專利名稱：一種固態(tài)圖像傳感器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及包括光敏元件(即像素)陣列以及布置在像素陣列之前的微透鏡陣列的類型的固態(tài)圖像傳感器的制造方法，并且更具體地涉及產(chǎn)生用于像素及其各自微透鏡的每一個(gè)微透鏡的改進(jìn)布局的方法。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的固態(tài)圖像傳感器，諸如CCD (電荷耦合器件)或CMOS (互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)包括光敏像素陣列。然而，不是所有的每個(gè)像素區(qū)都是光敏的并且沒(méi)有收集入射在非光敏的像素區(qū)的光，因此導(dǎo)致敏感度的損失和下降的性能。這特別是在主要用在移動(dòng)電話照相機(jī)或其他通常很小的移動(dòng)裝置的具有兆像素計(jì)數(shù)的小圖像傳感器的情形中。這種敏感度損失可以通過(guò)布置在像素前面的微透鏡陣列收集和聚焦光至其各自的像素的光敏區(qū)得以補(bǔ)償。此外從不垂直于傳感器表面的光線引起的敏感度損失(例如，“漸暈(vignetting) ”)也可以根據(jù)各自像素距圖像傳感器中心光學(xué)軸的距離通過(guò)移動(dòng)與其相應(yīng)像素相關(guān)的微透鏡的位置補(bǔ)償。這種圖像傳感器的一個(gè)示例在US2002/0079491中進(jìn)行了描述。特別是，以使用的微透鏡的主光線角度(CRA)與傳感器之間的數(shù)學(xué)關(guān)系移動(dòng)每一個(gè)微透鏡，因此產(chǎn)生像素陣列和微透鏡之間的對(duì)稱布置“失配”。另外一個(gè)用于制造具有像素陣列和成像透鏡出射光瞳的圖像傳感器的方法的具體示例在US2005/0266603有所描述。這種方法包括基于來(lái)自成像透鏡出射光瞳的光線的可接受入射角范圍相對(duì)于每個(gè)像素關(guān)聯(lián)的光敏感區(qū)域定位每個(gè)像素的透鏡。圖1 (a)和(b)中示出了一種可能布置的簡(jiǎn)化示例。圖1 (a)示出了簡(jiǎn)化像素陣列I的平面圖以及每個(gè)微透鏡4的中心軸3相對(duì)于它對(duì)應(yīng)像素7的中心軸5的的位置。每個(gè)微透鏡3根據(jù)每個(gè)微透鏡3相對(duì)于中心光軸9的位置確定的方向(例如dl、d2)且相對(duì)于圖像傳感器I的中心光軸9移動(dòng)一距離。圖1(b)示出了沿A-B的側(cè)視截面圖，并且光線具有偏向像素的感光區(qū)5的非垂直CRA。然而，對(duì)稱產(chǎn)生的“失配”可以引起圖像傳感器采樣擾動(dòng)干涉條紋，也已知為莫爾條紋(Moire pattern)。莫爾條紋是例如當(dāng)具有規(guī)則結(jié)構(gòu)(例如，諸如像素陣列的柵格條紋和微透鏡陣列定義的柵格條紋)的兩個(gè)實(shí)體以角度重疊時(shí)(例如相對(duì)于彼此旋轉(zhuǎn))，或當(dāng)這些規(guī)則條紋具有細(xì)微不同的網(wǎng)孔尺寸(即不同空間頻率)時(shí)產(chǎn)生的干涉條紋。圖2(a)和
(b)圖示了來(lái)自迭加?xùn)鸥窬€11和13的莫爾條紋的示例。迭加諸如像素陣列和微透鏡陣列的規(guī)則結(jié)構(gòu)并且相對(duì)于像素陣列移動(dòng)微透鏡，從而改變微透鏡陣列的空間頻率可以引起混迭效應(yīng)(aliasing effect),如通過(guò)圖像傳感器采樣的莫爾條紋。例如，Q)當(dāng)像素陣列相對(duì)地大(例如高像素照相機(jī))時(shí)，或Qi)當(dāng)微透鏡的CRA相對(duì)于像素間距的變化率相對(duì)地低時(shí)，采樣莫爾條紋的效率增加，從而導(dǎo)致在端圖像中可見(jiàn)的清晰的固定圖案噪聲。相應(yīng)地，需要提供一種具有降低諸如Moire效應(yīng)的混迭干涉采樣效率的改進(jìn)固態(tài)圖像傳感器，并且提 供一種這樣改進(jìn)的固態(tài)圖像傳感器的制造方法。