基板處理設(shè)備和基板處理方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種基板處理設(shè)備。該基板處理設(shè)備包括：提供了空間的容器，在該空間中超臨界流體流動或被接收；回收管，其一端連接到容器以排出在容器內(nèi)的超臨界流體，該回收管包括閥；以及廢液管，其連接到容器，以排出在容器內(nèi)的超臨界流體，該廢液管包括安全閥?；厥展艿牧硪欢诉B接到回收容器，在該回收容器中，從容器排出的超臨界流體被接收以用于再利用。
【專利說明】基板處理設(shè)備和基板處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本文公開內(nèi)容涉及一種用于處理基板的設(shè)備和方法，更具體地，涉及用于使用超臨界流體來處理基板的設(shè)備和方法。
【背景技術(shù)】
[0002]半導體器件通過包括光刻處理的各種處理來制造，在該光刻處理中，電路圖案被形成在諸如硅晶片之類的基板上。雖然半導體器件被制造，但是可能會產(chǎn)生各種異物(例如顆粒、有機污染物、金屬雜質(zhì)等)。這些異物可能導致基板缺陷以對半導體器件的性能和產(chǎn)量直接地施以不良影響。因此，用于除去異物的清潔處理本質(zhì)上可被引入半導體器件制造處理中。
[0003]清潔處理包括:除去基板上的異物的化學處理，使用去離子(DI)水來洗滌化學物的洗滌處理，以及干燥基板的干燥處理。通過使用諸如異丙醇(IPA)之類的有機溶劑代替存在于基板上的DI水來執(zhí)行典型的干燥處理，從而使該IPA蒸發(fā)。
[0004]然而，即使使用了有機溶劑，這樣的干燥處理可能依舊會造成在具有帶有約30nm或更少的線寬的精細電路圖案的半導體器件中的圖案塌陷。因此，目前的趨勢在使用超臨界干燥處理代替現(xiàn)有的干燥處理方面有所增加。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明還提供一種基板處理設(shè)備，其能夠通過使用超臨界流體來有效地執(zhí)行干燥處理。
[0006]本發(fā)明還提供一種基板處理設(shè)備，其已經(jīng)改進了超臨界流體的回收效率。
[0007]本發(fā)明的實施例提供了基板處理設(shè)備，其包括:提供了空間的容器，在該空間中超臨界流體流動或被接收；回收管，其一端連接到容器以排出在容器內(nèi)的超臨界流體，該回收管包括閥；以及廢液管，其連接到容器，以排出在容器內(nèi)的超臨界流體，該廢液管包括安全閥，其中該回收管的另一端連接到回收容器，在該回收容器中，從容器排出的超臨界流體被接收以用于再利用。
[0008]在一些實施例中，回收管的閥可以不同于廢液管的安全閥。
[0009]在其它實施例中，安全閥可包括:連接到廢液管的閥殼體，該閥殼體包括通過其引入超臨界流體的入口以及通過其排出超臨界流體的出口 ；布置在氣缸中的彈性構(gòu)件，該氣缸被設(shè)置在閥殼體內(nèi)；以及布置在彈性構(gòu)件與入口之間的活塞，以用于在當由彈性構(gòu)件或超臨界流體壓力而使該活塞移動時打開或關(guān)閉安全閥。
[0010]在又其它實施例中，防止超臨界流體在活塞和閥殼體的內(nèi)壁之間泄漏的填充物可以被布置在閥殼體的內(nèi)壁上。
[0011 ] 在又其它實施例中，填充物可包括氟橡膠。
[0012]在另其它實施例中，布置在回收管中的閥可以以隔膜類型設(shè)置。
[0013]在進一步實施例中，回收容器可將異物與在該回收容器中接收的超臨界流體分開。
[0014]在又進一步實施例中，回收容器可以連接到將超臨界流體供應至殼體中的超臨界流體供應單元，該殼體提供了在其中處理基板的空間。
[0015]在又進一步實施例中，回收管可包括:主回收管，其一端連接到回收容器；以及從主回收管的另一端平行分支的第一線路和第二線路，該第一線路和第二線路中的每個都被連接到容器上。
[0016]在又進一步實施例中，閥可包括布置在第一線路中的第一閥和布置在第二線路中的第二閥。
[0017]在又進一步實施例中，容器可以包括殼體，該殼體提供了在其中處理基板的空間。
[0018]在又進一步實施例中，容器可以包括將超臨界流體供應至殼體中的超臨界流體供應單元，該殼體提供了在其中處理基板的空間。
[0019]在又進一步實施例中，容器可以包括:將提供了在其中處理基板的空間的殼體連接到將超臨界流體供應到殼體中的超臨界流體供應單元的管。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]結(jié)合附圖來提供對本發(fā)明的進一步理解，附圖被并入本說明書中并構(gòu)成其一部分。附圖示出了本發(fā)明的示例性實施例，并連同說明書一起用以解釋本發(fā)明的原理。在附圖中:
[0021]圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板處理設(shè)備的平面圖；
[0022]圖2是圖1的第一處理室的剖視圖；
[0023]圖3是示出二氧化碳的相變的圖示；
[0024]圖4是示出圖1的第二處理室的管的圖示；
[0025]圖5是示出超臨界流體的循環(huán)的圖示；
[0026]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的第二處理室的管的圖示；
[0027]圖7是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的排放單元的圖示；
[0028]圖8是安全閥的剖視圖；
[0029]圖9是安全閥開通的狀態(tài)的圖示；
[0030]圖10是安全閥和廢液管彼此相連處的部分的剖視圖；
[0031]圖11是連接排放單元的狀態(tài)的圖示。
【具體實施方式】
[0032]以下將參照附圖來更加詳細地描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。然而，本發(fā)明可以以不同形式體現(xiàn)，并且不應被解釋為受限于本文所闡述的實施例。相反，提供這些實施例以使得本公開內(nèi)容是徹底和完整的，并且將本發(fā)明的范圍充分傳達給本領(lǐng)域技術(shù)人員，在附圖中，為了清楚起見，層和區(qū)域的厚度是夸大的。
[0033]圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的基板處理設(shè)備的平面圖。
