專(zhuān)利名稱(chēng)：調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法及系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基于預(yù)先產(chǎn)量分析的動(dòng)態(tài)調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
隨著集成電路技術(shù)工藝的不斷提高和生產(chǎn)成本的不斷提升，晶圓生產(chǎn)企業(yè)往往以增加增快流片數(shù)量來(lái)獲得更多經(jīng)濟(jì)效益。由此需要更加注重對(duì)晶圓缺陷的控制，避免某一流程出現(xiàn)問(wèn)題影響到更多的晶圓生產(chǎn)，造成巨大的經(jīng)濟(jì)損失。針對(duì)后段銅制程工藝流程，包括銅阻擋層工藝階段到銅金屬層工藝階段，銅金屬層工藝階段到銅化學(xué)研磨層工藝階段，銅化學(xué)研磨層工藝階段到化學(xué)氣相沉積層工藝階段，在上述3個(gè)不同的工藝階段中每個(gè)步驟停留的時(shí)間間隔長(zhǎng)短會(huì)直接影響到晶圓的缺陷情況，造成產(chǎn)品良率不良。目前針對(duì)這3個(gè)工藝流程，在自動(dòng)化不完善的情況下普遍采用的是在不同的工藝步驟上控制停留時(shí)間，產(chǎn)品從結(jié)束某個(gè)工藝流程時(shí)開(kāi)始計(jì)時(shí)，晶圓在規(guī)定時(shí)間內(nèi)繼續(xù)下一個(gè)工藝步驟則計(jì)時(shí)清零并在需要的站點(diǎn)上重新計(jì)時(shí)，如果超過(guò)規(guī)定的停留時(shí)間就直接將產(chǎn)品派給相關(guān)的部門(mén)使其盡快處理。在這種情況下，如果這3個(gè)工藝步驟中的任何一個(gè)后續(xù)工藝流程生產(chǎn)機(jī)器出現(xiàn)問(wèn)題無(wú)法有效及時(shí)處理產(chǎn)品，就算在全自動(dòng)化的生產(chǎn)車(chē)間內(nèi)也會(huì)使大量產(chǎn)品堆積在某站點(diǎn)并超過(guò)規(guī)定停留時(shí)間，從而影響到晶圓良率。因此，需要一種基于預(yù)先分析產(chǎn)量的動(dòng)態(tài)調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段的產(chǎn)能的方法和系統(tǒng)，能平衡各個(gè)工藝階段的產(chǎn)能和負(fù)載，避免產(chǎn)品在具有停留時(shí)間限制的停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)而影響良率，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)能和品質(zhì)雙贏。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決 的問(wèn)題是提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法和系統(tǒng)，能夠基于預(yù)先分析當(dāng)前工藝階段的未來(lái)負(fù)載，實(shí)現(xiàn)對(duì)相關(guān)工藝階段產(chǎn)能的自動(dòng)調(diào)整，平衡各工藝階段之間的產(chǎn)能，使生產(chǎn)機(jī)臺(tái)盡可能多的生產(chǎn)產(chǎn)品又保證產(chǎn)品在規(guī)定的停留時(shí)間內(nèi)進(jìn)行后續(xù)的生產(chǎn)加工，從而避免良率的影響，達(dá)到產(chǎn)能和品質(zhì)的雙贏。為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法，包括:獲得具有停留時(shí)間限制的當(dāng)前工藝階段，獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目；基于所述當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目，獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間；若所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定停留時(shí)間，則減小前一工藝階段的產(chǎn)能，反之，預(yù)計(jì)增大前一工藝階段的產(chǎn)能之后的當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則增大前一工藝階段產(chǎn)能，反之，則維持前一工藝階段的產(chǎn)倉(cāng)泛。
可選地，所述當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段?？蛇x地，所述當(dāng)前工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段，所述前一工藝階段為銅金屬層工藝階段。可選地，所述當(dāng)前工藝階段為化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述前一工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段。