掩模支撐框架和具有掩模支撐框架的掩模組件的制作方法
【專利摘要】提供了一種用于支撐掩模的掩模支撐框架,所述框架被配置為固定掩模的兩個(gè)端部并沿第一方向向所述掩模施加張力。所述框架包括:框架主體,限定用于暴露所述掩模的構(gòu)圖開口區(qū)的開口;以及端部張緊器,聯(lián)接至所述框架主體,并被配置為沿與所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的兩個(gè)端部之一施加張力。
【專利說明】掩模支撐框架和具有掩模支撐框架的掩模組件
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開主要涉及掩模支撐框架和包括掩模的掩模組件。更具體地,本公開主要涉及用于支撐用于沉積有機(jī)發(fā)射層的掩模的框架。
【背景技術(shù)】
[0002]顯示設(shè)備被廣泛用于在電子設(shè)備中顯示圖像。最近,有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器已經(jīng)開始流行。
[0003]不同于液晶顯示器(IXD),OLED具有自發(fā)光特性且不需要額外的光源,故而可以減小顯示裝置的厚度和重量。OLED表現(xiàn)出高質(zhì)量特性,諸如低功耗、高亮度、以及快速響應(yīng)速度。
[0004]為了制造OLED顯示器,形成具有特定圖案的電極、有機(jī)發(fā)射層等,并可采用使用掩模組件的沉積方法。
[0005]在更多細(xì)節(jié)中,有機(jī)發(fā)光顯示器包括以矩陣形式排列的像素。為了形成像素,形成具有陽電極和陰電極的有機(jī)發(fā)光二極管,其中對于電極之間的每個(gè)像素,有機(jī)發(fā)射層都發(fā)出光,諸如紅光、綠光或藍(lán)光等。形成有機(jī)發(fā)射層的有機(jī)材料非常容易受到水分、氧氣等影響,從而在形成有機(jī)發(fā)射層的過程中并在形成有機(jī)發(fā)射層之后將這些有機(jī)材料與水分隔離開來。因此,難以通過使用普通光刻處理來形成有機(jī)發(fā)光材料的圖案。因此,通過使用具有允許沉積材料從中穿過的、構(gòu)圖的開口的掩模來形成有機(jī)發(fā)射層。在使用時(shí),掩模附接至掩模支撐框架并由掩模支撐框架支撐。
[0006]【背景技術(shù)】部分公開的上述信息僅用于增強(qiáng)對所述技術(shù)的背景的理解,因此,這些內(nèi)容可能含有不構(gòu)成在該國對本領(lǐng)域技術(shù)人公知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0007]—個(gè)方面提供了一種掩模支撐框架,其用于避免由沿掩模的長度方向施加的張緊力生成的掩模的寬度方向上的起伏。
[0008]一個(gè)實(shí)施方式提供了一種用于支撐掩模的掩模支撐框架,所述框架被配置為固定掩模的兩個(gè)端部并沿第一方向向所述掩模施加張力,所述框架包括:框架主體,限定用于暴露所述掩模的構(gòu)圖開口區(qū)的開口 ;以及端部張緊器,聯(lián)接至所述框架主體,并被配置為沿與所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的兩個(gè)端部之一施加張力。
[0009]所述框架被配置為固定額外的多個(gè)掩模,使得所述多個(gè)掩模并排設(shè)置并沿所述第二方向布置。所述掩模的兩個(gè)端部中的每一個(gè)均包括中央?yún)^(qū)和兩個(gè)外圍區(qū),所述中央?yún)^(qū)和所述兩個(gè)外圍區(qū)沿所述第二方向布置,使得所述中央?yún)^(qū)位于所述外圍區(qū)之間,其中所述中央?yún)^(qū)被配置為附接至所述框架主體的掩模座,其中所述外圍區(qū)之一被配置為附接至所述端部張緊器。
[0010]所述框架主體包括掩模座和凹處,所述掩模座中的每一個(gè)被配置為聯(lián)接至所述掩模之一的端部,所述凹處設(shè)置在兩個(gè)相鄰掩模座之間,以及所述端部張緊器設(shè)置在所述凹處中。
[0011]所述框架主體包括滑動(dòng)引導(dǎo)器,所述滑動(dòng)引導(dǎo)器形成于所述凹處中并沿所述第二方向延伸;以及所述端部張緊器包括滑動(dòng)器,所述滑動(dòng)器與所述滑動(dòng)引導(dǎo)器嚙合,所述滑動(dòng)器被配置為沿所述第二方向滑動(dòng),所述滑動(dòng)器進(jìn)一步被配置為聯(lián)接至所述掩模。
[0012]所述框架,還包括分離防止軸,所述分離防止軸沿所述第二方向延伸穿過所述滑動(dòng)器并連接至所述框架主體。