[0034]參照圖1，基板處理裝置100包括分度器(index)模塊1000和處理模塊2000。
[0035]分度器模塊1000可以為裝置前端模塊(EFEM)。此外，分度器模塊1000還包括加載端口和轉(zhuǎn)移框架1200。分度器模塊1000從外部接收基板S以將基板S提供到處理模塊2000 中。
[0036]加載端口 1100、轉(zhuǎn)移框架1200、以及處理模塊2000可以連續(xù)地布置成一線。這里，加載端口 1100、轉(zhuǎn)移框架1200、以及處理模塊2000被布置的方向被稱為第一方向X。并且
當自上側(cè)看去時，與第一方向X垂直的方向被稱為第二方向Y，并且與第一方向X和第二方向Y垂直的方向被稱為第三方向Z。
[0037]至少一個加載端口 1100被設(shè)置在分度器模塊1000中。
[0038]加載端口 1100被布置在轉(zhuǎn)移框架1200的一側(cè)上。當加載端口 1100被設(shè)置為多個時，多個加載端口 1100可以沿第二方向Y被布置成一線。加載端口 1100的數(shù)目和布置不限于上述示例。例如，加載端口 1100的數(shù)量和布置可以根據(jù)針對于其它基板處理設(shè)備100的表面區(qū)域(foot print)、處理效率以及布置而進行改變。其中接收基板C的承載體C被布置在加載端口 1100上。承載體C從外部轉(zhuǎn)移來然后在加載端口 1100上加載，或從加載端口 1100卸載然后被轉(zhuǎn)移到外部。例如，承載體C可以在基板處理設(shè)備100之間由諸如高架傳送(OHT)之類的轉(zhuǎn)移單元轉(zhuǎn)移。這里，可由其他轉(zhuǎn)移單元，例如自動引導車輛、軌道引導車輛等，而非OHT或工人，來轉(zhuǎn)移基板S。
[0039]基板S被接收到承載體C中，前開式統(tǒng)集盒(FOUP)可被用作承載體C。支撐基板S邊緣的至少一個槽可以被設(shè)置在承載體C內(nèi)，當設(shè)置了多個槽時，該多個槽可以沿第三方向Z彼此隔開。因此，基板S可被放置在承載體C內(nèi)。例如，承載體C可以接收25個基板
S。承載體C的內(nèi)部可以由可打開的門來與外部隔離并從而被密封。因此，可以防止承載體C中接收到的基板S被污染。
[0040]轉(zhuǎn)移模塊1200包括分度器機械手1210和分度器軌道1220。轉(zhuǎn)移框架1200在位于加載端口 1100上的承載體C與處理模塊2000之間轉(zhuǎn)移基板S。
[0041]分度器軌道1220提供分度器機械手1210的移動路徑。分度器軌道1220可以以平行于第二方向Y的其長度方向被布置。分度器機械手1210轉(zhuǎn)移基板S。
[0042]分度器機械手1210可以包括基座1211、本體1212和臂1213。基座1211被布置在分度器軌道1220上。此外，基座1211還可以沿分度器軌道1220移動。本體1212被耦接到基座1211。此外，本體1212還可以沿第三方向Z在基座1211上移動，或繞由第三方向Z限定的軸線轉(zhuǎn)動。此外，臂1213可以向前和向后移動。手可以被布置在臂1213的一端上，以拾取或放置基板S。分度器機械手1210可以包括一個或多個臂1213。當設(shè)置了多個臂1213時，多個臂1213可以被堆疊在本體1212上并布置在第三方向Z上，這里，多個臂1213可以獨立地操作。因此，在分度器機械手1210中，基座1211可在第二方向Y在分度器軌道1220上移動。此外，分度器機械手1210可以從承載體C取出基板S以將該基板S轉(zhuǎn)移到處理模塊2000中，或者從處理模塊2000取出基板S以將該基板S接收到承載體C中。
[0043]此外，分度器軌道1220可以在轉(zhuǎn)移框架1200中被省略，并且分度器機械手1210可以被固定到轉(zhuǎn)移框架1200。在這種情況下，分度器機械手1210可以被布置在轉(zhuǎn)移框架1200的中央部分上。
[0044]處理模塊2000包括:緩沖室2100、轉(zhuǎn)移室2200、第一處理室2300，和第二處理室2500。處理模塊2000從分度器模塊1000接收基板S以執(zhí)行對基板S的清潔處理。緩沖室2100和轉(zhuǎn)移室2200沿第一方向X布置，并且轉(zhuǎn)移室2200以平行于第一方向X的其長度方向被布置。處理室2300和2500可以在第二方向Y上被布置在轉(zhuǎn)移室2200的側(cè)表面上。這里，第一處理室2300可以在第二方向Y上被布置在轉(zhuǎn)移室2200的一側(cè)上，而第二處理室2500可以被布置在與第一處理室被布置的一側(cè)相對的另一側(cè)上。第一處理室2300也可以設(shè)置為一個或多個。當設(shè)置了多個第一處理室2300時，第一處理室2300可以沿第一方向X而被布置在轉(zhuǎn)移室2200 —側(cè)上，沿第三方向Z堆疊，或以它們的組合而布置。此外，第二處理室2500還可以設(shè)置為一個或多個。當設(shè)置了多個第二處理室時，第二處理室沿第一方向X而被布置在轉(zhuǎn)移室2500的另一側(cè)上，沿第三方向Z堆疊，或以它們的組合而布置。
[0045]然而，處理模塊2000中的室2100、2200和2500中的每個的布置并不限于上述示例。即，室2100、2200、和2500可以出于對處理效率的考慮而恰當?shù)夭贾谩＠?，在必要時，第一處理室2300和第二處理室2500可以沿第一方向X而被布置在與轉(zhuǎn)移模塊2200相同的側(cè)表面上或互相堆疊。
[0046]緩沖室2100被布置在轉(zhuǎn)移框架與轉(zhuǎn)移室2200之間。緩沖室2100提供一個緩沖空間，在分度器模塊1000和處理模塊2000之間轉(zhuǎn)移的基板S暫時保持在該緩沖空間中。其上布置基板S的至少一個緩沖槽可以被設(shè)置在緩沖室2100內(nèi)。當設(shè)置了多個緩沖槽時，多個緩沖槽可以沿第三方向Z彼此隔開。由分度器機械手1210從承載體C取出的基板S可位于緩沖槽上，或由轉(zhuǎn)移室2200的轉(zhuǎn)移機械手2210從處理室2300和2500轉(zhuǎn)移的基板C可位于緩沖槽上。此外，分度器機械手1210或轉(zhuǎn)移機械手2210可從緩沖槽取出基板S，以將基板S接收到承載體C中或?qū)⒒錝轉(zhuǎn)移到處理室2300和2500中。