相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)，包括:當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間分析子系統(tǒng)，用于獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目，用于獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間；自動(dòng)產(chǎn)能監(jiān)控分析子系統(tǒng)，基于所述最大停留時(shí)間與所述規(guī)定停留時(shí)間進(jìn)行比較，當(dāng)所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定時(shí)間，則產(chǎn)生減小前一工藝階段的產(chǎn)能的指令；當(dāng)所述最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定時(shí)間，則預(yù)計(jì)增大前一工藝階段產(chǎn)能之后當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述最大預(yù)計(jì)停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則產(chǎn)生增大前一工藝階段產(chǎn)能的指令，反之，則產(chǎn)生維持前一工藝階段的產(chǎn)能的指令；產(chǎn)能調(diào)整子系統(tǒng)，用于基于所述自動(dòng)產(chǎn)能監(jiān)控分析子系統(tǒng)產(chǎn)生的指令對(duì)所述前一工藝階段的產(chǎn)能進(jìn)行調(diào)整?？蛇x地，所述當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段。可選地，所述當(dāng)前工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段，所述前一工藝階段為銅金屬層工藝階段?？蛇x地，所述當(dāng)前工藝階段為化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述前一工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法和系統(tǒng)，能夠基于預(yù)先分析當(dāng)前工藝階段的未來(lái)負(fù)載，實(shí)現(xiàn)對(duì)相關(guān)工藝階段產(chǎn)能的自動(dòng)調(diào)整，平衡各工藝階段之間的產(chǎn)能，使生產(chǎn)機(jī)臺(tái)盡可能多的生產(chǎn)產(chǎn)品又保證產(chǎn)品在規(guī)定的停留時(shí)間內(nèi)進(jìn)行后續(xù)的生產(chǎn)加工。從而避免良率的影響，達(dá)到產(chǎn)能和品質(zhì)的雙贏。


圖1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法的流程不意圖。
具體實(shí)施例方式為了能夠合理配置各工藝階段的產(chǎn)能，實(shí)現(xiàn)品質(zhì)與產(chǎn)能雙贏，本發(fā)明提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法，請(qǐng)參考圖1所示的本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法的流程示意圖，包括:步驟SI，獲得具有停留時(shí)間限制的當(dāng)前 工藝階段，獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目；
步驟S2，基于所述當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目，獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間；步驟S3，若所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定停留時(shí)間，則減小前一工藝階段的產(chǎn)能，反之，預(yù)計(jì)增大前一工藝階段的產(chǎn)能之后的當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則增大前一工藝階段產(chǎn)能，反之，則維持前一工藝階段的產(chǎn)能。本發(fā)明所述的方法可以應(yīng)用于半導(dǎo)體制造流程的任何一個(gè)具有停留時(shí)間限制的工藝流程。作為一個(gè)實(shí)施例，本發(fā)明的方法應(yīng)用于從銅阻擋層工藝階段到銅金屬層工藝階段。所述當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段。作為本發(fā)明的又一實(shí)施例，本發(fā)明的方法應(yīng)用于銅金屬層工藝階段到銅化學(xué)機(jī)械研磨階段，所述當(dāng)前工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段，所述前一工藝階段為銅金屬層工藝階段。作為本發(fā)明的再一實(shí)施例，本發(fā)明的方法應(yīng)用于銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段到化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述當(dāng)前工藝階段為化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述前一工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段。 為了便于說(shuō)明，作為一個(gè)實(shí)施例，以當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段為例進(jìn)行說(shuō)明。為了便于說(shuō)明，以小時(shí)作為時(shí)間單位，以單位小時(shí)的產(chǎn)品個(gè)數(shù)作為產(chǎn)能的單位，在實(shí)際中，規(guī)定停留時(shí)間的單位和產(chǎn)能的單位可以根據(jù)需要進(jìn)行靈活的選擇，并不影響本發(fā)明的方法的實(shí)施例。