曝光系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)的控制裝置以及曝光系統(tǒng)的控制方法
【專利摘要】提供使掩模更換時的掩模選擇有效率、能進行短時間的掩模更換的曝光系統(tǒng)。曝光系統(tǒng)(1)具備：曝光裝置(10)，其通過掩模對基板照射光；以及控制部(30)，其控制曝光裝置(10)。控制部(30)從曝光裝置(10)實時地接收表示掩模存在于曝光裝置(10)內(nèi)的哪個位置的位置信息，基于位置信息選擇在接下來處理的基板的曝光中使用的掩模。
【專利說明】曝光系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)的控制裝置以及曝光系統(tǒng)的控制方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于對基板進行曝光處理的曝光系統(tǒng)、以及該曝光系統(tǒng)的控制裝置和控制方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的與曝光系統(tǒng)有關(guān)的技術(shù)例如在特開2001 - 291756號公報(專利文獻I)中公開。在特開2001 — 291756號公報(專利文獻I)中公開了如下曝光系統(tǒng):在用和與已經(jīng)進行曝光處理的基板對應(yīng)的掩模相同的掩模進行曝光處理的基板搭載于基板運送機器人的情況下，對用相同的掩模處理的基板優(yōu)先進行曝光處理，使掩模的更換次數(shù)減少。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)文獻_4] 專利文獻
[0005]專利文獻1:特開2001 - 291756號公報
【發(fā)明內(nèi)容】

_6] 發(fā)明要解決的問題
[0007]在曝光系統(tǒng)中，有時在一片基板的曝光處理結(jié)束后指示更換為與接下來應(yīng)曝光處理的基板對應(yīng)的掩模。在特開2001 - 291756號公報(專利文獻I)記載的曝光系統(tǒng)中，即使在收到這樣的更換指示的情況下，也是優(yōu)先處理不更換掩模就能進行曝光處理的基板。因此，有期望的基板的曝光處理延遲、生產(chǎn)率反而下降的問題。
[0008]另外，在曝光系統(tǒng)中，為了確保對基板曝光的質(zhì)量，需要定期地清洗掩模。在特開2001 - 291756號公報(專利文獻I)記載的曝光系統(tǒng)中，優(yōu)先處理不更換掩模就能進行曝光處理的基板，由此，不進行需要的掩模的清洗，有可能使用在曝光處理時升華物原樣附著的掩模進行曝光處理。其結(jié)果是，有基板的曝光質(zhì)量降低的問題。
[0009]本發(fā)明是鑒于上述的問題而完成的，其主要目的是提供使掩模更換時的掩模選擇有效率、能以更短時間進行掩模更換的曝光系統(tǒng)。另外，本發(fā)明的其他目的是提供能進行定期的掩模清洗、能確?；宓钠毓赓|(zhì)量的曝光系統(tǒng)。另外，本發(fā)明的另一其他目的是提供避免在曝光處理中繼續(xù)使用發(fā)生異常的掩模、確保基板的曝光質(zhì)量的曝光系統(tǒng)。
[0010]用于解決問題的方案
[0011]本發(fā)明的曝光系統(tǒng)具備:曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及控制部，其控制上述曝光裝置。控制部從曝光裝置接收表示曝光裝置內(nèi)的掩模的位置的位置信息，基于位置信息選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。在此，從曝光裝置或者曝光系統(tǒng)所包含的其他裝置向控制部傳遞信息的時間并不特別受到限定。例如，可以實時地向控制部傳遞信息，或者可以僅在改變裝置的狀態(tài)時向控制部傳遞信息。
[0012]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選曝光裝置具有頭部，掩模為了對基板曝光而安裝到頭部，掩模的位置信息包含:正在向頭部安裝的掩模的位置；已經(jīng)安裝到頭部的掩模的位置；以及正在從頭部脫離的掩模的位置。[0013]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選控制部優(yōu)先選擇正在向頭部安裝的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0014]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選控制部不選擇正在從頭部脫離的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0015]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選曝光裝置具有:在曝光裝置內(nèi)暫時保管掩模的緩沖器；以及次使用曝光掩模緩沖器，接下來安裝于頭部的掩模在次使用曝光掩模緩沖器中等待，位置信息包含:停留于緩沖器中的掩模的位置；以及停留于次使用曝光掩模緩沖器中的掩模的位置。