[0047]轉(zhuǎn)移室2200在于其周圍布置的室2100、2300和2500之間轉(zhuǎn)移基板S。緩沖室2100可以在第一方向X上被布置在轉(zhuǎn)移室2200的一側(cè)。處理室2300和2500可以在第二方向Y上被布置在轉(zhuǎn)移室2200的一側(cè)或兩側(cè)。因此，轉(zhuǎn)移室2200可以在緩沖室2100、第一處理室2300和第二處理室2500之間轉(zhuǎn)移基板S。轉(zhuǎn)移室2200包括轉(zhuǎn)移軌道2220和轉(zhuǎn)移機械手2210。
[0048]轉(zhuǎn)移軌道2220提供轉(zhuǎn)移機械手2210的移動路徑。轉(zhuǎn)移軌道2220平行于第一方向X被布置，轉(zhuǎn)移機械手2210轉(zhuǎn)移基板S。轉(zhuǎn)移機械手2210可以包括基座2211、本體2212、和臂2213。由于轉(zhuǎn)移機械手2210的每個組件類似于分度器機械手1210的組件，所以忽略對其的詳細描述。當基座2211沿轉(zhuǎn)移軌道2220移動時，通過操作本體2212和臂2213，轉(zhuǎn)移機械手2210在緩沖室2100、第一處理室2300、和第二處理室2500之間轉(zhuǎn)移基板S。
[0049]第一處理室2300和第二處理室2500可以對基板S執(zhí)行彼此不同的處理。這里，在第一處理室2300中執(zhí)行的第一處理和在第二處理室2500中執(zhí)行的第二處理可以被相繼地執(zhí)行。例如，化學處理、清潔處理和第一干燥處理可以在第一處理室2300中被執(zhí)行。此夕卜，作為第一處理的后續(xù)處理的第二干燥處理可以在第二處理室2500中被執(zhí)行。這里，第一干燥處理可以是使用有機溶劑執(zhí)行的濕法干燥處理，而第二干燥處理可以是使用超臨界流體執(zhí)行的超臨界干燥處理。必要時，可以僅選擇性地執(zhí)行第一和第二干燥處理中的一個。
[0050]圖2是圖1的第一處理室的剖視圖。
[0051]參考圖1和圖2，第一處理室2300包括殼體2310和處理單元2400。第一處理在第一處理室2300中被執(zhí)行。這里，第一處理可以包括化學處理、清潔處理和第一干燥處理中的至少一個。如上所述，第一干燥處理可被省略。
[0052]殼體2310限定了第一處理室230的外壁，并且處理單元2400被布置在殼體2310內(nèi)以執(zhí)行第一處理。處理單元2400包括旋轉(zhuǎn)頭2410、流體供應構(gòu)件2420、回收容器2430、以及升降構(gòu)件2440。
[0053]基板S位于旋轉(zhuǎn)頭2410上。此外，當執(zhí)行處理時旋轉(zhuǎn)頭2410轉(zhuǎn)動基板S。旋轉(zhuǎn)頭2410可以包括支撐板2411、支撐銷2412、卡盤銷(chucking pin) 2413、轉(zhuǎn)動軸2414、和電動機2415。
[0054]支撐板2411可以具有與基板S形狀類似的形狀的上部分。即，支撐板2411的上部分可以為圓形?；錝被布置在其上的多個支撐銷2412以及用于固定基板S的多個卡盤銷2413被布置在支撐板2411上。由電動機2415轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動軸2414被固定并耦接到支撐板2411的底表面。電動機2415通過使用外部電源來生成轉(zhuǎn)動力，以通過轉(zhuǎn)動軸2414而使支撐板2411轉(zhuǎn)動。因而，基板S可以位于旋轉(zhuǎn)頭2410上，并且當執(zhí)行第一處理時可以轉(zhuǎn)動支撐板2411以使基板S轉(zhuǎn)動。
[0055]每個支撐銷2412在第三方向Z上從支撐板2411的頂表面凸出。多個支撐銷2412被設(shè)置為彼此間隔預定距離。當自上側(cè)看去時，支撐銷2412可以以圓環(huán)形狀布置。基板S的背面可以位于支撐銷2412上。因此，基板S位于支撐銷2412上，使得基板S通過支撐銷2412被與支撐板2411的頂表面隔開被間隔開的每個支撐銷2412的凸出距離。
[0056]每個卡盤銷2413可以在第三方向Z上從支撐板2411的頂表面比每個支撐銷2412凸出得更多。因此，卡盤銷2413可以被布置為比支撐銷2412更遠離支撐板2411的中心?？ūP銷2413可以沿支撐板2411的徑向在固定位置與拾取位置之間移動。這里，固定位置表示與支撐板2411的中心間隔對應于基板S的半徑的距離的位置，拾取位置表示比固定位置更遠離支撐板2411的中心的位置。當基板S由轉(zhuǎn)移機械手2210加載在旋轉(zhuǎn)頭2410上時，卡盤銷2413被設(shè)置在拾取位置。當基板S被加載并且隨后執(zhí)行處理時，卡盤銷2413可以被移動到固定位置以接觸基板S的側(cè)表面，從而將基板S固定在適當位置。此外，當處理結(jié)束并且轉(zhuǎn)移機械手2210隨后拾取基板S以卸載基板S時，卡盤銷2413可被再次移動到拾取位置。因此，卡盤銷2413可以在當轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)頭2410時防止基板S由于轉(zhuǎn)動力而從常規(guī)位置脫離。
[0057]流體供應構(gòu)件2420可以包括噴嘴2421、支撐件2422、支撐軸2423和驅(qū)動器2424。流體供應構(gòu)件2420將流體供應到基板S上。
[0058]支撐軸2423被布置為使得其長度方向平行于第三方向Z。驅(qū)動器2424被耦接到支撐軸2423的下端。驅(qū)動器2424轉(zhuǎn)動支撐軸2423或沿第三方向Z豎直地移動支撐軸2423。支撐件2422被豎直地耦合到支撐軸2423的上部分。噴嘴2421被布置在支撐件2422的端部的底表面上。噴嘴2421可通過驅(qū)動器2424轉(zhuǎn)動和升降支撐軸2423來在處理位置和備用位置之間移動。這里，處理位置表示噴嘴2421被直接布置在支撐板2411上面的位置，備用位置表示噴嘴2421被布置得與支撐板2411的直接上側(cè)偏離的位置。
