具有一不平整表面的基板的檢視方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種具有不平整表面的基板的檢視方法,其包括根據(jù)預(yù)設(shè)選取規(guī)則設(shè)定可透介質(zhì),再于基板的粗糙面加上可透介質(zhì),通過平整該粗糙面來檢視基板。其中,檢視方法可應(yīng)用于檢視晶圓盤,并且能從貼附該晶圓盤的承載膜的粗糙面檢視施作于該晶圓盤的集成電路,降低晶圓盤報(bào)銷的風(fēng)險(xiǎn),增加芯片生產(chǎn)的良率。
【專利說明】具有一不平整表面的基板的檢視方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明關(guān)于一種檢視方法,特別在于增加透視效果的基板的檢視方法。
【背景技術(shù)】
[0002]請參考圖1所示,一般毛玻璃I是于一表面上布滿數(shù)個不規(guī)則的凸起,而形成一粗糙面12 (亦稱為霧面或不平整表面),以使得當(dāng)光線14穿透該粗糙面12時(shí)產(chǎn)生散射的現(xiàn)象,形成不透明或是半透明的效果。
[0003]然而,以半導(dǎo)體產(chǎn)線而言,由于制造過程的結(jié)果,一晶圓盤必須貼附在一承載膜的一面,而該承載膜的另一面則具有一不平整的粗糙面,該不平整的粗糙面會使光線產(chǎn)生散射,導(dǎo)致該承載膜如同霧面玻璃一般無法被透視,在制程中無法自該不平整的粗糙面透視該晶圓盤;當(dāng)需要檢視施作于該晶圓盤的一集成電路時(shí),就必須要待切割程序完成后才可以將切割下的芯片分別抽出檢視,不僅耗時(shí)耗工,且增加損壞風(fēng)險(xiǎn)。
[0004]因此,是否有一種檢視方法,提供半導(dǎo)體產(chǎn)線可以從該不平整的粗糙面,檢視該承載膜后方的的晶圓盤,且不必分別抽出檢視,不僅減少檢查工序,降低檢查成本,還可以降低損壞風(fēng)險(xiǎn),提高制程良率進(jìn)而節(jié)省生產(chǎn)成本。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明揭露一種檢視方法,特別在于具有一不平整表面的基板的檢視方法。根據(jù)本發(fā)明的一范疇,一種具有不平整表面的基板的檢視方法,其可自一基板的一粗糙面檢視該基板。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例,一具有不平整表面的基板的檢視方法,包括:根據(jù)一預(yù)設(shè)選取規(guī)則決定一可透介質(zhì),再于一基板的一粗糙面加上該可透介質(zhì),以平整該粗糙面來檢視該基板。
[0007]其中,該選取規(guī)則是根據(jù)計(jì)算該可透介質(zhì)與該基板的一折射率差異值所設(shè)定。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例,可應(yīng)用于檢視一晶圓盤,該晶圓盤貼附有一具有一粗糙面的承載膜,藉由透視具有該粗糙面的該承載膜來檢視該晶圓盤,該檢視方法包括:提供一可透介質(zhì),再將該可透介質(zhì)施加于一基板的一粗糙面,以自該粗糙面檢視該基板。
[0009]其中,該可透介質(zhì)的一第一折射率與該基板的一第二折射率具有一折射率差異值。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例,應(yīng)用于檢視晶圓盤的檢視方法,其包括:將一基板的一粗糙面浸入或貼合一填充有一可透介質(zhì)的透明容器之中,再將該基板連動該透明容器進(jìn)行翻轉(zhuǎn),以供自該粗糙面檢視該基板。
[0011]其中,該可透介質(zhì)的一第一折射率與基板的一第二折射率具有一折射率差異值。
[0012]因此,相較傳統(tǒng)的檢視方法,本發(fā)明可應(yīng)用于檢視一晶圓盤,并且能從該承載膜的該粗糙面檢視施作于該晶圓盤的該集成電路,以減少檢查工序,降低檢查成本,避免需待切割之后才將芯片個別抽起而增加芯片毀損的風(fēng)險(xiǎn),不僅降低制程成本,也增加生產(chǎn)效率?!緦@綀D】
【附圖說明】
[0013]此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解,構(gòu)成本申請的一部分,本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0014]圖1為現(xiàn)有毛玻璃的透光示意圖。
[0015]圖2A為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法的一實(shí)施例的流程圖。
[0016]圖2B為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法的另一實(shí)施例的流程圖。
[0017]圖3為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法的實(shí)施示意圖。
[0018]圖4A為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視晶圓盤的一實(shí)施例的流程圖。
[0019]圖4B為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視晶圓盤的一實(shí)施例的流程圖。
[0020]圖4C為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視晶圓盤的一實(shí)施例的流程圖。
[0021]圖4D為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視晶圓盤的一實(shí)施例的流程圖。
[0022]圖4E為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視晶圓盤的一實(shí)施例的流程圖。
[0023]圖5為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視晶圓盤的又一實(shí)施例的流程圖。
[0024]圖6為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法應(yīng)用于檢視一晶圓盤的實(shí)施示意圖。
[0025]圖7A為本發(fā)明應(yīng)用于檢視晶圓盤,未添加可透介質(zhì)的一成像示意圖。