[0016]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選位置信息包含正在送入到曝光裝置中的掩模的位置。
[0017]本發(fā)明的其他方面的曝光系統(tǒng)具備:通過掩模對基板照射光的曝光裝置；清洗掩模的掩模清洗裝置；以及控制曝光裝置的控制部?？刂撇繌难谀Ｇ逑囱b置接收掩模清洗裝置清洗掩模的清洗日期和時刻，基于清洗日期和時刻選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0018]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選控制部不選擇從清洗日期和時刻到當前時刻為規(guī)定時間以上的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0019]本發(fā)明的又一方面的曝光系統(tǒng)具備:曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及控制部，其控制曝光裝置?？刂撇繌钠毓庋b置接收為了基板的曝光處理而使用掩模的處理次數(shù)，基于處理次數(shù)選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0020]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選控制部不選擇處理次數(shù)為規(guī)定次數(shù)以上的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0021]本發(fā)明的又一方面的曝光系統(tǒng)具備:曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及控制部，其控制曝光裝置?？刂撇繌钠毓庋b置接收表示用于當前基板的曝光的掩模發(fā)生異常的異常信息，基于異常信息選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0022]在上述曝光系統(tǒng)中，優(yōu)選控制部不選擇發(fā)生異常的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。
[0023]發(fā)明效果
[0024]根據(jù)本發(fā)明的曝光系統(tǒng)，能使掩模更換時的掩模選擇有效率，所以能以更短時間進行掩模更換。另外，能定期地清洗掩模，所以能確保基板的曝光質(zhì)量。另外，能在以后的曝光處理中更換發(fā)生異常的掩模，所以能確?；宓钠毓赓|(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1是示出曝光裝置的構(gòu)成概略的示意圖。
[0026]圖2是從側(cè)面觀察曝光裝置的內(nèi)部的一部分的示意圖。
[0027]圖3是示出在曝光裝置內(nèi)曝光的基板和掩模的關(guān)系的示意圖。
[0028]圖4是示出用于對基板的曝光處理的掩模的概略構(gòu)成的示意圖。
[0029]圖5是示出通過使用本實施方式的曝光系統(tǒng)的曝光處理得到的對象的機型和表示每種機型的曝光處理條件的處方、以及用于每個處方的掩模的關(guān)系的示意圖。
[0030]圖6是示出本實施方式的曝光系統(tǒng)的構(gòu)成概略的框圖。
[0031]圖7是示出在用于曝光處理的掩模的選擇之前的預處理的一例的流程圖。[0032]圖8是示出掩模的選擇方法的一例的流程圖。
[0033]圖9是示出曝光裝置內(nèi)的掩模的位置信息的圖。
[0034]圖10是示出基于曝光裝置內(nèi)的掩模的位置信息選擇掩模的子程序的一例的流程圖。
[0035]圖11是示出基于曝光處理中的掩模的報警的發(fā)生的掩模的選擇的流程圖。
[0036]圖12是示出在曝光處理中能再次使用“不可使用”狀態(tài)的掩模的處理的流程圖。
【具體實施方式】
[0037]下面，基于【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實施方式。此外，在下面的附圖中，對相同或者相當?shù)牟糠謽俗⑾嗤母綀D標記，其說明將不再重復。
[0038]圖1是示出曝光裝置10的構(gòu)成概略的示意圖。曝光裝置10是對液晶面板用的玻璃基板或者半導體基板等曝光對象的基板照射光的裝置。曝光裝置10具有在曝光處理時搭載基板的載物臺11和盒搭載部12。盒搭載部12形成有多個口 13、13。口 13是為了載置收納有曝光對象的基板的盒而設(shè)置的、曝光裝置10內(nèi)的盒的放置場所。曝光裝置10形成有送出送入部14。作為基板進入的盒子的盒經(jīng)由送出送入部14被送入到曝光裝置10內(nèi)，且經(jīng)由送出送入部14從曝光裝置10被送出。
[0039]曝光裝置10還具有:緩沖器16，其收納多個用于將圖案轉(zhuǎn)印到基板的掩模或者中間掩模等底版(下面僅稱為掩模)；以及使在接下來曝光處理中使用的掩模等待的次使用掩模緩沖器17?；宓钠毓馓幚硭璧难谀Ｔ诒凰腿氲狡毓庋b置10內(nèi)后，在設(shè)于曝光裝置10內(nèi)的緩沖器16中暫時保管。掩模由未圖示的掩模運送裝置適當?shù)貜木彌_器16取出，被運送到次使用掩模緩沖器17。掩模還利用掩模運送裝置安裝到頭部用于對基板曝光。
