專利名稱：一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置。
背景技術(shù)：
顯示器作為顯示工具，在人們的日常生活中扮演著越來越重要的角色。且隨著技術(shù)的不斷更新，人們對顯示器的要求也越來越高。例如人們要求其具有高亮度、寬視角、高分辨率等。其中，現(xiàn)有技術(shù)中，一種提聞顯不器売度的方法為提聞光的利用效率?，F(xiàn)有的顯不器，包括陣列基板，如圖1、圖2所示，所述陣列基板包括基板I以及設(shè)置在所述基板I上的柵線2、數(shù)據(jù)線4以及公共電極線6，其中，柵線2和數(shù)據(jù)線4圍成的區(qū)域稱為像素區(qū)，在像素區(qū)設(shè)置有薄膜晶體管3等器件，像素區(qū)除薄膜晶體管3等器件之外的區(qū)域為顯示區(qū)。如圖2所示，光線穿過顯示區(qū)要依次經(jīng)過基板I以及設(shè)置在基板I上面的柵絕緣層7、鈍化層8和像素電極層5。而要想提高光的利用效率就要提高基板、柵絕緣層、鈍化層以及像素電極層等的透過率，以減小光的損失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置，所述透明薄膜包括至少三個子層，且所述至少三個子層的折射率依排列順序依次變化，使得所述透明薄膜的透過率更高。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:本發(fā)明實施例提供了一種透明薄膜，包括層疊的至少三個子層，所述至少三個子層的折射率各不相同，且位于最底層和最頂層之間的任一個子層的折射率介于與其相鄰的兩個子層的折射率之間?？蛇x的，形成所述透明薄膜的材料為氮化硅。本發(fā)明實施例提供了一種透明薄膜的制作方法，包括:設(shè)置初始工藝條件，形成所述透明薄膜的初始子層；按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調(diào)節(jié)所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準(zhǔn)、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續(xù)子層。可選的，所述設(shè)置初始工藝條件包括:設(shè)置初始的生成溫度、生成壓力、功率以及
氣體流量?？蛇x的，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調(diào)節(jié)所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準(zhǔn)、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續(xù)子層包括:采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層；一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層；或者，采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層；一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層?？蛇x的，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調(diào)節(jié)所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準(zhǔn)、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續(xù)子層包括:采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層；一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層；或者，采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層；一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層。本發(fā)明實施例提供了一種顯示用基板，包括:基板以及設(shè)置在所述基板上的多個像素結(jié)構(gòu)；所述像素結(jié)構(gòu)分為透光區(qū)和非透光區(qū)，且所述像素結(jié)構(gòu)中位于所述透光區(qū)的部分包括多個的透明薄膜，其中，所述至少一個透明薄膜為本發(fā)明實施例提供的任一所述的薄膜?？蛇x的，所述顯示用基板為陣列基板，每一像素結(jié)構(gòu)中的一個所述透明薄膜為柵絕緣層的部分，或為鈍化層的部分。本發(fā)明提供了一種顯示用基板，包括:基板以及設(shè)置在所述基板上的多個像素結(jié)構(gòu)；所述像素結(jié)構(gòu)分為透光區(qū)和非透光區(qū)，且所述像素結(jié)構(gòu)中位于所述透光區(qū)的部分包括多個透明薄膜，且所述多個透明薄膜中至少三個相鄰的透明薄膜的折射率依排列順序依次變化。本發(fā)明提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的任一所述的顯示用基板。本發(fā)明實施例提供的一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置，相對包括兩個子層的現(xiàn)有透明薄膜，所述透明薄膜包括至少三個子層，所述至少三個子層的折射率各不相同，且所述至少三個子層的折射率依排列順序依次變化，即位于最底層和最頂層之間的任一個子層的折射率介于與其相鄰的兩個子層的折射率之間，使得所述透明薄膜的透過率更高。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種陣列基板局部俯視結(jié)構(gòu)不意圖2為圖1所示陣列基板的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實施例提供的一種透明薄膜；圖4為本發(fā)明實施例提供的一種陣列基板的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明實施例提供的一種制作透明薄膜的方法示意圖；圖6為本發(fā)明實施例提供的一種制作柵絕緣薄膜的制作方法示意圖；附圖標(biāo)記:1-基板；2-柵線；3_薄膜晶體管；4_數(shù)據(jù)線；5_像素電極層；6-公共電極線；7-柵絕緣層；8_鈍化層；10_透明薄膜；101_第一子層；102_第二子層；103_第三子層。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。需要說明的是，當(dāng)光從折射率為nl的介質(zhì)入射至折射率為n2的介質(zhì)時，其在界面處會同時發(fā)生光的反射和折射，進(jìn)而形成光的損失。根據(jù)光學(xué)基本定理菲涅爾方程，其反射率R以及透過率T與介質(zhì)的折射率的關(guān)系為:
權(quán)利要求
1.一種透明薄膜，其特征在于，包括層疊的至少三個子層，所述至少三個子層的折射率各不相同，且位于最底層和最頂層之間的任一個子層的折射率介于與其相鄰的兩個子層的折射率之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明薄膜，其特征在于，形成所述透明薄膜的材料為氮化硅。
3.—種透明薄膜的制作方法，其特征在于，包括: 設(shè)置初始工藝條件，形成所述透明薄膜的初始子層； 按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調(diào)節(jié)所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準(zhǔn)、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續(xù)子層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述設(shè)置初始工藝條件包括:設(shè)置初始的生成溫度、生成壓力、功率以及氣體流量。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調(diào)節(jié)所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準(zhǔn)、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續(xù)子層包括: 采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層； 一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層； 或者， 采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層； 一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調(diào)節(jié)所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準(zhǔn)、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續(xù)子層包括: 采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層； 一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層； 或者， 采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成第二子層； 一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調(diào)節(jié)方式，形成一個或多個后續(xù)子層。
7.—種顯示用基板，包括:基板以及設(shè)置在所述基板上的多個像素結(jié)構(gòu)；所述像素結(jié)構(gòu)分為透光區(qū)和非透光區(qū)，且所述像素結(jié)構(gòu)中位于所述透光區(qū)的部分包括多個透明薄膜，其特征在于，至少一個所述透明薄膜為權(quán)利要求1或2所述的薄膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示用基板，其特征在于，所述顯示用基板為陣列基板，每一像素結(jié)構(gòu)中的一個所述透明薄膜為柵絕緣層，或為鈍化層。
9.一種顯示用基板，包括:基板以及設(shè)置在所述基板上的多個像素結(jié)構(gòu)；所述像素結(jié)構(gòu)分為透光區(qū)和非透光區(qū)，且所述像素結(jié)構(gòu)中位于所述透光區(qū)的部分包括多個透明薄膜，其特征在于，所述多個透明薄膜中至少三個相鄰的透明薄膜的折射率依排列順序依次變化。
10.一種顯示裝置 ，其特征在于，包括權(quán)利要求7-9任一項所述的顯示用基板。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有的透明薄膜透過率低的問題。一種透明薄膜，包括層疊的至少三個子層，所述至少三個子層的折射率各不相同，且位于最底層和最頂層之間的任一個子層的折射率介于與其相鄰的兩個子層的折射率之間。本發(fā)明適用于顯示裝置的制造領(lǐng)域。
文檔編號H01L21/28GK103165680SQ201310072120
公開日2013年6月19日 申請日期2013年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月7日
發(fā)明者冀新友, 王德帥 申請人:北京京東方光電科技有限公司