首先，獲得所述當(dāng)前工藝階段(銅金屬層工藝階段)的停規(guī)定停留時(shí)間為4小時(shí)，其產(chǎn)能為I個(gè)產(chǎn)品每小時(shí)，目前有該當(dāng)前工藝階段(銅金屬層工藝階段)的待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目為3個(gè)。然后，基于上述產(chǎn)能以及待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目計(jì)算，當(dāng)前工藝階段(銅金屬層工藝階段)的最大停留時(shí)間為2小時(shí)。接著，將所述最大停留時(shí)間與規(guī)定停留時(shí)間進(jìn)行比較，本實(shí)施例中，所述最大停留時(shí)間(2小時(shí))小于規(guī)定停留時(shí)間(4小時(shí))，則需要預(yù)計(jì)增加前一工藝階段(銅阻擋層工藝階段)產(chǎn)能后，當(dāng)前工藝階段(銅金屬層工藝階段)的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間。前一工藝階段(銅阻擋層工藝階段)目前的產(chǎn)能為I個(gè)產(chǎn)品每小時(shí)，若將前一工藝階段(銅阻擋層工藝階段)的產(chǎn)能增加為2個(gè)小時(shí)，則下一時(shí)間段，預(yù)計(jì)將有2個(gè)產(chǎn)品至所述當(dāng)前工藝階段(銅金屬層工藝階段)，所述當(dāng)前工藝階段(銅金屬層工藝階段)的待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目將變?yōu)?個(gè)，最大停留時(shí)間為4小時(shí)，仍然小于規(guī)定停留時(shí)間，因此，增大前一工藝階段(銅阻擋層工藝階段)的工藝產(chǎn)能。在下一時(shí)間段，重復(fù)上述步驟，對(duì)當(dāng)前工藝階段的產(chǎn)能進(jìn)行判斷即可。相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)，包括:當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間分析子系統(tǒng)，用于獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目，用于獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間；自動(dòng)產(chǎn)能監(jiān)控分析子系統(tǒng)，基于所述最大停留時(shí)間與所述規(guī)定停留時(shí)間進(jìn)行比較，當(dāng)所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定時(shí)間，則產(chǎn)生減小前一工藝階段的產(chǎn)能的指令；當(dāng)所述最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定時(shí)間，則預(yù)計(jì)增大前一工藝階段產(chǎn)能之后當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述最大預(yù)計(jì)停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則產(chǎn)生增大前一工藝階段產(chǎn)能的指令，反之，則產(chǎn)生維持前一工藝階段的產(chǎn)能的指令；產(chǎn)能調(diào)整子系統(tǒng)，用于基于所述自動(dòng)產(chǎn)能監(jiān)控分析子系統(tǒng)產(chǎn)生的指令對(duì)所述前一工藝階段的產(chǎn)能進(jìn)行調(diào)整。作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，本發(fā)明所述的系統(tǒng)可以用于銅阻擋層工藝階段至銅金屬層工藝階段，所述當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段。作為本發(fā)明的又一實(shí)施例，所述當(dāng)前工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段，所述前一工藝階段為銅金屬層工藝階段。作為本發(fā)明的再一實(shí)施例，所述當(dāng)前工藝階段為化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述前一工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段。綜上，本發(fā)明提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法和系統(tǒng)，能夠基于預(yù)先分析當(dāng)前工藝階段的未來(lái)負(fù)載，實(shí)現(xiàn)對(duì)相關(guān)工藝階段產(chǎn)能的自動(dòng)調(diào)整，平衡各工藝階段之間的產(chǎn)能，使生產(chǎn)機(jī)臺(tái)盡可能多的生產(chǎn)產(chǎn)品又保證產(chǎn)品在規(guī)定的停留時(shí)間內(nèi)進(jìn)行后續(xù)的生產(chǎn)加工，從而避免良率的影響，達(dá)到產(chǎn)能和品質(zhì)的雙贏。因此，上述較佳實(shí)施例僅為說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神 實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法，其特征在于，包括:獲得具有停留時(shí)間限制的當(dāng)前工藝階段，獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目； 基于所述當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目，獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間； 若所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定停留時(shí)間，則減小前一工藝階段的產(chǎn)能，反之，預(yù)計(jì)增大前一工藝階段的產(chǎn)能之后的當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則增大前一工藝階段產(chǎn)能，反之，則維持前一工藝階段的產(chǎn)能。