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)第一方面，提供了一種制造包括像素陣列以及布置在所述像素陣列之前的相應(yīng)的微透鏡陣列的圖像傳感器的制造方法，所述方法包括以下步驟:(a)根據(jù)所述相應(yīng)像素與所述圖像傳感器光軸的距離計(jì)算每個(gè)所述微透鏡相對(duì)于其相應(yīng)像素的第一位置；(b)產(chǎn)生每個(gè)所述微透鏡的從所述各自計(jì)算的第一位置隨機(jī)偏移的第二位置；以及(C)在各自的第二位置放置每個(gè)所述微透鏡。所述偏移可以是在隨機(jī)徑向方向并且限制在從所述計(jì)算的第一位置的最大距離。這提供的效果在于，通過(guò)隨機(jī)偏移每個(gè)微透鏡從其計(jì)算的移動(dòng)位置(即相對(duì)于中心光軸確定的位置)的實(shí)際位置，隨機(jī)分布來(lái)自微透鏡陣列的移動(dòng)微透鏡條紋的空間頻率信息以便提供不同空間頻率并且有效消除Moire干涉。特別地，在圖像傳感器的制造過(guò)程中，在CAD (計(jì)算機(jī)輔·助設(shè)計(jì))系統(tǒng)上生成并使用像素陣列的布局以及其相應(yīng)的“移動(dòng)的”微透鏡陣列以便生成施加于光抗蝕劑層的掩膜，使得在光刻工藝期間將幾何布局和/或位置轉(zhuǎn)移至晶片。當(dāng)產(chǎn)生用于微透鏡陣列的CAD布局時(shí)，生成距每個(gè)微透鏡的計(jì)算的移動(dòng)位置的隨機(jī)偏移并將其應(yīng)用于微透鏡陣列布局。該新的微透鏡陣列布局仍然包括每個(gè)微透鏡相對(duì)于圖像傳感器中心光軸計(jì)算的移動(dòng)，但還并入從每一個(gè)那些計(jì)算的微透鏡位置的隨機(jī)偏移而不破壞計(jì)算的移動(dòng)布局的總的圖案。然而這些隨機(jī)偏移足夠“擾動(dòng)”空間頻率信息以便有效地最小化或甚至移除來(lái)自端圖片的Moire干涉而不妥協(xié)圖像質(zhì)量(最小劣化)。同樣，通過(guò)在計(jì)算的第一微透鏡位置附近提供用于偏移的限制區(qū)域(即距計(jì)算的第一位置的最大距離)，確保微透鏡的隨機(jī)擾動(dòng)不減損計(jì)算的微透鏡移動(dòng)的預(yù)定效果，或引入另一個(gè)可以引起另外的莫爾條紋的空間頻率。例如，如果隨機(jī)偏移太小，莫爾條紋可以仍然被采樣或可以甚至更準(zhǔn)確地被采樣。另一方面，如果隨機(jī)偏移相對(duì)于像素間距/尺寸太大，徑向強(qiáng)度帶(radial intensitybanding)也可能引入至端圖像中。利用在最大捕捉柵格分辨率的CAD軟件程序可以實(shí)現(xiàn)步驟(a)、(b)和(C)。這提供的效果在于，能夠在最大精度產(chǎn)生像素陣列和微透鏡位置的布局，從而最小化可能由不準(zhǔn)確放置引入的誤差。特別地，當(dāng)前的像素陣列和徑向微透鏡布局CAD系統(tǒng)可以提供在大約2.5nm或5.0nm柵格捕捉間距的最大捕捉柵格分辨率。最大距離可以取決于所述像素尺寸和/或所述CAD軟件程序的所述最大捕捉柵格分辨率。例如，在當(dāng)前可用的高分辨率像素陣列，最大捕捉柵格分辨率可以足夠充足地準(zhǔn)確產(chǎn)生像素陣列和各自微透鏡的布局。因此，最大偏移(最大距離)可以通過(guò)最大捕捉柵格分辨率(即不大于所使用的捕捉柵格間隔)限制以便最小化針對(duì)每個(gè)微透鏡距初始計(jì)算的第一位置轉(zhuǎn)移太多而可能引入的任何其他誤差。另一方面，具有較大像素尺寸(間距)的較小的分辨率像素陣列可以允許比可用最小捕捉柵格間隔大的并且根據(jù)實(shí)際像素尺寸(間距)限制的最大偏移(即最大距離)。第二位置可以通過(guò)適用于處理所述計(jì)算的第一位置的軟件子程序生成。軟件子程序可以利用隨機(jī)數(shù)生成器。軟件子程序可以嵌入在所述CAD軟件程序中。
