述第一傳送橫桿的中心點的距離為第一距離,所述多個第二傳送輪中的任ー個第二傳送輪到所述第二傳送橫桿的中心點的距離為第二距離,所述第一距離與所述第二距離不相同。
專利摘要本實用新型提供一種基板處理系統(tǒng),用以解決現(xiàn)有基板處理系統(tǒng)在整個基板處理過程中容易出現(xiàn)基板劃傷,并且難以查明基板劃傷原因的問題。該基板處理系統(tǒng)包括至少兩個基板傳送設備;所述至少兩個基板傳送設備中任一個基板傳送設備的基板支撐部件在基板上的接觸位置為第一位置,其余任一個基板傳送設備的基板支撐部件在所述基板上的接觸位置為第二位置,所述第一位置與所述第二位置不相同。該基板處理系統(tǒng)不易出現(xiàn)基板劃傷,容易查明劃傷原因,可降低基板彎曲的發(fā)生概率,降低了基板的不良率。
文檔編號H01L21/677GK202473882SQ20122011530
公開日2012年10月3日 申請日期2012年3月23日 優(yōu)先權日2012年3月23日
發(fā)明者趙楊, 高雪松 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司
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