專利名稱：能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種硅片傳送裝置，具體涉及一種能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送
>J-U ρ α裝直。
背景技術(shù)：
正常情況下，硅片應(yīng)該是平整的，基本沒(méi)有翹曲，此時(shí)機(jī)臺(tái)能夠正常傳片。平整硅片的曲率半徑為100米以上，一般認(rèn)為，對(duì)于曲率半徑>30米的硅片，光刻機(jī)都可以正常作業(yè)。 但是，在經(jīng)過(guò)淀積或高溫工藝后，會(huì)使部分硅片翹曲嚴(yán)重，造成其曲率半徑〈30米。對(duì)于這些硅片，現(xiàn)有的光刻機(jī)傳送系統(tǒng)無(wú)法進(jìn)行正常的傳片。現(xiàn)有的硅片傳送裝置包括左右兩個(gè)夾持頭，夾持頭相對(duì)側(cè)的吸著面分別設(shè)置有真空吸著點(diǎn)，真空吸著點(diǎn)連接真空槽，兩個(gè)真空槽共同連通一路真空管，真空管上設(shè)置有電磁閥。這種結(jié)構(gòu)的硅片傳送裝置，為了確保每次傳送硅片到位的一致性，由一路真空管同時(shí)控制左右兩邊的真空吸著點(diǎn)的氣路壓力，左右兩邊同時(shí)有真空或沒(méi)真空；當(dāng)電磁閥作動(dòng)，使真空管連通，左右兩個(gè)夾持頭的真空吸著點(diǎn)同時(shí)有真空，從兩邊對(duì)硅片施力，即可吸住娃片。但是，這種結(jié)構(gòu)只能吸住平整的硅片，如果硅片翹曲嚴(yán)重，左右兩個(gè)夾持頭的真空吸著點(diǎn)就無(wú)法同時(shí)吸住硅片，因而無(wú)法夾持翹曲嚴(yán)重的硅片。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，它可以?shī)A持并傳送曲率半徑〈30米的翅曲娃片。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置的技術(shù)解決方案為包括左右兩個(gè)夾持頭，夾持頭相對(duì)側(cè)的吸著面分別設(shè)置有真空吸著點(diǎn)，真空吸著點(diǎn)連接真空槽；兩個(gè)真空槽分別連通一真空管，兩根真空管通過(guò)三通閥連通真空總管；每根真空管上分別設(shè)置有切換閥。所述夾持頭的吸著面為圓形。所述兩個(gè)夾持頭之間的距離略大于硅片的直徑。所述兩根真空管共同設(shè)置于一滑輪上，滑輪通過(guò)滑輪支架實(shí)現(xiàn)支撐。所述兩個(gè)夾持頭固定設(shè)置于夾持座上；所述真空槽設(shè)置于夾持座內(nèi)。本實(shí)用新型可以達(dá)到的技術(shù)效果是本實(shí)用新型通過(guò)兩路相互獨(dú)立的真空管，分別控制左右兩邊的真空吸著點(diǎn)的氣路壓力，并通過(guò)各自的閥進(jìn)行切換。本實(shí)用新型保持現(xiàn)有的機(jī)臺(tái)結(jié)構(gòu)基本不變，僅做簡(jiǎn)單的切換就可以順利進(jìn)行翹曲硅片的工藝。[0016]本實(shí)用新型能夠在不影響硅片的傳送精度的情況下，將曲率半徑〈30米的翹曲硅片順利傳送至工作臺(tái)。
以下結(jié)合附圖
和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明圖I是本實(shí)用新型能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中附圖標(biāo)記說(shuō)明 I為夾持頭，2為夾持座，31、32為真空管，4為三通閥，5為真空總管， 6為切換閥，7為滑輪，8為滑輪支架。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，本實(shí)用新型能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，包括左右兩個(gè)夾持頭1，兩個(gè)夾持頭I固定設(shè)置于夾持座2上；夾持頭I相對(duì)側(cè)的吸著面分別設(shè)置有真空吸著點(diǎn)，真空吸著點(diǎn)連接真空槽；真空槽設(shè)置于夾持座2內(nèi)；兩個(gè)真空槽分別連通一真空管31、32，兩根真空管31、32通過(guò)三通閥4連通真空總管5 ；每根真空管31、32上分別設(shè)置有切換閥6 ；兩個(gè)夾持頭I之間的距離略大于硅片的直徑；兩根真空管31、32共同設(shè)置于一滑輪7上，滑輪7通過(guò)滑輪支架8實(shí)現(xiàn)支撐；滑輪7用于帶動(dòng)兩根真空管31、32自由移動(dòng)；夾持頭I的吸著面為圓形，圓形的吸著面更各易吸住翅曲娃片。本實(shí)用新型的工作原理如下當(dāng)遇到正常的硅片時(shí)，兩邊的真空都打開，正常工作；當(dāng)遇到有翹曲的硅片時(shí)，通過(guò)真空管31、32上的切換閥6將一邊的真空關(guān)掉，從而能夠保證一邊的真空可以吸住硅片，實(shí)現(xiàn)翹曲硅片的傳送。
權(quán)利要求1.一種能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，其特征在于包括左右兩個(gè)夾持頭，夾持頭相對(duì)側(cè)的吸著面分別設(shè)置有真空吸著點(diǎn)，真空吸著點(diǎn)連接真空槽；兩個(gè)真空槽分別連通一真空管，兩根真空管通過(guò)三通閥連通真空總管；每根真空管上分別設(shè)置有切換閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，其特征在于所述夾持頭的吸著面為圓形。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，其特征在于所述兩個(gè)夾持頭之間的距離略大于硅片的直徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，其特征在于所述兩根真空管共同設(shè)置于一滑輪上，滑輪通過(guò)滑輪支架實(shí)現(xiàn)支撐。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，其特征在于所述兩個(gè)夾持頭固定設(shè)置于夾持座上；所述真空槽設(shè)置于夾持座內(nèi)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種能夠傳送翹曲硅片的硅片傳送裝置，包括左右兩個(gè)夾持頭，夾持頭相對(duì)側(cè)的吸著面分別設(shè)置有真空吸著點(diǎn)，真空吸著點(diǎn)連接真空槽；兩個(gè)真空槽分別連通一真空管，兩根真空管通過(guò)三通閥連通真空總管；每根真空管上分別設(shè)置有切換閥。本實(shí)用新型通過(guò)兩路相互獨(dú)立的真空管，分別控制左右兩邊的真空吸著點(diǎn)的氣路壓力，并通過(guò)各自的閥進(jìn)行切換。本實(shí)用新型能夠在不影響硅片的傳送精度的情況下，將曲率半徑<30米的翹曲硅片順利傳送至工作臺(tái)。
文檔編號(hào)H01L21/677GK202662582SQ20122020044
公開日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2012年5月7日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月7日
發(fā)明者喬俊, 陳巍, 吳長(zhǎng)明 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司