[0026]圖7B為本發(fā)明應(yīng)用于檢視晶圓盤,添加有可透介質(zhì)的另一成像不意圖。
[0027]圖7C為本發(fā)明應(yīng)用于檢視晶圓盤,添加有可透介質(zhì)并覆蓋透明物件層的又一成像示意圖。
[0028]【主要元件符號說明】
[0029]I 毛玻璃12粗糙面
[0030]14光線30可透介質(zhì)
[0031]32基板34粗糙面
[0032]36平整表面60可透介質(zhì)
[0033]62透明容器64基板
[0034]66粗糙面
【具體實(shí)施方式】
[0035]請參考圖2A所示,圖2A為本發(fā)明具有一不平整表面的基板的檢視方法的一實(shí)施例流程圖。于一實(shí)施例,具有不平整表面的基板的檢視方法,包括以下步驟:
[0036]S20根據(jù)一預(yù)設(shè)選取規(guī)則決定一可透介質(zhì);以及
[0037] S22于一基板的一粗糙面加上該可透介質(zhì),以平整該粗糙面來檢視該基板。[0038]其中,該選取規(guī)則以計(jì)算該可透介質(zhì)與該基板的一折射率差異值來設(shè)定,該折射率差異值的數(shù)值越小則透視度越好。舉例來說,當(dāng)該基板的折射率為Ii1,該可透介質(zhì)的折射率為n2,則該折射率差異值的計(jì)算方式可為:
[0039]
【權(quán)利要求】
1.一種具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,包括以下步驟: 根據(jù)一預(yù)設(shè)選取規(guī)則決定一可透介質(zhì);以及 于一基板的一粗糙面加上該可透介質(zhì),以平整該粗糙面來檢視該基板。
2.如權(quán)利要求1所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,另包括以下步驟: 于該可透介質(zhì)相對該基板的一側(cè),覆蓋一透明物件層。
3.如權(quán)利要求1所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該選取規(guī)則是根據(jù)計(jì)算該可透介質(zhì)與該基板的一折射差異值所設(shè)定。
4.如權(quán)利要求3所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該折射率差異値是介于0.0OOl至0.15之間。
5.如權(quán)利要求1所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為一固態(tài)介質(zhì)。
6.如權(quán)利要求1所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為一非固態(tài)介質(zhì)。
7.一種具有不平整表面的基板的檢視方法,將貼附有一承載膜的一晶圓盤作為一基板,該承載膜異于該晶圓盤的一側(cè)具有一粗糙面,其特征在于,該檢視方法包括: 提供一可透介質(zhì),其中,該可透介質(zhì)的一第一折射率與該基板的一第二折射率具有一折射率差異值;以及 將該可透介質(zhì)施加于該粗糙面,以自該粗糙面檢視該基板。
8.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,另包括: 于該可透介質(zhì)相對該基板的該粗糙面的一側(cè),覆蓋一透明物件層。
9.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,另包括: 將該可透介質(zhì)固化于該粗糙面,以防止該可透介質(zhì)脫離該粗糙面。
10.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,另包括: 將該可透介質(zhì)液化,使該可透介質(zhì)呈一液體狀態(tài)。
11.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,另包括: 翻轉(zhuǎn)該基板,使該可透介質(zhì)貼合于該粗糙面。
12.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該折射率差異值是介于0.0001至0.15之間。
13.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為一固態(tài)介質(zhì)。
14.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為一非固態(tài)介質(zhì)。
15.如權(quán)利要求7所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為鏡油或酒精。
16.—種具有不平整表面的基板的檢視方法,將貼附有一承載膜的一晶圓盤作為一基板,該承載膜異于該晶圓盤的一側(cè)具有一粗糙面,其特征在于,該檢視方法包括: 將該基板的該粗糙面浸入一填充有一可透介質(zhì)的透明容器之中,其中該可透介質(zhì)的一第一折射率與該基板的一第二折射率具有一折射率差異值;以及將該基板連動該透明容器進(jìn)行翻轉(zhuǎn),以供自該粗糙面檢視該基板。
17.如權(quán)利要求16所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為一固態(tài)介質(zhì)。
18.如權(quán)利要求16所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為一非固態(tài)介質(zhì)
19.如權(quán)利要求16所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該折射率差異值是介于0.0OOl至0.15之間。
20.如權(quán)利 要求16所述具有不平整表面的基板的檢視方法,其特征在于,該可透介質(zhì)為鏡油或酒精。
【文檔編號】H01L21/66GK103943524SQ201310021735
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2013年1月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月21日
【發(fā)明者】陳泰昌 申請人:源貿(mào)科技股份有限公司