[0059]至少一個流體供應構(gòu)件2420也可以設(shè)置在處理單元2400中。當流體供應構(gòu)件2420被設(shè)置為多個時，多個流體供應構(gòu)件2420可分別供應彼此不同的流體。例如，多個流體供應構(gòu)件2420中的每個可以供應洗滌劑、清洗劑以及有機溶劑。這里，過氧化氫(H2O2)溶液、其中氨水(NH4OH)、鹽酸(HCl)或硫酸(H2SO4)混合有過氧化氫(H2O2)溶液的溶液、或者氫氟酸溶液可以被用作洗滌劑。此外，去離子(DI)水可以被用作清洗劑，并且異丙醇可以被用作有機溶劑。此外，異丙醇，乙基乙二醇，1-丙醇，四氫呋喃(tetra hydraulic franc),4-羥基，4-甲基，2-戊酮，1- 丁醇，2- 丁醇，甲醇，乙醇，η-丙醇，或者二甲醚可以被用作有機溶劑。例如，第一流體供應構(gòu)件2420a可噴射氨過氧化氫溶液，第二流體供應構(gòu)件可噴射去離子水，而第三流體供應構(gòu)件2420c可噴射異丙醇溶液。
[0060]當基板S位于旋轉(zhuǎn)頭2410上時，流體供應構(gòu)件2420可以從備用位置移動到處理位置以將流體供應到基板S中。例如，流體供應部件可以供應洗滌劑，清洗劑以及有機溶劑以分別執(zhí)行化學處理、清潔處理和第一干燥處理。如上所述，旋轉(zhuǎn)頭2410可以由電動機2415轉(zhuǎn)動以在處理的進展期間將流體均勻地供應到基板S的頂表面。
[0061]回收容器2430提供了在其中執(zhí)行第一處理的空間。此外，回收容器2430回收用于第一處理的流體。當自上側(cè)看去時，回收容器2430被布置在旋轉(zhuǎn)頭2410的周圍以環(huán)繞旋轉(zhuǎn)頭2410并具有開口的上側(cè)。在處理單元2400中可以設(shè)置至少一個回收容器2430。在下文中，包括三個回收容器2430 (即第一回收容器2430a、第二回收容器2430b和第三回收容器2430c)的處理單元2400將被描述為示例。然而，回收容器2430的數(shù)量可以根據(jù)流體的數(shù)量和第一處理的狀況而被不同地選擇。
[0062]第一回收容器2430a、第二回收容器2430b和第三回收容器2430c中的每一個可以具有環(huán)繞旋轉(zhuǎn)頭2410的圓環(huán)狀。第一回收容器2430a、第二回收容器2430b和第三回收容器2430c可相繼遠離旋轉(zhuǎn)頭2410的中心而布置。也就是說，第一回收容器2430a環(huán)繞旋轉(zhuǎn)頭2410，第二回收容器2430b環(huán)繞第一回收容器2430a，而第三回收容器2430c環(huán)繞第二回收容器2430b。第一回收容器2430a具有由其內(nèi)部空間限定的第一流入孔2431a。第二回收容器2430b具有由在第一回收容器2430a和第二回收容器2430b之間的空間限定的第二流入孔2431b。第三回收容器2430c具有由第二回收容器2430b和第三回收容器2430c之間的空間限定的第三回收容器2430c。沿第三方向Z向下延伸的回收線路2432被連接到第一回收容器2430a、第二回收容器2430b和第三回收容器和2430c的每個的底表面。第一回收線路2432a、第二回收線路2432b和第三回收線路2432c的每個對回收到第一回收容器2430a、第二回收容器2430b和第三回收容器和2430C中的流體進行流通，以將流體供應到外部流體回收系統(tǒng)(圖中未示出)。流體回收系統(tǒng)(圖中未示出)可以將經(jīng)回收的流體回收以重新使用流體。
[0063]升降構(gòu)件2440包括支架2441、升降軸2442和升降機2443。升降構(gòu)件2440在第三方向Z上移動回收容器2430。任何一個回收容器2430的流入孔2421可以具有相對于旋轉(zhuǎn)頭2410的可變的相對高度，以使得任何一個回收容器2430的流入孔2421被布置在位于旋轉(zhuǎn)頭2410上的基板S的水平表面上。支架2441固定到回收容器2430。支架2441的一端固定并耦接到由升降機2443在第三方向Z移動的升降軸2442。當設(shè)置有多個回收容器2430時，托架2441可以耦接到最外面的回收容器2430。當基板S在旋轉(zhuǎn)頭2410上加載或從旋轉(zhuǎn)頭2410卸載時，升降構(gòu)件2440可以向下移動回收容器2430，以防止回收容器2430干擾用于轉(zhuǎn)移基板S的轉(zhuǎn)移機械手2210的路徑。
[0064]此外，當流體供應部件供應流體并且轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)頭2410以執(zhí)行第一處理時，升降構(gòu)件2440可以在第三方向Z移動回收容器2430以將回收容器2430的流入孔2431定位在與基板S相同的水平面上，使得由因基板S的轉(zhuǎn)動造成的離心力而從基板S彈回的流體被回收。例如，在以順序:由洗滌劑進行化學處理、由清洗劑進行清潔處理、以及由有機溶劑進行第一干燥處理來執(zhí)行第一處理的情況下，第一流入孔2431a、第二流入孔2431b和第三流入孔2431c可以被移動到與基板S相同的水平面，以在當分別供應洗滌劑、清洗劑和有機溶劑時將流體回收到第一容器2430a、第二容器2430b和第三容器2430c中。如上所述，所使用的流體被回收時，對環(huán)境的污染可以被阻止，并且，可以再循環(huán)昂貴的流體，以減少半導體制造成本。
[0065]升降構(gòu)件2440可在第三方向Z移動旋轉(zhuǎn)頭2410，而非移動回收容器2430。
[0066]圖3是示出二氧化碳的相變的視圖。
[0067]參照圖3說明超臨界流體。
[0068]超臨界流體表示其中材料超過臨界溫度與臨界壓力的狀態(tài)的流體，即材料通過達到臨界狀態(tài)而不被分類為氣態(tài)或液態(tài)。超臨界流體的分子密度類似于液體的分子密度，并且粘度類似于氣體的粘度。由于超臨界流體具有極高的擴散、滲透以及溶解，所以超臨界流體對于化學反應來說是有利的。此外，因為超臨界流體由于其極小的表面張力而不將界面張力施加到精細結(jié)構(gòu)，所以當半導體器件被干燥時干燥效率可以是優(yōu)秀的，并且可以防止圖案塌陷。
[0069]在下文中，將描述主要用于對基板S進行干燥的二氧化碳(CO2)的超臨界流體。然而，本發(fā)明并不限于超臨界流體的組分和種類。
[0070]當二氧化碳具有約31.1° C或更高的溫度以及約7.38Mpa或更高的壓力時，二氧化碳可以處于超臨界狀態(tài)中。二氧化碳可以有無毒、不可燃以及惰性的屬性。此外，超臨界二氧化碳具有小于其它流體的臨界溫度和壓力。因此，超臨界二氧化碳可以調(diào)整溫度和壓力，以容易地控制其溶解。此外，當與水或其它溶劑相比時，超臨界二氧化碳具有比水或其它有機溶劑低約10到100倍的擴散系數(shù)以及極低的表面張力。因此，超臨界二氧化碳可以具有適于執(zhí)行干燥處理的物理性能。此外，可以從各種化學反應所產(chǎn)生的副產(chǎn)物中再循環(huán)二氧化碳。此外，在干燥處理中使用的超臨界二氧化碳可以循環(huán)并再利用，以減少對環(huán)境的污染。