[0040]圖2是從側(cè)面觀察曝光裝置10的內(nèi)部的一部分的示意圖。從載置于圖1所示的口 13的盒中取出的基板2搭載于載物臺11，掩模20在基板2的上方與基板2相對地配置。曝光裝置10具有頭部18，用于基板2的曝光處理的掩模20安裝于頭部18。從未圖示的照明光線系統(tǒng)通過掩模20對基板2照射光，由此進行基板2的曝光處理。
[0041]圖3是示出在曝光裝置10內(nèi)曝光的基板2和掩模20的關(guān)系的示意圖。圖3中圖不出俯視的一片基板2,不出包括多個掩模20的掩模組相對于基板2的排列。各個掩模20由圖2所示的頭部18保持。頭部18具有與掩模20的周緣部卡合的框狀的形狀，設(shè)置成不妨礙從未圖示的照明光線系統(tǒng)經(jīng)由掩模20照射到基板2的光路。
[0042]圖3中所示的兩箭頭表示掩模20相對于基板2的相對移動的方向。搭載在載物臺11上的基板2和安裝于頭部18的掩模20中的至少任一方在兩箭頭所示的圖中的左右方向移動，由此基板2和掩模20在兩箭頭的方向相對移動。在與該相對移動的方向正交的方向，多個掩模20排成兩列。在與基板2和掩模20的相對移動的方向正交的方向相鄰的兩個掩模以經(jīng)由這兩個掩模20照射到基板2的光的照射區(qū)域部分重疊的方式配置。多個掩模20以能對基板2的整個面曝光的方式配置。
[0043]圖4是示出用于基板2的曝光處理的掩模20的概略構(gòu)成的示意圖。如圖4所示，在一片掩模20中描畫有4個描畫圖案21、22、23、24。選擇4個描畫圖案21、22、23、24中適合用于處理對象的基板2的曝光處理的任一個描畫圖案，經(jīng)由該選擇的描畫圖案對基板2照射光，由此進行基板2的曝光處理。[0044]在基板2是液晶面板用的基板的情況下，例如在某掩模20 (稱為掩模A)中，能將描畫圖案21形成為40吋TFT (Thin Film Transistor:薄膜晶體管)基板用的描畫圖案，將描畫圖案22形成為40吋CF (Color Filter:彩色濾光片)基板用的描畫圖案，將描畫圖案23形成為60吋TFT基板用的描畫圖案，將描畫圖案24形成為60吋CF基板用的描畫圖案。另外，在不同的另外的掩模20 (稱為掩模B)中，能將描畫圖案21形成為40吋TFT基板用的描畫圖案，將描畫圖案22形成為40吋CF基板用的描畫圖案，將描畫圖案23形成為55吋TFT基板用的描畫圖案，將描畫圖案24形成為55吋CF基板用的描畫圖案。在掩模20中描畫的描畫圖案數(shù)量并不被限定，可以是任意的數(shù)量。
[0045]掩模A和掩模B這兩者被描畫40吋TFT基板用的描畫圖案和40吋CF基板用的描畫圖案。這樣，有時對多個掩模20(即掩模A和掩模B這兩者)描畫相同的描畫圖案。在該情況下，例如在對40吋TFT基板進行曝光處理時，能使用掩模A和掩模B這兩者，所以需要使用或選定任一掩模。下面詳細說明的本實施方式的曝光系統(tǒng)是用于在從多個能應(yīng)用的掩模選定實際用于曝光處理的掩模時考慮到掩模更換的效率和曝光處理的質(zhì)量而使得能選定最佳的掩模的系統(tǒng)。另外，本實施方式的曝光系統(tǒng)考慮到在曝光處理中的曝光掩模的損傷發(fā)生等大大影響質(zhì)量的麻煩發(fā)生，能選定最佳的掩模。
[0046]圖5是示出通過使用本實施方式的曝光系統(tǒng)的曝光處理得到的對象的機型、表示每種機型的曝光處理條件的處方、以及用于每種處方的掩模20的關(guān)系的示意圖。在本實施方式中，假設(shè)曝光處理的基板2是液晶面板用的基板。圖5所示的機型是表示使用曝光處理的基板2制作的液晶顯示裝置的種類。圖5所示的處方是表示對基板2進行曝光處理的條件。根據(jù)機型決定所使用的處方。按照對應(yīng)的處方對基板2進行曝光處理，由此提供期望的機型。
[0047]與識別編號(機型編號)是40吋的機型對應(yīng)的處方是識別編號(處方ID) 001的處方。能用于按照處方ID是001的處方的基板2的曝光處理的掩模20存在掩模A、掩模B以及掩模C這三個。與機型編號是60吋的機型對應(yīng)的處方是處方ID002的處方。能用于按照處方ID是002的處方的基板2的曝光處理的掩模20存在掩模D、掩模A這兩個。這樣，針對一個處方能使用多個掩模，由此上述的掩模的選定是重要的。
[0048]掩模A形成有與用于40吋的機型的ID001的處方和用于60吋的機型的ID002的處方這兩者對應(yīng)的描畫圖案。因此，在例如使用掩模A進行用于40吋的機型的曝光處理后接下來進行用于60吋的機型的曝光處理的情況下，機型被變更，但是有可能掩模的更換是不必要的。本實施方式的曝光系統(tǒng)在假設(shè)這樣的可能性的基礎(chǔ)上，能選定與機型一致的最佳的掩模20。
[0049]圖6是示出本實施方式的曝光系統(tǒng)I的構(gòu)成概略的框圖。曝光系統(tǒng)I具備上述的曝光裝置10和控制曝光裝置10的控制部30。曝光系統(tǒng)I還具備數(shù)據(jù)登錄終端31。使用曝光系統(tǒng)I進行曝光處理的操作者使用數(shù)據(jù)登錄終端31，在任意的時間事先登錄機型編號、處方ID，保持于控制部30。由此，將哪個掩模20用于哪個機型事先登錄于控制部30。