2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法，其特征在于，所述當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段。
3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法，其特征在于，所述當(dāng)前工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段，所述前一工藝階段為銅金屬層工藝階段。
4.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法，其特征在于，所述當(dāng)前工藝階段為化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述前一工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段。
5.一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)，其特征在于，包括:當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間分析子系統(tǒng)，用于獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目，用于獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間； 自動(dòng)產(chǎn)能監(jiān)控分析子系統(tǒng)，基于所述最大停留時(shí)間與所述規(guī)定停留時(shí)間進(jìn)行比較，當(dāng)所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定時(shí)間，則產(chǎn)生減小前一工藝階段的產(chǎn)能的指令；當(dāng)所述最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定時(shí)間，則預(yù)計(jì)增大前一工藝階段產(chǎn)能之后當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述最大預(yù) 計(jì)停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則產(chǎn)生增大前一工藝階段產(chǎn)能的指令，反之，則產(chǎn)生維持前一工藝階段的產(chǎn)能的指令； 產(chǎn)能調(diào)整子系統(tǒng)，用于基于所述自動(dòng)產(chǎn)能監(jiān)控分析子系統(tǒng)產(chǎn)生的指令對(duì)所述前一工藝階段的產(chǎn)能進(jìn)行調(diào)整。
6.如權(quán)利要求5所述的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)，其特征在于，所述當(dāng)前工藝階段為銅金屬層工藝階段，所述前一工藝階段為銅阻擋層工藝階段。
7.如權(quán)利要求5所述的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)，其特征在于，所述當(dāng)前工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段，所述前一工藝階段為銅金屬層工藝階段。
8.如權(quán)利要求5所述的調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的系統(tǒng)，其特征在于，所述當(dāng)前工藝階段為化學(xué)氣相沉積工藝階段，所述前一工藝階段為銅化學(xué)機(jī)械研磨工藝階段。
全文摘要
本發(fā)明提供一種調(diào)整具有停留時(shí)間限制的工藝階段產(chǎn)能的方法和系統(tǒng)，包括獲得具有停留時(shí)間限制的當(dāng)前工藝階段，獲得當(dāng)前工藝階段的規(guī)定停留時(shí)間、產(chǎn)能、當(dāng)前等待生產(chǎn)的產(chǎn)品數(shù)目；獲得當(dāng)前工藝階段的最大停留時(shí)間；若所述最大停留時(shí)間大于規(guī)定停留時(shí)間，則減小前一工藝階段的產(chǎn)能，反之，預(yù)計(jì)增大前一工藝階段的產(chǎn)能之后的當(dāng)前工藝階段的預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間，若所述預(yù)計(jì)最大停留時(shí)間小于等于規(guī)定停留時(shí)間，則增大前一工藝階段產(chǎn)能，反之，則維持前一工藝階段的產(chǎn)能。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)相關(guān)工藝階段產(chǎn)能的自動(dòng)調(diào)整，平衡各工藝階段之間的產(chǎn)能，從而避免良率的影響，達(dá)到產(chǎn)能和品質(zhì)的雙贏。
文檔編號(hào)H01L21/67GK103227128SQ20131015647
公開(kāi)日2013年7月31日 申請(qǐng)日期2013年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月28日
發(fā)明者朱陸君, 倪棋梁, 龍吟, 陳宏璘, 王洲男 申請(qǐng)人:上海華力微電子有限公司