[0013]所述框架,還包括張力調(diào)節(jié)器,所述張力調(diào)節(jié)器被配置為調(diào)節(jié)所述第二方向上的張力的量。
[0014]所述張力調(diào)節(jié)器包括:第一齒條,聯(lián)接至所述框架主體,沿所述第二方向延伸并包括第一齒;第二齒條,聯(lián)接至所述滑動(dòng)器,與所述第一齒條相對并包括第二齒;齒輪,與所述第一齒和所述第二齒嚙合,并位于所述第一齒與所述第二齒之間;以及旋轉(zhuǎn)軸,固定至所述齒輪并突出所述框架主體之外。
[0015]另一個(gè)實(shí)施方式提供了一種掩模組件,包括:上述掩模支撐框架;以及至少一個(gè)掩模,包括通過沿所述第一方向施加的張力由所述框架固定的兩個(gè)端部。
[0016]根據(jù)這些實(shí)施方式,提供了用于通過沿掩模的長度方向施加的張緊力避免或最小化掩模的寬度方向上生成起伏的掩模支撐框架,并且還提供了包括該掩模支撐框架的掩模組件。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0017]圖1示出根據(jù)第一實(shí)施方式的掩膜組件的立體圖;
[0018]圖2示出圖1的部分A ;
[0019]圖3示出沿圖2的線II1-1II截取的截面圖;
[0020]圖4示出根據(jù)第二實(shí)施方式的掩膜組件的一部分;
[0021]圖5示出沿圖4的線V-V截取的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下文中將參照附圖更加全面地描述實(shí)施方式。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)了解,在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下,可以通過各種不同方式修改所述實(shí)施方式。
[0023]相應(yīng)地,附圖和描述被認(rèn)為在本質(zhì)上是示意性而非限制性的。在說明書中,相同的參考標(biāo)號(hào)指代相同的元件。
[0024]此外,將在各種實(shí)施方式中的第一實(shí)施方式中典型地描述具有由相同參考標(biāo)號(hào)指代的相同部件的配置,并且將在其它實(shí)施方式中描述與第一實(shí)施方式不同的其它部件。
[0025]此外,為了便于理解和描述,各部件的圖中所示的尺寸和厚度被任意地示出,但本發(fā)明不限于此。
[0026]此外,除非存在明確相反的描述,單詞包括(comprise)”和變型諸如“包括(comprises)”和/或“包括(comprising)”將被理解為表示包括所述元件但不排出任何其它元件。此外,在說明書中,“在...上”表示位于目標(biāo)元件之上或之下并且不表示必須按照重力方向位于頂部。
[0027]在實(shí)施方式中,掩模組件包括掩模支撐框架,掩模支撐框架包括開口部和多個(gè)帶形掩模。每個(gè)掩模的兩個(gè)端部都固定至框架。
[0028]當(dāng)張力或張緊力在掩模的長度方向上被施加至掩模時(shí),由框架支撐的掩模會(huì)變形,從而具有在掩模的寬度方向上意外生成的起伏。這些起伏可由在長度方向上施加至掩模的張力導(dǎo)致。因此,在實(shí)施方式中,寬度方向上的張力可在掩模末端處施加至掩模,以使這種起伏形狀的形變最小化。
[0029]現(xiàn)在將參照圖1至圖3描述根據(jù)第一實(shí)施方式的掩模組件。
[0030]圖1示出根據(jù)第一實(shí)施方式的掩模組件的立體圖。
[0031]如圖1所不,根據(jù)第一實(shí)施方式的掩模組件包括多個(gè)掩模100和掩模支撐框架200。
[0032]掩模100具有沿第一方向(長度方向)伸長的帶形,兩個(gè)端部IOOa被附接至框架200并由框架200支撐,并且沿第一方向施加張緊力或張力。在實(shí)施方式中,多個(gè)掩模100以彼此相鄰的方式設(shè)置在框架200上,并沿第二方向(掩模100的寬度方向)布置,第二方向與第一方向相交并大致垂直。掩模100的兩個(gè)端部IOOa被形成為平坦的,但不限于此。在可選實(shí)施方式中,掩模100的兩個(gè)端部IOOa可被形成為馬蹄形。
[0033]掩模100包括多個(gè)圖案110。