[0050]曝光系統(tǒng)I還具備掩模ID讀取裝置32。各個掩模20具有與描畫于掩模20的描畫圖案對應(yīng)的固有的識別編號(掩模ID)。掩模ID讀取裝置32在任意的時間讀取掩模20的掩模ID，將讀取的掩模ID保存于控制部30。
[0051]曝光系統(tǒng)I還具備掩模清洗裝置33。掩模清洗裝置33將異物附著的掩模20、或者在對基板2進行曝光處理時升華物附著的掩模20等被污染的掩模20清洗，恢復清潔的狀態(tài)。掩模清洗裝置33將清洗掩模20的清洗日期和時刻保存于控制部30。由此，控制部30對哪個掩模20什么時候清洗進行管理。
[0052]曝光系統(tǒng)I還具備用于運送收納有基板2的盒的運送裝置36。運送裝置36接收來自控制部30的指令，將基板2送入到曝光裝置10，還從曝光裝置10送出基板2。運送裝置36將在曝光裝置10內(nèi)的口 13中是否存在盒的情況保存于控制部30。
[0053]曝光裝置10接收來自控制部30的指令，對基板2進行照射最佳的描畫圖案的光的曝光處理。另外，曝光裝置10將曝光裝置10內(nèi)的掩模20的位置信息、表示在曝光裝置10中用于當前基板2的曝光的掩模20發(fā)生異常的異常信息保存于控制部30。由此，控制部30對各個掩模20當前在曝光裝置10內(nèi)處于何種狀態(tài)進行管理。關(guān)于掩模20的位置信息和異常信息的詳情將后述。
[0054]另外，曝光裝置10將掩模20被送入到曝光裝置10以后的、掩模20在曝光裝置10內(nèi)停留的停留時間保存于控制部30。而且，曝光裝置10將使用掩模20進行了曝光處理的處理次數(shù)保存于控制部30。與掩模20的曝光裝置10內(nèi)的停留時間對應(yīng)，異物附著于掩模
20、掩模20被污染的可能性變高。依賴于基板2的處理次數(shù)，升華物附著于掩模20、掩模20被污染的可能性變高?？刂撇?0基于掩模20的停留時間和處理次數(shù)對是否需要掩模20的清洗進行管理。
[0055]曝光系統(tǒng)I還具備處理指示終端37。使用曝光系統(tǒng)I進行曝光處理的操作者使用處理指示終端37，在任意的時間輸入應(yīng)進行曝光處理的機型編號，保存于控制部30?？刂撇?0基于該處理指示，將位于曝光裝置10內(nèi)的多個掩模20中可用于接下來的曝光處理的掩模20選定為適合處理掩模。
[0056]對使用具備以上構(gòu)成的曝光系統(tǒng)I的基板2的曝光處理時的最佳的掩模20的選擇進行說明。圖7是示出在用于曝光處理的掩模20的選擇之前的預處理的一例的流程圖。
[0057]參照圖7，在選擇用于基板2的曝光處理的掩模20之前，如步驟(Sll)所示，利用掩模ID讀取裝置32讀入掩模ID。另外，如步驟(S12)所示，按照參照圖5說明的機型和處方的關(guān)系登錄機型編號和處方ID的關(guān)系。而且，如步驟(S13)所示，按照參照圖5說明的處方和掩模的關(guān)系登錄掩模ID和處方ID的關(guān)系。在這樣完成前準備的狀態(tài)下進行用于曝光處理的最佳的掩模20的選擇。此外，步驟(Sll)?(S13)所示的各處理不是必須按圖7所示的順序進行，可以按任意的順序進行。
[0058]圖8是示出掩模20的選擇方法的一例的流程圖。首先，在步驟(S21)中進行機型編號的取得。機型編號可以通過操作者使用處理指示終端37輸入接下來曝光處理的機型編號而取得?；蛘?，機型編號可以通過基于從被送入到曝光裝置10的口 13中的盒的識別編號把握的、處理對象的基板2的種類所涉及的信息檢索機型編號而取得。
[0059]接下來，在步驟(S22)中進行處方ID的取得。如參照圖5說明的那樣，如果取得機型編號，則能取得與機型編號對應(yīng)的處方ID。
[0060]接下來，在步驟(S23)中進行曝光裝置10內(nèi)的適合處理掩模的取得。在此，所謂適合處理掩模是指:存在于曝光裝置10內(nèi)的多個掩模20中為了接下來曝光處理的基板的曝光處理而可選擇的掩模20。如參照圖5說明的那樣，形成有與一個處方ID對應(yīng)的描畫圖案的掩模20可存在多個。在步驟(S23)中，存在于曝光裝置10內(nèi)的掩模20、且形成有與在前面的步驟(S22)中取得的處方ID對應(yīng)的描畫圖案的掩模20的全部被設(shè)定為適合處理掩模。在此，即使是形成有與在步驟(S22)中取得的處方ID對應(yīng)的描畫圖案的掩模20，設(shè)為后述的不可使用狀態(tài)的掩模20也不被設(shè)定為適合處理掩模。
[0061]接下來，在步驟(S24)中，在步驟(S23)中設(shè)定的適合處理掩模中掩模位置的識別信息是“2” “4” “5”或者“6”的掩模20重新被設(shè)定為適合處理掩模。位于其他的位置的掩模20從適合處理掩模中被排除，不被選擇為在接下來處理的基板2的曝光中使用的掩模20。
[0062]圖9是示出曝光裝置10內(nèi)的掩模20的位置信息的圖。利用圖9所示的“O”?“6”的識別編號識別各掩模的管理狀態(tài)、即掩模20存在于曝光裝置10內(nèi)的哪個位置。如圖9所示，在表示曝光裝置10內(nèi)的掩模20的位置的識別編號是“O”時，表示掩模20位于曝光裝置10之外。在表示掩模20的位置的識別編號是“I”時，表示掩模20是送入到曝光裝置10的途中。在表示掩模20的位置的識別編號是“2”時，表示掩模20位于曝光裝置10內(nèi)的緩沖器16。