[0071]圖4是示出圖1的第二處理室的管的視圖。
[0072]參考圖4，第二處理室2500包括殼體2510、加熱構(gòu)件2520和支撐構(gòu)件2530。第二處理在第二處理室2500中執(zhí)行。這里，第二處理可以是用于通過使用超臨界流體來對基板S進行干燥的第二干燥處理。
[0073]殼體2510的內(nèi)部可以提供從外部密封以干燥基板S的空間。殼體2510可以由足以承受高壓的材料形成。用于對殼體2510的內(nèi)部進行加熱的加熱構(gòu)件2520可以被布置在殼體2510的內(nèi)壁和外壁之間。當然，本發(fā)明并不限于加熱構(gòu)件2520的位置。例如，加熱構(gòu)件2520可以被布置在與上述位置不相同的位置處。支撐構(gòu)件2530支撐基板S。支撐構(gòu)件2530可以被固定及安裝在殼體2510內(nèi)?？商孢x地，支撐構(gòu)件2530可以是不固定的，但可以被轉(zhuǎn)動以使位于支撐構(gòu)件2530上的基板S轉(zhuǎn)動。
[0074]超臨界流體供應單元3000生成超臨界流體。例如，超臨界流體供應單元3000可以將比臨界溫度更高的溫度和比臨界壓力更大的壓力施加給二氧化碳，以將二氧化碳轉(zhuǎn)化為超臨界流體。超臨界流體供應單元300中產(chǎn)生的超臨界流體通過供應管3001而被供應到殼體2510中。
[0075]供應管3001包括主管3002、上供應管3003、和下供應管3004。主管3002的一端連接到超臨界流體供應單元3000。在主管3002的另一端上布置分支部件3005，從其分出上供應管3003和下供應管3004。上供應管3003的一端連接到分支部件3005而另一端連接到殼體2510的上部分。下供應管3004的一端連接到分支部件3005而另一端連接到殼體2510的下部分。供應閥3011、3012和3013被設(shè)置在供應管3001中。主閥3011被布置在主管3002中。主閥3011可以調(diào)節(jié)主管3002的打開和關(guān)閉以及超臨界流體流入主管3002中的流速。上閥3012和下閥3013可以被分別布置在上供應管3003和下供應管3004中。上閥3012和下閥3013的每個可以調(diào)節(jié)上供應管3003和下供應管3004的每個的打開和關(guān)閉以及上供應管3003和下供應管3004的每個的超臨界流體的流速。在分支部件3005和主閥3011之間布置過濾器3014。該過濾器3014從流入到供應管3001中的超臨界流體中過濾異物。
[0076]根據(jù)另一個實施例，上供應管3003或下供應管3004可以被省略。此外，供應管3001的一端可以連接到超臨界流體供應單元300而另一端可以連接到殼體2510的側(cè)表面。
[0077]排出管4001將在殼體2510內(nèi)的超臨界流體和氣體排出到外部。排出管4001的一端連接到殼體2510而另一端連接到回收單元4000。在排出管4001中布置排出閥4002。排出閥4002打開或關(guān)閉排出管4001。另外，排出閥4002可以調(diào)節(jié)超臨界流體流入排出管4001中的流速。從殼體2510排出的超臨界流體在回收單元4000中被接收。有機溶劑存在于被加載到殼體2510中的基板S的表面上。當執(zhí)行第二干燥處理時，有機溶劑與超臨界流體一起被排出到排出管4001中?；厥諉卧?000除去在超臨界流體中包含的有機溶劑。例如，超臨界流體在從其除去了有機溶劑之后，可以被供應到超臨界流體供應單元300中或被移至存儲超臨界流體的容器中。
[0078]氣體供應源5000通過氣體供應管5001而連接到殼體2510。在氣體供應管5001中布置閥5002。該閥5002打開或關(guān)閉氣體供應管5001。此外，閥5002可以調(diào)節(jié)供應到殼體2510中的惰性氣體的流速。氣體供應管5001將惰性氣體供應到殼體2510中。氣體供應源5000可以是存儲惰性氣體的儲罐。惰性氣體包括N2、He、Ne和Ar。在超臨界流體供應到殼體2510中之前，惰性氣體可以供應到殼體2510中。供應到殼體2510中的惰性氣體增加了殼體2510的內(nèi)部壓力。例如,惰性氣體可以被供應為使得殼體2510的內(nèi)部壓力達到臨界壓力或以上。
[0079]排氣管5010可連接到殼體2510。惰性氣體可以通過排氣管5010而被排出。在排氣管5010中布置排氣閥5011。排氣閥5011打開或關(guān)閉排氣管5010。此外，排氣閥5011可以調(diào)節(jié)被排出到排氣管5010中的惰性氣體的流速。在其中殼體2510的內(nèi)部壓力通過惰性氣體增加的狀態(tài)下，將超臨界流體供應到殼體2510中。同時，在殼體2510內(nèi)的惰性氣體被排出到排氣管5010中。排出到排氣管5010中的惰性氣體的量可以對應于供應到供應管3001中的超臨界流體的量。因此，殼體2510的內(nèi)部壓力可以被保持在臨界壓力或以上。當超臨界流體的供應和惰性氣體的排出在預定時間內(nèi)持續(xù)時，殼體2510的內(nèi)部可以填充有超臨界流體。
[0080]圖5是示出超臨界流體的循環(huán)的圖示。
[0081]參考圖5，超臨界流體可以被循環(huán)到超臨界流體供應單元3000、第二處理室2500和回收單元4000中。
[0082]超臨界流體供應單元3000可包括存儲罐3100、轉(zhuǎn)換罐3200、第一冷凝器3300、第二冷凝器3400以及泵3500。
[0083]二氧化碳以液體狀態(tài)存儲在存儲罐3100中?？梢詮耐獠炕蚧厥諉卧?00供應二氧化碳，然后將其存儲在存儲罐3100中。這里，被供應到外部或回收單元400的二氧化碳可以處于局部氣體狀態(tài)。第一冷凝器3300將氣態(tài)二氧化碳轉(zhuǎn)換成液態(tài)二氧化碳以將該液態(tài)二氧化碳供應至存儲罐3100中。由于液態(tài)二氧化碳的體積小于氣態(tài)二氧化碳的體積，因此大量的二氧化碳可以被存儲在存儲罐3100中?？梢允÷缘谝焕淠?300。