[0034]多個(gè)圖案110沿第一方向設(shè)置并布置在掩模100上。每個(gè)圖案110均可對應(yīng)于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器。在實(shí)施方式中,用于配置有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的圖案可形成于母基板上,在在母基板上,將使用掩模100通過單一處理過程制造有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器。也就是說,圖案110設(shè)置在對應(yīng)于用于配置有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的圖案的沉積區(qū)的掩模100上。圖案110具有多個(gè)開口,沉積材料可穿過該多個(gè)開口。因此,配置有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的圖案可通過圖案110形成在母基板上。在實(shí)施方式中,圖案110包括多個(gè)條型裂縫。
[0035]框架200固定并支撐掩模100的兩個(gè)端部100a,張緊力沿第一方向施加至該兩個(gè)端部100a。因此,由于力可沿第一方向(掩模100的伸長方向)施加,故該掩??捎山饘俨牧?諸如具有較大剛性的不銹鋼)形成,使得其不會(huì)因框架200的掩模100的力而變形。
[0036]圖2示出圖1的一部分A。圖3示出圖2的相對于線II1-1II的截面圖。
[0037]如圖2和圖3所示,框架200包括框架主體210和端部拉緊器220。
[0038]框架主體210具有封閉環(huán)的形狀并限定用于暴露掩模100的圖案110的開口(OA)0掩模100的一端IOOa包括中間或中央?yún)^(qū)(CA)和兩個(gè)外圍區(qū)(EA),中央?yún)^(qū)(CA)和外圍區(qū)(EA)沿第二方向布置,使得中央?yún)^(qū)(CA)被設(shè)置在外圍區(qū)(EA)之間。中央?yún)^(qū)(CA)焊接在框架主體210的掩模座210a的表面上??蚣苤黧w210包括設(shè)置在兩個(gè)相鄰掩模座210a之間的凹處或凹陷部211。
[0039]在實(shí)施方式中,掩模座210a被形成為升起的脊?fàn)罱Y(jié)構(gòu)。在其他實(shí)施方式中,凹處211被形成為從框架主體210的結(jié)構(gòu)210a下沉的部分。
[0040]端部拉緊器220設(shè)置在凹處211中,可移動(dòng)地聯(lián)接至框架主體210,并沿與第一方向相交的第二方向向掩模100的端部IOOa施加張力。掩模100的端部IOOa的在第二方向上的外圍區(qū)(EA)焊接至端部拉緊器220。在實(shí)施方式中,端部拉緊器220包括滑動(dòng)器222和張力調(diào)節(jié)器223,并且框架主體210包括滑動(dòng)引導(dǎo)器221。
[0041]在實(shí)施方式中,滑動(dòng)引導(dǎo)器221以凹槽的形式形成于凹處211的表面上并沿第二方向延伸。
[0042]滑動(dòng)器222安裝在滑動(dòng)引導(dǎo)器211中并沿第二方向滑動(dòng),并且掩模100的端部IOOa的在第二方向上的外圍區(qū)(EA)焊接在滑動(dòng)器222的表面222a上。因此,當(dāng)滑動(dòng)器222沿第二方向滑動(dòng)時(shí),第二方向上的張緊力在掩模100的端部IOOa處生成。
[0043]在實(shí)施方式中,張力調(diào)節(jié)器223可調(diào)節(jié)滑動(dòng)器222沿第二方向的滑動(dòng),并且隨后調(diào)節(jié)第二方向上的張力的量。如此,在掩模100的端部IOOa處生成的第二方向上的張緊力由張力調(diào)節(jié)器223調(diào)節(jié)。張力調(diào)節(jié)器223包括第一齒條223a、第二齒條223b、齒輪223c、以及旋轉(zhuǎn)軸223d。第一齒條223a交疊在第二齒條223b上。
[0044]第一齒條223a安裝在框架主體210的掩模座210a的形成凹處211的側(cè)壁210b上,并朝著滑動(dòng)器222的側(cè)壁222b突起,并且第一齒條223a的第一齒SI形成于其內(nèi)。在實(shí)施方式中,第一齒條223a具有“C”或“e”的形狀,并且不限于這兩種形狀。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式的第一齒條223a可具有各種形狀,諸如“一”、“τ”或“I”。
[0045]第二齒條223b的一部分與第一齒條223a交疊。