[0063]在表不掩模20的位置的識別編號是“3”時,表不掩模20從曝光裝置10的頭部18脫離的途中。在表示掩模20的位置的識別編號是“4”時，表示掩模20位于曝光裝置10內(nèi)的次使用掩模緩沖器17。在表示掩模20的位置的識別編號是“5”時，表示掩模20向曝光裝置10的頭部18安裝的途中。在表示掩模20的位置的識別編號是“6”時，表示掩模20已經(jīng)安裝到曝光裝置10的頭部18，如圖2所示，表示是安裝到頭部18的狀態(tài)。
[0064]返回圖8，在步驟(S24)中，存在于曝光裝置10內(nèi)的緩沖器16或者次使用掩模緩沖器17的掩模20、或者是正在安裝到頭部18或者已經(jīng)安裝的掩模20被設(shè)定為適合處理掩模。處于曝光裝置10外的掩模20、正在送入到曝光裝置10的掩模20、以及正在從頭部18脫離的掩模20從適合處理掩模被排除。
[0065]在此，正在從頭部18脫離的掩模20不被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。這表示如下:操作者由于任何意圖想要從頭部18拆卸的掩模20不在接下來的曝光處理中被使用。操作者作出拆卸掩模20的指示是考慮到如下:需要進行掩模20的清洗的情況、或者發(fā)生任何的麻煩的情況。通過以不選擇不是適合用于曝光的狀態(tài)的掩模20的方式控制曝光系統(tǒng)1，能避免基板2的曝光質(zhì)量下降。
[0066]接下來，在步驟(S25)中，在步驟(S24)中設(shè)定的適合處理掩模中清洗日期和時刻在一定期間內(nèi)的掩模20重新被設(shè)定為適合處理掩模。如上所述，掩模20的清洗日期和時刻從掩模清洗裝置33被輸入到控制部30?？刂撇?0比較當前時刻和掩模20的清洗日期和時刻，基于清洗日期和時刻判斷各個掩模20是否是適合處理掩模。從清洗日期和時刻到當前時刻為規(guī)定時間以上的掩模20不被選擇為用于接下曝光處理的基板2的曝光的掩模20。
[0067]接下來，在步驟(S26)中，在步驟(S25)中設(shè)定的適合處理掩模中處理次數(shù)為一定次數(shù)內(nèi)的掩模20重新被設(shè)定為適合處理掩模。如上所述，掩模20的處理次數(shù)從曝光裝置10被輸入到控制部30?？刂撇?0把握掩模20的處理次數(shù)，基于處理次數(shù)判斷各個掩模20是否是適合處理掩模。處理次數(shù)為規(guī)定次數(shù)以上的掩模20不被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。
[0068]在步驟(S23)?(S26)中限定了被選擇為適合處理掩模的掩模20的條件后，在步驟(S27)中，判斷是否存在適合處理掩模。如果判斷為不存在適合處理掩模，則可在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20在曝光裝置10內(nèi)不存在，所以進入步驟(S30)，進行錯誤處理。在該情況下，掩模20的選擇中止，通知操作者適合處理掩模在曝光裝置10內(nèi)不存在。當新的掩模20被送入到曝光裝置10內(nèi)時，再次進行圖8所示的掩模20的選擇。
[0069]如果判斷為存在適合處理掩模，則接下來在步驟(S28)中，判斷是否存在多個適合處理掩模。如果判斷為不存在多個適合處理掩模，則該適合處理掩模被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。如果判斷為存在多個適合處理掩模，則進入步驟(S29)，按照掩模20的位置信息，選擇在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。
[0070]圖10是示出基于曝光裝置10內(nèi)的掩模20的位置信息選擇掩模20的子程序的一例的流程圖。在圖8所示的步驟(S28)中判斷為適合處理掩模在曝光裝置10內(nèi)存在多個的情況下，開始圖10所示的子程序。即，首先在步驟(S41)中，判斷表示掩模20的位置的識別編號是“5”的掩模20是否存在至少一個。
[0071]在此，如參照圖3說明的那樣，為了對一片基板2進行曝光處理而使用多片掩模20，但是在步驟(S41)中，判斷這些多片掩模20是否包含掩模位置信息是“5”的掩模20。即，如果多片掩模20中一片掩模20的位置信息是“5”，則判斷為“是”，如果多片掩模20的全部的位置信息不是“5”，則判斷為“否”。在判斷為包含掩模位置信息是“5”的掩模20的情況下，該多片掩模20被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。
[0072]使掩模位置信息是“5”的掩模20、即正在向頭部18安裝的掩模20最優(yōu)先的理由是:使操作者意圖安裝到頭部18的掩模20優(yōu)先。例如假設(shè)如下情況:操作者按照接下來的接下來曝光處理的機型選擇掩模20，操作者作出指示以提前開始掩模20的安裝。當忽略這樣的操作者的判斷，曝光系統(tǒng)I選擇掩模20時，生產(chǎn)率反而下降，所以不期望。因此，在對基板2進行曝光處理的多片掩模20包含掩模位置信息是“5”的掩模20的情況下，使該多片掩模20最優(yōu)先，由此能按照操作者的意圖更換掩模20，能提高生產(chǎn)率。