[0084]轉(zhuǎn)換罐3200將從存儲罐3100供應的二氧化碳轉(zhuǎn)換為超臨界流體以將該超臨界流體供應到第二處理室2500中。此外，轉(zhuǎn)換罐3200可以暫時存儲二氧化碳。在當將存儲罐3100連接至轉(zhuǎn)換罐3200的閥(未示出)被打開時，在存儲罐3100中存儲的二氧化碳可以被移至轉(zhuǎn)換罐3200，同時被轉(zhuǎn)換成氣體狀態(tài)。這里，第二冷凝器3400和泵3500可以被布置在將存儲罐3100與轉(zhuǎn)換罐3200相連的線路中。第二冷凝器3400將氣態(tài)二氧化碳轉(zhuǎn)換成液態(tài)二氧化碳。泵3500將液態(tài)二氧化碳轉(zhuǎn)換成在臨界壓力或以上壓縮的氣態(tài)二氧化碳，以將該氣態(tài)二氧化碳供應到轉(zhuǎn)換罐3200中。轉(zhuǎn)換罐3200可以在臨界溫度或以上來加熱所供應的二氧化碳，以將該二氧化碳轉(zhuǎn)換為超臨界流體，并然后將該超臨界流體轉(zhuǎn)移到第二處理室2500中。這里，從轉(zhuǎn)換罐3200排出的二氧化碳可以處于在約100巴至約150巴的壓力下壓縮二氧化碳的狀態(tài)。當根據(jù)處理的進展在第二處理室2500中需要液態(tài)或氣態(tài)二氧化碳時，轉(zhuǎn)換罐3200可以將液態(tài)或氣態(tài)二氧化碳供應到第二處理室2500中。
[0085]回收單元4000可以包括分離模塊4100和柱形模塊(column module)4200?；厥諉卧?000分離從殼體2510排出的超臨界流體中含有的有機溶劑。
[0086]分離模塊4100冷卻從殼體2510排出的有機溶劑和二氧化碳。在冷卻處理期間，有機溶劑被液化并從而與二氧化碳分離。在柱形模塊4200中提供吸收有機溶劑的吸收劑(未示出)。通過分離模塊4100輸送的二氧化碳被引入到柱形模塊4200中。二氧化碳中含有的有機溶劑被吸收到吸收劑中并隨后分離。
[0087]圖6是示出根據(jù)另一個實施例的第二處理室的管。
[0088]參照圖6，在連接到第二處理室2501的管當中的圖4的氣體供應管5001和排氣管5010可被省略。殼體2511、超臨界流體供應單元3100以及回收單元4300可以具有與圖4示出的第二處理室2500的相同的結(jié)構(gòu)。另外，回收單元4300也可以省略。這里，排出到排出管4301中的超臨界流體被浪費。
[0089]圖7是根據(jù)本發(fā)明實施例的排放單元的圖示。
[0090]參照圖7，排放單元6000包括回收管6200和廢液管6300。
[0091]超臨界流體可以被存儲在容器6100中。此外，超臨界流體流入容器6100中。在圖4和圖5中的超臨界流體供應單元3000中包含的第一冷凝器3300、存儲罐3100、第二冷凝器3400、泵3500和轉(zhuǎn)換罐3200以及將存儲罐3100、第二冷凝器3400、泵3500和轉(zhuǎn)換罐3200相互連接的管可以構(gòu)建容器6100。此外，將超臨界流體供應單元3000、殼體2510和回收單元4000相互連接的管可以構(gòu)建容器6100。
[0092]回收管6200將容器6100連接到回收容器6500。主回收管6210的一端連接到回收容器6500。主回收管6210的另一端可以平行分支成第一線路6220和第二線路6230。第一線路6220和第二線路6230的端部連接到容器6100。第一線路6220和第二線路6230的端部可以彼此結(jié)合并隨后連接到容器6100。此外，第一線路6220和第二線路6230的每個可以連接到容器6100。這里，第一線路6220和第二線路6230連接到容器6100的部分可以彼此相鄰地布置。第一閥6410和第二閥6420可以被分別布置在第一線路6220和第二線路6230中。
[0093]第一閥6410可以被設(shè)置為打開以使得容器6100內(nèi)的超臨界流體達到預定溫度或壓力。當容器6100內(nèi)的超臨界流體的溫度或壓力大于預先設(shè)定的溫度或壓力時，超臨界流體通過回收管6200被排出。因此，可以防止容器6100的溫度或壓力增加超過預先設(shè)定的溫度或壓力。而且，當供應到基板處理設(shè)備100中的電力被阻斷時，第一閥6410可以被打開。當電力沒有供應到基板處理設(shè)備100時，容器6100的溫度或壓力可能增加，這是因為在容器6100中接收的超臨界流體的狀態(tài)不受控制。狀態(tài)不受控的超臨界流體通過第一線路6220而被排出，以防止容器6100在電力供應被阻斷的狀態(tài)下增加壓力或溫度。出于第一閥6410的控制方便，第一閥6410可以通過使用氣體而被打開或關(guān)閉。
[0094]第二閥6420打開或關(guān)閉第二線路6230。另外，第二閥6420可以調(diào)節(jié)流入第二線路6230中的超臨界流體的量。第二閥6420可以由工人手動地打開或關(guān)閉。另外，第二閥6420可以連接到控制單元(未示出)。因此，第二閥6420的打開或關(guān)閉也可以由控制單元控制。在使用基板處理設(shè)備100的同時，容器6100可以被維護或修理。容器6100的維護或修理可以在容器6100中接收到的超臨界流體通過第二線路6230被排出后執(zhí)行。布置在回收管6200中的閥6410和6420也可以以隔膜類型設(shè)置。當閥6410和6420以隔膜類型設(shè)置時，可以防止或減小流入閥6410和6420中的超臨界流體中引入異物。第一閥6410和第二閥6420可以以清潔配合的方式而分別連接到第一線路6220和第二線路6230。例如，第一閥6410和第二閥6420可以以金屬密封配合的方式分別連接到第一線路6220和第二線路6230。因此，當超臨界流體通過第一閥6410或第二閥6420時，異物不會通過閥的匯接部分而被引入到超臨界流體中，或者引入超臨界流體中的異物的量減小。在回收容器6500中收集的超臨界流體可以被再利用。當在回收容器6500中收集的超臨界流體所包含的異物的量小于預定的量時，超臨界流體可以立即被再利用。例如，回收容器6500可以通過管(未示出)連接到超臨界流體供應單元3000以將超臨界流體供應到超臨界流體供應單元3000中。此外，當在超臨界流體中包含的異物的量大于預定的量時，可以在從超臨界流體中過濾異物之后再利用超臨界流體。例如，回收容器6500可以通過管而連接到異物分離裝置(未示出)。此外，回收容器6500可以被設(shè)置為能夠分離在回收容器6500中接收的超臨界流體中包含的異物的裝置。