[0046]第二齒條223b安裝在滑動(dòng)器222的面對框架主體210的側(cè)壁210b的側(cè)壁222b上,并且第二齒條223b朝著框架主體210的側(cè)壁210b突出,使得其可以與第一齒條223a交疊并具有對應(yīng)于第一齒SI的第二齒S2。在實(shí)施方式中,第二齒條223b具有“C”或“c”的形狀,并且不限于這兩種形狀。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式的第二齒條223b可具有各種形狀,諸如“_,,、“丁”或“丄”。
[0047]齒輪223c和旋轉(zhuǎn)軸223d設(shè)置在第二齒條223b與第一齒條223a之間。
[0048]齒輪223c與第一齒SI和第二齒S2嚙合并設(shè)置在第一齒SI和第二齒S2之間。
[0049]旋轉(zhuǎn)軸223d與齒輪223c的中心結(jié)合并突出至框架主體210外。旋轉(zhuǎn)軸223d可在被框架主體210支撐時(shí)旋轉(zhuǎn)。當(dāng)旋轉(zhuǎn)軸223d旋轉(zhuǎn)時(shí),齒輪223c旋轉(zhuǎn)。由于旋轉(zhuǎn)軸223d突出至框架主體210外,故旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸223d,從而可容易地旋轉(zhuǎn)齒輪223c。
[0050]相應(yīng)地,當(dāng)沿順時(shí)針方向或逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)張力調(diào)節(jié)器223的旋轉(zhuǎn)軸223d以沿順時(shí)針方向或逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)齒輪223c時(shí),第一齒條223a和第二齒條223b沿著第二方向以彼此相反的方向運(yùn)動(dòng),以調(diào)節(jié)滑動(dòng)器222在第二方向上的滑動(dòng)程度,其中在第一齒條223a處,第一齒SI與齒輪223c結(jié)合,在第二齒條223b處,第二齒S2與齒輪223c結(jié)合。因此,可以調(diào)節(jié)沿第二方向施加至掩模100的端部IOOa的張緊力。
[0051]上述滑動(dòng)器222在第二方向上的滑動(dòng)程度由張力調(diào)節(jié)器223控制,并且不限于此,根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式的滑動(dòng)器在第二方向上的滑動(dòng)程度可由各種修改的配置控制。
[0052]此外,在實(shí)施方式中,端部張緊器220包括滑動(dòng)器222和張力調(diào)節(jié)器223,并且框架主體210包括滑動(dòng)引導(dǎo)器221,但不限于此。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式的端部張緊器和框架主體可包括各種組成元件,使得端部張緊器可沿與第一方向相交的第二方向向掩模的端部施加張力。
[0053]如與根據(jù)第一實(shí)施方式的掩模組件有關(guān)的描述,可沿第一方向(掩模100的長度方向)向掩模100的兩個(gè)端部IOOa施加張力的框架200可包括用于沿第二方向(掩模100的寬度方向)張緊掩模100的端部IOOa的端部張緊器220,從而通過沿第一方向施加的張緊力使在掩模100上沿第二方向生成的不期望的起伏最小化。
[0054]此外,根據(jù)第一實(shí)施方式的掩模組件使用張力調(diào)節(jié)器223來控制端部張緊器220的滑動(dòng)器222在第二方向上的滑動(dòng)程度,因此,通過當(dāng)起伏在掩模100上沿第二方向生成時(shí)使用張力調(diào)節(jié)器223控制滑動(dòng)器222的滑動(dòng)程度,該掩模組件能夠消除掩模100上生成的起伏,張力調(diào)節(jié)器223充當(dāng)解決在使用掩模組件的位置處由不期望問題產(chǎn)生的掩模100的起伏的要素。
[0055]現(xiàn)在將參照圖4至圖5描述根據(jù)第二實(shí)施方式的掩模組件。
[0056]與第一實(shí)施方式不同的部分將被描述,不被描述的其它部分參照第一實(shí)施方式。為了更好的理解和便于描述,第二實(shí)施方式中的相同的組成部件將具有與第一實(shí)施方式中相同的參考標(biāo)號(hào)。
[0057]圖4示出根據(jù)第二實(shí)施方式的掩模組件的一部分。圖5示出沿圖4的線V-V截取的截面圖。