[0073]在步驟(S41)中判斷為不包含掩模位置信息是“5”的掩模20
[0074]在步驟(S42)中判斷為多片掩模20的全部不是掩模位置信息“6”的情況下，進入步驟(S43)，判斷多片掩模20的全部是否是掩模位置信息“4”。在判斷為多片掩模20的全部是掩模位置信息“4”的情況下，該多片掩模20被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。通過由次使用掩模緩沖器17選擇等待狀態(tài)的掩模20，能比收納于緩沖器16的掩模20更快地更換掩模20，所以能以更短時間更換掩模20。
[0075]在步驟(S43)中判斷為多片掩模20的全部不是掩模位置信息“4”的情況下，進入步驟(S44)，判斷是否存在多個適合處理掩模。如果判斷為不存在多個適合處理掩模，則該適合處理掩模被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。如果判斷為存在多個適合處理掩模，則進入步驟(S45)，任意的掩模20可被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。在該情況下,位于緩沖器16中的掩模20中的任意掩模20被選擇為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。然后，在步驟(S46)中，在步驟(S41)?(S45)的任一個中所選擇的掩模20被設(shè)定為適合處理掩模。
[0076]這樣，可選擇用于接下來的基板2的曝光處理的掩模20，進行掩模20的更換準備。通過預先選擇、事先準備在基板2的曝光處理中接下來的基板2的曝光處理用的掩模20，能縮短掩模20的更換所需的時間。在位于緩沖器16的掩模20被選擇的情況下，使所選擇的掩模20事先移動到次使用掩模緩沖器17，再次確認次使用掩模緩沖器17中是否是正確的掩模20，事先準備掩模20的更換。
[0077]如上所述，按照圖8和圖10所示的流程選擇用于下一個曝光處理的掩模20，從而不是等價或者隨機地而是進行有意義的權(quán)衡，可從多個掩模20選擇最佳的掩模20。能在把握曝光裝置10內(nèi)的掩模20的位置信息的同時選擇更容易安裝的掩模20，所以能使掩模20的選擇更有效率，能進行更短時間的掩模20的更換。
[0078]另外，基于掩模ID讀取裝置32和掩模清洗裝置33等位于曝光裝置10的周邊的其他的裝置中的掩模20的處理狀況選擇掩模20，由此能避免被異物、升華物污染的狀態(tài)的掩模20用于曝光處理。因此，能確?；?的曝光質(zhì)量，所以能提高曝光系統(tǒng)I的成品率。
[0079]當按照圖8所示的流程選擇適合處理掩模時，使用所選擇的適合處理掩模進行曝光處理。在該曝光處理中，例如在基板2和載物臺11的間隔從規(guī)定值大大偏離的情況下，另外，例如在掩模20和基板2的間隔從規(guī)定值大大偏離的情況等下，有可能用于當前基板2的曝光的掩模20損傷等，掩模20發(fā)生異常。曝光系統(tǒng)I從曝光裝置10接收表示掩模20發(fā)生異常的異常信息，基于異常信息選擇在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。
[0080]圖11是示出基于曝光處理中的掩模20的報警發(fā)生的掩模20的選擇的流程圖。如圖11所示，當開始曝光處理時，首先在步驟(S51)中進行曝光處理。如參照圖2說明的那樣，通過掩模20對基板2照射光，由此進行基板2的曝光處理。當基板2的曝光處理結(jié)束時，接著在步驟(S52)中，判斷在曝光處理中是否發(fā)生掩模20的報警。
[0081]如果在步驟(S52)中沒有發(fā)生報警，則曝光處理直接結(jié)束。如果在步驟(S52)中發(fā)生報警，則進入步驟(S53)，曝光系統(tǒng)報告操作者發(fā)生了掩模20的報警。接下來在步驟(S54)中，在該曝光處理中將安裝到頭部18的掩模20設(shè)為“不可使用”狀態(tài)。設(shè)定為“不可使用”狀態(tài)的掩模20在“不可使用”狀態(tài)被解除之前不被用于以后的曝光處理。控制部30不選擇發(fā)生異常的掩模20作為在接下來曝光處理的基板2的曝光中使用的掩模20。
[0082]圖12是示出能將“不可使用”狀態(tài)的掩模20再次用于曝光處理的處理的流程圖。對于在曝光處理中設(shè)為“不可使用”狀態(tài)的掩模，為了解除“不可使用”狀態(tài)，使其能在再次曝光處理中使用，首先在圖12所示的步驟(S61)中，將“不可使用”狀態(tài)的掩模20從曝光裝置10送出到曝光裝置10外。接下來在步驟(S62)中，檢查被送出的掩模20，判斷在曝光處理中能否使用掩模20。例如在掩模20損傷大而不能修復的情況等下，判斷為不能在曝光處理中使用掩模20時，圖12所示的流程直接結(jié)束，該掩模20被丟棄。
[0083]當在步驟(S62)中判斷為能在曝光處理中使用掩模20的情況下，進入步驟(S63)，掩模20被送入到掩模清洗裝置33，在掩模清洗裝置33中被清洗。接下來在步驟(S64)中，掩模20的“不可使用”狀態(tài)被解除，掩模20再次設(shè)為“可使用”狀態(tài)。而且，在步驟(S65)中，通知操作者掩模20的異常的報警被解除。然后在任意的機會，掩模20被送入到曝光裝置10，當按照圖8所示的流程設(shè)定為適合處理掩模時，則在曝光處理中使用。