[0095]廢液管6300的一端連接到容器6100。例如，廢液管6300可直接連接到容器6100。另外，廢液管6300可以與第一線路6220或第二線路6230結(jié)合，并隨后連接到容器6100。這里，廢液管6300可以在主回收管6210關(guān)于第一閥6410或第二閥6420的相對一側(cè)上與第一線路6220或第二線路6230結(jié)合。廢液管6300的另一端可以被配置為將超臨界流體排出到大氣中，或連接到暫時存儲要被廢棄的超臨界流體的水箱(未示出)。
[0096]圖8是安全閥的剖視圖。
[0097]參照圖7和圖8，安全閥6430包括閥殼體6431、彈性構(gòu)件6434和活塞6435。安全閥6430被布置在廢液管6300中。當容器6100的內(nèi)部壓力超過預定的壓力時，安全閥6430可以自動地被打開。
[0098]閥殼體6431限定安全閥6430的外觀。在閥殼體6431中設(shè)置入口 6431a和出口6431b。入口 6431a和出口 6431b的每個連接到廢液管6300。在與閥殼體6431中的入口6431a相反的一側(cè)布置氣缸6431c。在氣缸6431c中布置彈性構(gòu)件6434。[0099]活塞6435包括壓板6435a和桿6435b。壓板6435a被布置在氣缸6431c中在第一密封部分6432和彈性構(gòu)件6434之間。防止超臨界流體在活塞6435和閥殼體6431之間泄漏的密封部份6432和6433可以被布置在閥殼體6431中。例如，在氣缸6431c的前側(cè)上可以布置被形成為階梯式的具有截面小于氣缸6431c的截面的第一密封部分6432，并且在入口 6431a的前側(cè)上可以布置進階具有截面小于入口 6431a的截面的第二密封部分6433。桿6435b從壓板6435a的一個表面延伸，并且被布置在第一密封部分6432和第二密封部分6433上。在閥殼體6431的內(nèi)壁上可以布置防止超臨界流體在閥殼體6431和活塞6435之間泄漏的填充物6432a和6433a。例如，第一填充物6432a和第二填充物6433a可以被分別布置在第一密封部分6432和第二密封部分6433上。第一填充物6432a或第二填充物6433a可以由橡膠制成。例如，第一填充物6432a或第二填充物6433a可以由含有氟橡膠的材料制成。第一填充物6432a和第二填充物6433a的每個可以防止超臨界流體在第一密封部分6432和第二密封部分6433之間泄漏。
[0100]圖9是安全閥打開的狀態(tài)下的圖示。
[0101]打開安全閥6430的處理將參照圖9進行描述。
[0102]由超臨界流體而造成的壓力被施加到桿6435b的一端。當施加到桿6435b的壓力超過由彈性構(gòu)件6434施加到壓板6435a的壓力時，活塞6435可以朝著氣缸6431c移動以打開安全閥6439。結(jié)果，超臨界流體可以從入口 6431a流到出口 6431b。流動的超臨界流體接觸第二填充物6433a。當接觸超臨界流體時第二填充物6433a可能溶解而污染超臨界流體。此外，當活塞6435往復運動時，可能在彈性構(gòu)件6434、第一填充物6432a和第二填充物6433a上產(chǎn)生異物。此外，超臨界流體中的一部分可以被引入到第一密封部分6432或氣缸6431c中以溶解第一填充物6432a或彈性構(gòu)件6434，從而產(chǎn)生異物。異物可能污染通過安全閥6430的超臨界流體。因此，相比于通過回收管6200而被引入到回收容器6500的超臨界流體，在通過安全閥6430的超臨界流體中可能包含了相對大量的異物。
[0103]在容器6100和安全閥6430之間在廢液管6300中布置過濾器6301。存在于入口側(cè)的超臨界流體可能朝容器6100被引入。存在于入口側(cè)的超臨界流體可能由于第一填充物6432a、第二填充物6433a或彈性構(gòu)件6434而包含異物。因此，過濾器6301可以過濾從入口側(cè)朝容器6100引入的超臨界流體中包含的異物，以防止在容器6100內(nèi)的超臨界流體被污染。
[0104]圖10是安全閥和水管在其處彼此連接的部分的剖視圖。
[0105]參照圖10，過濾器6301可以以襯墊類型設(shè)置。
[0106]過濾器6301包括襯墊部分6302和過濾部分6303。襯墊部分6302可具有與安全閥6430和廢液管6300的端部的每個的管狀對應的管狀。例如，當安全閥6430和廢液管6300的每個的端部具有圓形形狀時，襯墊部分6302可以具有環(huán)形形狀。過濾部分6303從襯墊部分6302的側(cè)表面延伸。過濾部分6303可以被布置在襯墊部分6302的一個側(cè)表面或兩個側(cè)表面上。過濾部分6303被插入到廢液管6300或安全閥6430中，并隨后被固定。
[0107]通過使用稱接構(gòu)件6305來固定其中插入過濾器6301的安全閥6430和廢液管6300。耦接構(gòu)件6305包括第一耦接部分6306和第二耦接部分6307。第一耦接部分6306的環(huán)形形狀可以對應于安全閥6430的外圓周表面的環(huán)形形狀。第二耦接部分6307從第一耦接部分6306的側(cè)表面延伸。在第二耦接部分6307內(nèi)圓周表面上布置螺紋6308。在安全閥6430的外圓周表面和廢液管6300的外圓周表面上布置在半徑方向上凸出的第一凸起6436和第二凸起6305。在第二凸起6305的外圓周表面上布置螺紋6306。第一耦接部分6306被固定到第一凸起6436的側(cè)表面。第二耦接部分6307和第二凸起6305與螺紋6305和6308 B齒合,并從而相對于彼此固定。根據(jù)另一個實施例，螺紋可以被布置在第一凸起6436上。第一耦接部分6306可以被固定到第二凸起6305的側(cè)表面，并且布置在第二耦接部分6307上的螺紋6308可以與布置在第一凸起6436上的螺紋嚙合，并且因此，第二耦接部分6307和第一凸起6436可彼此固定。
[0108]圖11是連接排放單元的狀態(tài)的圖示。
[0109]參照圖11，基板處理設(shè)備包括多個排放單元6000a和6000b。
[0110]第一排放單元6000a和第二排放單元6000b分別連接到第一容器6100a和第二容器6100b。第一容器6100a和第二容器6100b的每個可以是在超臨界流體供應單元3000中包含的第一冷凝器3300、存儲罐3100、第二冷凝器3400、泵3500和轉(zhuǎn)換罐3200、以及將存儲罐3100、第二冷凝器3400、泵3500、轉(zhuǎn)換罐3200相互連接的管中的一個。此外，第一容器6100a和第二容器6100b的每個可以是將超臨界流體供應單元3000、殼體6431和回收單元4000相互連接的管中的一個。在第一排放單元600a中包含的回收管6200a和廢液管6300a的每個以及在第二排放單元6000b中包含的回收管6200b和廢液管6300b的每個可以與圖7的排放單元6000相同。此外，分別傾向于第一排放單元600a和第二排放單元600b的主回收管6210a和6210b、第一線路6220a和6220b、第二線路6230a和6230b、第一閥6410a和6410b、第二閥6420a和6420b和第三閥6430a和6430b可以具有與圖7的排放單元6000相同的結(jié)構(gòu)。