[0058]如圖4和圖5所示,根據(jù)第二實(shí)施方式的掩模組件的框架202的端部張緊器220包括滑動(dòng)器222、張力調(diào)節(jié)器223、以及分離防止軸224,并且框架主體210包括滑動(dòng)引導(dǎo)器221。
[0059]分離防止軸224沿第二方向連接框架主體210的兩個(gè)側(cè)壁210b之間的空間。由于分離防止軸224延伸穿過滑動(dòng)器222并連接框架主體210的兩個(gè)側(cè)壁210b之間的空間,故在滑動(dòng)器222沿第二方向滑動(dòng)時(shí)防止滑動(dòng)器222與滑動(dòng)引導(dǎo)器221的分離。
[0060]相應(yīng)地,根據(jù)第二實(shí)施方式的掩模組件包括分離防止軸224,以防止滑動(dòng)器222與滑動(dòng)引導(dǎo)器221分離。因此,當(dāng)滑動(dòng)器222沿第二方向滑動(dòng)時(shí),該裝置的可靠性得到改善。
[0061]雖然已經(jīng)結(jié)合當(dāng)前被認(rèn)為是實(shí)施方式的內(nèi)容描述了本公開,但應(yīng)理解,本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施方式,相反,本發(fā)明旨在覆蓋被包含在所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
【權(quán)利要求】
1.一種用于支撐掩模的掩模支撐框架,所述框架被配置為固定掩模的兩個(gè)端部并沿第一方向向所述掩模施加張力,所述框架包括: 框架主體,限定用于暴露所述掩模的構(gòu)圖開口區(qū)的開口 ;以及 端部張緊器,聯(lián)接至所述框架主體,并被配置為沿與所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的兩個(gè)端部之一施加張力。
2.如權(quán)利要求1所述的框架,其中所述框架被配置為固定額外的多個(gè)掩模,使得所述多個(gè)掩模并排設(shè)置并沿所述第二方向布置。
3.如權(quán)利要求2所述的框架,其中 所述框架主體包括掩模座和凹處,所述掩模座中的每一個(gè)被配置為聯(lián)接至所述掩模之一的端部,所述凹處設(shè)置在兩個(gè)相鄰掩模座之間,以及 所述端部張緊器設(shè)置在所述凹處中。
4.如權(quán)利要求3所述的框架,其中 所述框架主體包括滑動(dòng)引導(dǎo)器,所述滑動(dòng)引導(dǎo)器形成于所述凹處中并沿所述第二方向延伸;以及 所述端部張緊器包括滑動(dòng)器,所述滑動(dòng)器與所述滑動(dòng)引導(dǎo)器嚙合,所述滑動(dòng)器被配置為沿所述第二方向滑動(dòng),所述滑動(dòng)器進(jìn)一步被配置為聯(lián)接至所述掩模。
5.如權(quán)利要求4所述的框架,還包括分離防止軸,所述分離防止軸沿所述第二方向延伸穿過所述滑動(dòng)器并連接至所述框架主體。
6.如權(quán)利要求4所述的框架,還包括張力調(diào)節(jié)器,所述張力調(diào)節(jié)器被配置為調(diào)節(jié)所述第二方向上的張力的量。
7.如權(quán)利要求6所述的框架,其中所述張力調(diào)節(jié)器包括: 第一齒條,聯(lián)接至所述框架主體,沿所述第二方向延伸并包括第一齒; 第二齒條,聯(lián)接至所述滑動(dòng)器,與所述第一齒條相對并包括第二齒; 齒輪,與所述第一齒和所述第二齒嚙合,并位于所述第一齒與所述第二齒之間;以及 旋轉(zhuǎn)軸,固定至所述齒輪并突出所述框架主體之外。
8.如權(quán)利要求1所述的框架,其中所述掩模的兩個(gè)端部中的每一個(gè)均包括中央?yún)^(qū)和兩個(gè)外圍區(qū),所述中央?yún)^(qū)和所述兩個(gè)外圍區(qū)沿所述第二方向布置,使得所述中央?yún)^(qū)位于所述外圍區(qū)之間, 其中所述中央?yún)^(qū)被配置為附接至所述框架主體的掩模座, 其中所述外圍區(qū)之一被配置為附接至所述端部張緊器。
9.一種掩模組件,包括: 權(quán)利要求1所述的掩模支撐框架;以及 至少一個(gè)掩模,包括通過沿所述第一方向施加的張力由所述框架固定的兩個(gè)端部。
【文檔編號(hào)】H01L51/56GK103427047SQ201310174953
【公開日】2013年12月4日 申請日期:2013年5月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月24日
【發(fā)明者】金容煥 申請人:三星顯示有限公司