[0084]此外，圖12所示的流程與其他的流程沒有關(guān)系，能在任意的時間進行。S卩，可以與從曝光裝置10送出掩模20的任意的時間一致地進行圖12所示的流程。但是，當“不可使用”狀態(tài)的掩模20位于曝光裝置10內(nèi)時，在曝光處理中可使用的掩模20的選擇分支減少。因此，期望在曝光處理時設(shè)為“不可使用”狀態(tài)的掩模20例如在從曝光裝置10送出掩模20時被送出等迅速地從曝光裝置10被送出。
[0085]如上所述對本發(fā)明的實施方式進行了說明，但是此次公開的實施方式在所有的方面是例示，應(yīng)認為并不是限制性的。本發(fā)明的范圍不是由上述的說明示出，而是由權(quán)利要求書示出，意圖包含與權(quán)利要求書等同的意義和范圍內(nèi)的所有的變更。
[0086]工業(yè)h的可利用件
[0087]本發(fā)明的曝光系統(tǒng)可特別有利地應(yīng)用于在基板投入后以短時間開始曝光的系統(tǒng)、例如用于對光取向膜材料照射紫外線的曝光系統(tǒng)。
[0088]附圖標記說明
[0089]I曝光系統(tǒng)、2基板、10曝光裝置、11載物臺、12盒搭載部、13 口、14送出送入部、16緩沖器、17次使用掩模緩沖器、18頭部、20掩模、21，22，23，24描畫圖案、30控制部、31
數(shù)據(jù)登錄終端、32掩模ID讀取裝置、33掩模清洗裝置、36運送裝置、37處理指示終端。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光系統(tǒng)，其具備: 曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及 控制部，其控制上述曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的特征在于，上述控制部從上述曝光裝置接收表示上述曝光裝置內(nèi)的上述掩模的位置的位置信息，基于上述位置信息選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述曝光裝置具有頭部，上述掩模為了對上述基板曝光而安裝到上述頭部， 上述位置信息包含:正在向上述頭部安裝的上述掩模的位置；已安裝到上述頭部的上述掩模的位置；以及正在從上述頭部脫離的上述掩模的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述控制部優(yōu)先選擇正在向上述頭部安裝的上述掩模作為在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述控制部不選擇正在從上述頭部脫離的上述掩模作為在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至權(quán)利要求4中的任一項所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述曝光裝置具有:在上述曝光裝置內(nèi)暫時保管上述掩模的緩沖器；以及使接下來安裝于上述頭部的上述掩模等待的次使用曝光掩模緩沖器， 上述位置信息包含:停留于上述緩沖器中的上述掩模的位置；以及停留于上述次使用曝光掩模緩沖器中的上述掩模的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求5中的任一項所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述位置信息包含正在送入到上述曝光裝置中的上述掩模的位置。
7.—種曝光系統(tǒng)的控制裝置，其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備通過掩模對基板照射光的曝光裝置， 從上述曝光裝置接收表示上述曝光裝置內(nèi)的上述掩模的位置的位置信息，基于上述位置信息選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
8.—種曝光系統(tǒng)的控制方法,其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備通過掩模對基板照射光的曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的控制方法包含: 從上述曝光裝置接收表示上述曝光裝置內(nèi)的上述掩模的位置的位置信息的步驟；以及 基于上述位置信息選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模的步驟。
9.一種曝光系統(tǒng),具備: 曝光裝置，其通過掩模對基板照射光； 掩模清洗裝置，其清洗上述掩模；以及 控制部，其控制上述曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的特征在于，上述控制部從上述掩模清洗裝置接收上述掩模清洗裝置清洗上述掩模的清洗日期和時刻，基于上述清洗日期和時刻選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述控制部不選擇從上述清洗日期和時刻到當前時刻為規(guī)定時間以上的上述掩模作為在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