這提供的效果在于，可用的CAD軟件程序能夠更新或升級(jí)至包括執(zhí)行本實(shí)施例要求的(多個(gè))附加功能。特別是，利用當(dāng)前計(jì)算機(jī)系統(tǒng)和操作系統(tǒng)容易獲得隨機(jī)數(shù)生成器，并且可以通過(guò)處理包括計(jì)算的第一位置的數(shù)據(jù)的軟件子程序利用隨機(jī)數(shù)發(fā)生器以確定對(duì)于每一個(gè)計(jì)算的第一位置按隨機(jī)方向并且按距各自計(jì)算的第一位置的隨機(jī)距離偏移的第二位置。同樣，子程序可以考慮諸如像素尺寸(間距)以及當(dāng)前使用的捕捉柵格間隔(例如最小可用捕捉柵格間隔)之類的參數(shù)將偏移(即距初始計(jì)算的第一位置的距離)限制至距所述計(jì)算的第一位置的最大距離(例如不大于所使用的柵格間隔，或不大于像素間距的10%等)。同樣，將軟件子程序嵌入至已有的CAD軟件或操作系統(tǒng)提供的效果在于，僅需要增加源代碼或?qū)σ延邢到y(tǒng)進(jìn)行修改。然而，也可以從連接至計(jì)算機(jī)的外部裝置提供軟件子程序以便與CAD軟件通信從而處理計(jì)算的第一位置的數(shù)據(jù)并且提供第二、偏移位置的數(shù)據(jù)。外部裝置可以是經(jīng)由USB標(biāo)準(zhǔn)連接至計(jì)算機(jī)并且與計(jì)算機(jī)通信的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)。然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解可以使用任何其他適用于存儲(chǔ)和/或執(zhí)行軟件子程序并且物理或無(wú)線連接至計(jì)算機(jī)的外部裝置。根據(jù)第二方面，提供了一種包含像素陣列和布置在像素陣列之前的相應(yīng)的微透鏡陣列的固態(tài)圖像傳感器，其中根據(jù)在第一方面描述的方法確定每個(gè)所述微透鏡相對(duì)于其相應(yīng)的像素的放置。根據(jù)第三方面，提供了包括如在第二方面描述的固態(tài)圖像傳感器的圖像系統(tǒng)。根據(jù)第四方面，提供了包括如第二方面描述的固態(tài)圖像傳感器的照相機(jī)。根據(jù)第五方面，提供了包括如第二方面描述的固態(tài)圖像傳感器的移動(dòng)通信裝置。根據(jù)第六方面，提供了存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)指令的程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其中指令適用于執(zhí)行如第一方面描述的方法。這提供的效果在于，能夠考`慮系統(tǒng)的當(dāng)前可用最小捕捉柵格間隔以及像素陣列的當(dāng)前像素間距，對(duì)CAD系統(tǒng)進(jìn)行追加地編程或升級(jí)以自動(dòng)引入隨機(jī)偏移。因此，當(dāng)生成用于圖像傳感器的光刻掩膜布局時(shí)可簡(jiǎn)單地將偏移整合至當(dāng)前可用標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)流程中。


現(xiàn)在將僅通過(guò)示例且不進(jìn)行任何限定的方式參照附圖描述優(yōu)選的實(shí)施例，在附圖中:圖1(a)示出了具有像素陣列和對(duì)應(yīng)的微透鏡陣列的已知圖像傳感器的示意平面圖，其中每個(gè)微透鏡根據(jù)其距圖像傳感器的中心光軸的位置移動(dòng)，圖1(b)示出了圖1(a)中的圖像傳感器的一部分的簡(jiǎn)化示意截面?zhèn)纫晥D，其進(jìn)一步示出了偏向圖像傳感器光感區(qū)中心的光線，圖2(a)和(b)示出了從“移動(dòng)的”柵格條紋生成的簡(jiǎn)單莫爾條紋的兩個(gè)示例，圖3示出了使用光掩膜的典型光刻過(guò)程的簡(jiǎn)化功能圖，圖4示出了包括像素陣列和對(duì)應(yīng)的隨機(jī)偏移微透鏡的一個(gè)實(shí)施例的圖像傳感器布局的簡(jiǎn)化示意平面圖，圖5示出了如圖3所示的圖像傳感器在CAD系統(tǒng)的最小可用捕捉柵格間隔下的一個(gè)像素以及對(duì)應(yīng)微透鏡的布局的近距離視圖，其包括微透鏡的計(jì)算的移動(dòng)位置和偏移位置，圖6示出了如圖3所示的圖像傳感器利用CAD系統(tǒng)的較大捕捉柵格間隔的一個(gè)像素以及對(duì)應(yīng)的微透鏡的替代布局的近距離視圖，并且進(jìn)一步示出了由相對(duì)于計(jì)算的移動(dòng)位置的較大捕捉柵格引入的放置誤差，以及