[0111]第一排放單元6000a的第一閥6410a和第二排放單元6000b的第一閥6410b可以在相同溫度或不同溫度下被打開。此外，第一排放單元6000a的安全閥6430a和第二排放單元6000b的安全閥6430b可以在相同溫度或不同溫度下被打開。
[0112]第一排放單元6000a的回收管6200a和第二排放單元6000b的回收管6200b中的每個可以連接到回收容器6501，或第一排放單元6000a的回收管6200a和第二排放單元6000b的回收管6200b可以彼此接合，并隨后連接到回收容器6501。第一排放單元6000a的廢液管6300a和第二排放單元6000b的廢液管6300b可以彼此接合并隨后將超臨界氣體排出到大氣中或連接到廢液罐。另外，第一排放單元6000a的廢液管6300a和第二排放單元6000b的廢液管6300b的每個可以將超臨界氣體排出到大氣中或連接到廢液罐。
[0113]上面的詳細描述僅僅是本發(fā)明的示例。在說明的示例性實施例中，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解到在不脫離其體現(xiàn)的概念的精神的情況下可以對其做出修改。另外，本申請的范圍并不意在限于這些具體實施例或他們的特定特征或利益。相反，本申請的范圍意在限于所附權(quán)利要求以及其等同體。
[0114]根據(jù)本發(fā)明實施例，從容器排出的超臨界流體可以根據(jù)污染程度而被分離并收集。
[0115]此外，根據(jù)本發(fā)明實施例，從容器排出的超臨界流體可以具有改善的回收效率。
[0116]以上公開的主題內(nèi)容應被認為是說明性的而非限制性的，并且所附權(quán)利要求意在覆蓋落入本發(fā)明真正精神和范圍的所有變型、改進和其它實施例。因此，在法律所允許的最大限度下，本發(fā)明的范圍將由所附權(quán)利要求及其等同體的廣義可允許的解釋來確定，并且不應受限于或局限于受前述細節(jié)描述。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理設(shè)備，包括: 提供了空間的容器，在所述空間中超臨界流體流動或被接收； 回收管，其一端連接到容器以排出在所述容器內(nèi)的所述超臨界流體，所述回收管包括閥；以及 廢液管，其連接到所述容器，以排出在所述容器內(nèi)的所述超臨界流體，所述廢液管包括安全閥， 其中，所述回收管的另一端連接到回收容器，在所述回收容器中，從容器排出的超臨界流體被接收以用于再利用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述回收管的閥不同于所述廢液管的安全閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理設(shè)備，其中，所述安全閥包括: 連接到所述廢液管的閥殼體，所述閥殼體包括通過其引入超臨界流體的入口以及通過其排出超臨界流體的出口； 布置在氣缸中的彈性構(gòu)件，所述氣缸被設(shè)置在所述閥殼體內(nèi)；以及 布置在所述彈性構(gòu)件與所述入口之間的活塞，以用于在當由所述彈性構(gòu)件或所述超臨界流體壓力而使所述活塞移動時打開或關(guān)閉所述安全閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理設(shè)備，其中，防止所述超臨界流體在所述活塞和所述閥殼體的內(nèi)壁之間泄漏的填充物被布置在所述閥殼體的內(nèi)壁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理設(shè)備，其中，所述填充物包括氟橡膠。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理設(shè)備，其中，布置在所述回收管中的所述閥以隔膜類型設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述回收容器將異物與在所述回收容器中接收的所述超臨界流體分離。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述回收容器連接到將所述超臨界流體供應至殼體中的超臨界流體供應單元，所述殼體提供了在其中處理基板的空間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述回收管包括: 主回收管，其一端連接到所述回收容器；以及 從所述主回收管的另一端平行分支的第一線路和第二線路，所述第一線路和第二線路中的每個都連接到所述容器。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理設(shè)備，其中，所述閥包括被布置在所述第一線路中的第一閥和被布置在所述第二線路中的第二閥。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述容器包括殼體，所述殼體提供了在其中處理基板的空間。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述容器包括將所述超臨界流體供應至殼體中的超臨界流體供應單元，所述殼體提供了在其中處理基板的空間。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中，所述容器包括將提供了在其中處理基板的空間的殼體連接到將所述超臨界流體供應到所述殼體中的超臨界流體供應單元的管。
【文檔編號】H01L21/02GK103456663SQ201310214510
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年5月31日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月31日
【發(fā)明者】崔龍賢, 樸正善, 許弼覠 申請人:細美事有限公司