11.一種曝光系統(tǒng)的控制裝置，其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備:曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及掩模清洗裝置，其清洗上述掩模， 從上述掩模清洗裝置接收上述掩模清洗裝置清洗上述掩模的清洗日期和時刻，基于上述清洗日期和時刻選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
12.—種曝光系統(tǒng)的控制方法,其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備:曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及掩模清洗裝置，其清洗上述掩模， 上述曝光系統(tǒng)的控制方法包含: 從上述掩模清洗裝置接收上述掩模清洗裝置清洗上述掩模的清洗日期和時刻的步驟；以及 基于上述清洗日期和時刻選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模的步驟。
13.—種曝光系統(tǒng)，具備: 曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及 控制部，其控制上述曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的特征在于，上述控制部從上述曝光裝置接收為了上述基板的曝光處理而使用上述掩模的處理次數(shù)，基于上述處理次數(shù)選擇接下來處理的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述控制部不選擇上述處理次數(shù)為規(guī)定次數(shù)以上的上述掩模作為在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
15.一種曝光系統(tǒng)的控制裝置，其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備通過掩模對基板照射光的曝光裝置， 從上述曝光裝置接收為了上述基板的曝光處理而使用上述掩模的處理次數(shù)，基于上述處理次數(shù)選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
16.—種曝光系統(tǒng)的控制方法,其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備通過掩模對基板照射光的曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的控制方法包含: 從上述曝光裝置接收為了上述基板的曝光處理而使用上述掩模的處理次數(shù)的步驟；以及 基于上述處理次數(shù)選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模的步驟。
17.—種曝光系統(tǒng),具備: 曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及 控制部，其控制上述曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的特征在于，上述控制部從上述曝光裝置接收表示當前上述基板的曝光中使用的上述掩模發(fā)生異常的異常信息，基于上述異常信息選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，上述控制部不選擇發(fā)生異常的上述掩模作為在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
19.一種曝光系統(tǒng)的控制裝置，其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備通過掩模對基板照射光的曝光裝置， 從上述曝光裝置接收表示當前上述基板的曝光中使用的上述掩模發(fā)生異常的異常信息，基于上述異常信息選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模。
20.—種曝光系統(tǒng)的控制方法,其特征在于， 上述曝光系統(tǒng)具備通過掩模對基板照射光的曝光裝置， 上述曝光系統(tǒng)的控制方法包含: 從上述曝光裝置接收表示當前上述基板的曝光中使用的上述掩模發(fā)生異常的異常信息的步驟；以及 基于上述異常信息選擇在接下來曝光的上述基板的曝光中使用的上述掩模的步驟。
【文檔編號】H01L21/027GK103999192SQ201280062403
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月20日
【發(fā)明者】大畑公孝, 木村忠信, 大河原直人 申請人:夏普株式會社