圖7(a)示出了一個(gè)實(shí)施例的、且根據(jù)本發(fā)明制造的圖像傳感器，以及 圖7(b)示出了包括具有如圖7(a)中所示的圖像傳感器的照相機(jī)的移動(dòng)裝置的簡(jiǎn)化示例。
具體實(shí)施例方式參閱圖3，當(dāng)制造CXD或CMOS圖像傳感器時(shí)，諸如光刻的工藝被用于在晶片上產(chǎn)生微圖案。在蝕刻出微圖案之前，光抗蝕劑層暴露于用于從光掩膜12傳遞幾何圖案的光
10。然后一系列化學(xué)處理或?qū)⒈┞兜膱D案雕刻入光抗蝕劑下面的材料中或允許在光抗蝕劑下面的材料之上以期望的圖案沉積新材料。用于光掩膜12的圖像源自通常從CAD (計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì))系統(tǒng)創(chuàng)建的計(jì)算機(jī)化的數(shù)據(jù)文檔。因此，為產(chǎn)生用于實(shí)施例的圖像傳感器的像素陣列和微透鏡的相應(yīng)位置，光掩膜12的布局優(yōu)選地在轉(zhuǎn)移相應(yīng)圖案至光掩膜12之前在CAD系統(tǒng)上產(chǎn)生，其然后用來(lái)制造實(shí)施例的圖像傳感器。現(xiàn)在參閱圖4至圖6，公開(kāi)了一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例。圖4示出了包括像素陣列110和微透鏡陣列130的圖像傳感器100的簡(jiǎn)化的“不按比例”的示例，像素陣列110具有布置于正方形柵格圖案中的多個(gè)像素120，微透鏡陣列130具有每個(gè)根據(jù)相對(duì)于圖像傳感器的中心光軸150的像素位置從其相應(yīng)的像素中心移動(dòng)的多個(gè)(對(duì)應(yīng)每個(gè)像素一個(gè)的)微透鏡140，其中每個(gè)微透鏡的位置然后進(jìn)一步從計(jì)算的“移動(dòng)”位置隨機(jī)地偏移。優(yōu)選地，偏移處于從計(jì)算的移動(dòng)位置的隨機(jī)徑向方向并且限制隨機(jī)偏移的最大距離。在圖像傳感器包括使用最大可用捕捉柵格分辨率以產(chǎn)生光掩膜的布局的最大可用分辨率的像素陣列的情況下，將從初始計(jì)算的移動(dòng)位置的偏移限定在比CAD軟件程序的最小捕捉柵格間隔小的距初始計(jì)算的移動(dòng)位置的最大距離。在圖像傳感器包括較低分辨率即像素尺寸比實(shí)際可能的最小像素尺寸大的情況中，則將從初始計(jì)算的移動(dòng)位置的偏移限定在取決于較大像素尺寸的距初始計(jì)算移動(dòng)位置的最大距離。限定(即最大距離)的隨機(jī)偏移確保相對(duì)于像素陣列110的像素120移動(dòng)微透鏡140從而降低“漸暈”的效果沒(méi)有丟失。因此，在微透鏡的計(jì)算的移動(dòng)位置周圍的隨機(jī)偏移改變了移動(dòng)的微透鏡陣列130的空間頻率，從而降低圖像傳感器用于采樣Moire干涉的效率。為了生成隨機(jī)偏移，應(yīng)當(dāng)理解的是可以使用任何已知手段。例如，可以使用利用隨機(jī)數(shù)生成器的計(jì)算機(jī)執(zhí)行的軟件子程序以計(jì)算對(duì)于每個(gè)微透鏡140的隨機(jī)分配的偏移位置。然而，應(yīng)當(dāng)理解的是本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以使用適于在計(jì)算的移動(dòng)位置周圍的預(yù)定限制區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生隨機(jī)位置的任何其他隨機(jī)選擇(計(jì)算機(jī)執(zhí)行的和非計(jì)算機(jī)執(zhí)行的)。然而，優(yōu)選地可以通過(guò)用嵌入在通常使用的CAD軟件程序的源代碼中的并且適用于處理初始計(jì)算的 移動(dòng)位置以生成并且執(zhí)行圖像傳感器布局的隨機(jī)偏移位置的軟件子程序升級(jí)CAD軟件程序以生成隨機(jī)偏移。圖5示出了代表性像素160、計(jì)算的移動(dòng)位置170和計(jì)算機(jī)生成的微透鏡140的隨機(jī)偏移位置175的特寫(xiě)示例。圍繞計(jì)算的移動(dòng)位置的虛線圈代表根據(jù)像素尺寸確定的最大允許隨機(jī)偏移限制178(例如，當(dāng)使用較大像素以產(chǎn)生較小分辨率圖像傳感器時(shí))。在使用最小可用柵格間隔dmin產(chǎn)生用于當(dāng)前最大可能像素陣列分辨率的布局(即最小像素尺寸)的情形中，實(shí)際柵格間隔將定義最大允許隨機(jī)偏移的限制?？商娲氐遣皇莾?yōu)選地，隨機(jī)偏移可以利用用于產(chǎn)生掩膜布局的CAD系統(tǒng)的捕捉柵格160生成。特別地，當(dāng)產(chǎn)生用于像素陣列110和對(duì)應(yīng)的微透鏡140的計(jì)算的移動(dòng)位置的布局時(shí)，如圖5中所示可以使用通過(guò)CAD系統(tǒng)提供的全放置精度(即捕捉柵格160的最大分辨率)?？捎玫淖钚〔蹲綎鸥耖g隔dmin可以是提供最大分辨率放置精度的2.5nm或5nm。如果在將微透鏡放置在它們計(jì)算的移動(dòng)位置時(shí)，使用相同的捕捉柵格間隔Clmin,每個(gè)微透鏡140將會(huì)被放置在它們對(duì)應(yīng)的計(jì)算的移動(dòng)位置。然而，通過(guò)增加捕捉柵格間隔dmin至Cl1并且隨后降低捕捉柵格160的分辨率，如圖6所示在微透鏡140的計(jì)算的移動(dòng)位置170和微透鏡140的實(shí)際放置位置(“被捕捉”至較大捕捉柵格)180之間引入了放置誤差。通過(guò)增加的捕捉柵格間隔Cl1實(shí)現(xiàn)的放置準(zhǔn)確度可以在當(dāng)產(chǎn)生像素陣列布局時(shí)使用的最小可用捕捉柵格間隔dmin(例如2.5nm、5.0nm)的10%的最小值和針對(duì)像素陣列布局使用的像素間距的20%的最大值之間。例如，在1.4um的像素間距和5nm的最小捕捉柵格間隔dmin的情況下，微透鏡放置分辨率的界限應(yīng)在280nm和0.5nm之間，即在距計(jì)算的移動(dòng)位置170的任何徑向方向的0.5nm和280nm的距離之內(nèi)。因此，在可替代的示例中，為了生成每一個(gè)微透鏡140的隨機(jī)偏移，所有的要求為當(dāng)將微透鏡140放置在它們各自的計(jì)算的移動(dòng)位置170時(shí)改變捕捉柵格間隔。捕捉柵格間隔還可以調(diào)諧至匹配微透鏡的CRA對(duì)像素間距的變化率。包含實(shí)施例特征的圖像傳感器200在圖7(a)中示出。特別地，已經(jīng)使用掩膜布局制造了圖像傳感器200，其中在比生成像素陣列110和計(jì)算的移動(dòng)位置170時(shí)使用的最小可用捕捉柵格間隔dmin更大的捕捉柵格間隔dl相對(duì)于對(duì)應(yīng)的像素110放置微透鏡140，從而產(chǎn)生針對(duì)每一個(gè)微透鏡140的隨 機(jī)偏移。應(yīng)當(dāng)理解的是替代方案是從計(jì)算的移動(dòng)位置產(chǎn)生隨機(jī)偏移的許多可能方式中的一種，并且可能不是實(shí)際上生成針對(duì)微透鏡140的隨機(jī)偏移布局位置的優(yōu)選方法。圖7(b)中示出了包含圖像傳感器200的移動(dòng)裝置300。移動(dòng)裝置300可以是包含照相機(jī)的移動(dòng)電話。雖然該詳細(xì)的說(shuō)明書(shū)已經(jīng)提出一些實(shí)施例，附加權(quán)利要求覆蓋了根據(jù)多種修正和改進(jìn)的不同于描述的實(shí)施例的其他實(shí)施例。例如每個(gè)微透鏡140從其計(jì)算的移動(dòng)位置170的隨機(jī)偏移可以通過(guò)其他能夠在CAD系統(tǒng)中執(zhí)行的任何合適裝置生成。此外，可以在光刻工藝期間或在生成以及將微透鏡130陣列放置在像素陣列110上的制造步驟期間生成針對(duì)每個(gè)微透鏡140從其計(jì)算的移動(dòng)位置的隨機(jī)偏移。
權(quán)利要求
1.一種用于制造包括像素陣列和布置在所述像素陣列之前的相應(yīng)的微透鏡陣列的圖像傳感器的制造方法，所述方法包括步驟: (a)根據(jù)所述微透鏡的相應(yīng)像素距所述圖像傳感器光軸的距離，計(jì)算每一個(gè)所述微透鏡相對(duì)于所述相應(yīng)像素的第一位置； (b)生成每個(gè)所述微透鏡的從所述各自計(jì)算的第一位置隨機(jī)偏移的第二位置； (C)將每個(gè)所述微透鏡放置在各自的第二位置。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述偏移處于隨機(jī)徑向方向并且限制于距所述計(jì)算的第一位置的最大距離。
3.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中利用CAD軟件程序在最大捕捉柵格分辨率實(shí)現(xiàn)步驟(a)、(b)和(C)。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，當(dāng)從屬于權(quán)利要求2時(shí)，其中所述最大距離取決于所述像素的尺寸和/或所述CAD軟件程序的所述最大捕捉柵格分辨率。
5.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述第二位置通過(guò)適用于處理所述計(jì)算的第一位置的軟件子程序生成。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其中所述軟件子程序利用隨機(jī)數(shù)生成器。
7.如權(quán)利要求5或6所述的方法，當(dāng)從屬于權(quán)利要求3時(shí)，其中所述軟件子程序嵌入在所述CAD軟件程序中。
8.一種固態(tài)圖像傳感器，包括像素陣列和布置在所述像素陣列之前的相應(yīng)的微透鏡陣列，其中根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法確定每個(gè)所述微透鏡相對(duì)于其相應(yīng)的像素的放置。
9.一種成像系統(tǒng)，包括如權(quán)利要求8中所述的固態(tài)圖像傳感器。
10.一種照相機(jī)，包括如權(quán)利要求8中所述的固態(tài)圖像傳感器。
11.一種移動(dòng)通訊裝置，包括如權(quán)利要求8中所述的固態(tài)圖像傳感器。
12.—種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)指令的程序，其中所述指令適用于執(zhí)行權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的方法。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種固態(tài)圖像傳感器及其制造方法。該制造方法包括以下步驟根據(jù)所述相應(yīng)像素與所述圖像傳感器光軸的距離計(jì)算每個(gè)所述微透鏡相對(duì)于其相應(yīng)像素的第一位置；產(chǎn)生每個(gè)所述微透鏡的從所述各自計(jì)算的第一位置隨機(jī)偏移的第二位置；以及在各自的第二位置放置每個(gè)所述微透鏡。本發(fā)明通過(guò)隨機(jī)偏移每個(gè)微透鏡從其計(jì)算的移動(dòng)位置的實(shí)際位置，隨機(jī)分布來(lái)自微透鏡陣列的移動(dòng)微透鏡條紋的空間頻率信息以便提供不同空間頻率，從而有效消除了莫爾干涉。
文檔編號(hào)H01L27/146GK103247643SQ20131003102
公開(kāi)日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2013年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月1日
發(fā)明者R·尼科爾, C·威爾金森, B·赫恩 申請(qǐng)人:意法半導(dǎo)體(R&D)有限公司