基板清潔裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】提供一種基板清潔裝置。該基板清潔裝置包括用于傳送基板的多個(gè)傳送滾筒；將液體化學(xué)物供應(yīng)到所述基板的第一表面的液體化學(xué)物供給器；其中所述液體化學(xué)物供給器包括殼體和清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉(zhuǎn)地安裝在所述殼體內(nèi)并且具有被配置為接觸所述基板的上部分。
【專(zhuān)利說(shuō)明】基板清潔裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本公開(kāi)涉及基板清潔裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示設(shè)備中，平坦且薄的平板顯示器包括液晶顯示器(IXD)、等離子顯示設(shè)備、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器等。
[0003]平板顯示器包括用于顯示圖像的顯示面板，并且為了制造顯示面板，執(zhí)行各種過(guò)程，例如蝕刻過(guò)程、清潔過(guò)程等。
[0004]清潔過(guò)程不是現(xiàn)實(shí)中制造設(shè)備的單一過(guò)程，但它影響過(guò)程產(chǎn)出和產(chǎn)品性能。
[0005]在該【背景技術(shù)】部分中公開(kāi)的上述信息僅為了增強(qiáng)對(duì)本發(fā)明背景的理解，因此其可能包含不形成對(duì)于本國(guó)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明努力提供一種基板清潔裝置，其具有在清潔基板的下表面時(shí)防止液體化學(xué)物噴濺到基板的上部分的優(yōu)點(diǎn)。
[0007]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種基板清潔裝置，包括:用于傳送基板的多個(gè)傳送滾筒；將液體化學(xué)物供應(yīng)到所述基板的第一表面的液體化學(xué)物供給器；其中所述液體化學(xué)物供給器包括:殼體；和清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉(zhuǎn)地安裝在所述殼體內(nèi)并且具有被配置為與所述基板的上部分接觸。所述基板清潔裝置可進(jìn)一步包括:純凈水供給器，用于將純凈水供應(yīng)到所述基板的所述第一表面，被配置為去除被供應(yīng)到所述第一表面的所述液體化學(xué)物，其中所述純凈水供給器包括:殼體；和清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉(zhuǎn)地安裝在所述純凈水供給器的所述殼體內(nèi)并且具有被配置為與所述基板的上部分接觸。
[0008]所述基板清潔裝置可進(jìn)一步包括:空氣供應(yīng)單元，安裝在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液體化學(xué)物噴濺到所述基板的所述第二表面。在一實(shí)施方式中，所述基板清潔裝置可進(jìn)一步包括:空氣供應(yīng)單元，安裝在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液體化學(xué)物和所述純凈水噴濺到所述基板的所述上表面。
[0009]所述液體化學(xué)物供給器和所述純凈水供給器中的每一個(gè)可進(jìn)一步包括:將液體供應(yīng)到所述殼體的內(nèi)部的泵；和存儲(chǔ)被供應(yīng)到所述殼體的內(nèi)部的液體的液體存儲(chǔ)罐；其中所述清潔滾筒的一部分浸入被供應(yīng)到所述殼體的內(nèi)部的所述液體中。
[0010]所述清潔滾筒可包括圓柱形主體和位于所述圓柱形主體的外圓周表面的多個(gè)刷子。
[0011]所述基板清潔裝置可進(jìn)一步包括:噴濺防止構(gòu)件，布置為與在比所述清潔滾筒的旋轉(zhuǎn)中心軸線高的位置處所述清潔滾筒相鄰，以便當(dāng)用大量液體浸潰的所述清潔滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí)防止液體沿所述殼體的向上方向噴濺。
[0012]所述噴濺防止構(gòu)件可被定位為低于所述基板并且高于所述清潔滾筒的所述旋轉(zhuǎn)中心軸線。[0013]所述噴濺防止構(gòu)件可為被布置為與所述旋轉(zhuǎn)中心軸線平行的管。
[0014]所述噴濺防止構(gòu)件可被形成為在所述清潔滾筒的上部分的兩側(cè)的一對(duì)噴濺防止構(gòu)件。
[0015]所述殼體的長(zhǎng)度方向可為所述清潔滾筒的軸線延伸的方向，并且當(dāng)所述清潔滾筒的所述軸線延伸的方向垂直于所述基板的傳送方向時(shí)，平行于所述基板的所述傳送方向的所述殼體的寬度可長(zhǎng)于所述清潔滾筒的直徑。
[0016]所述基板清潔裝置可進(jìn)一步包括位于所述殼體的上表面上的蓋，所述蓋被配置為防止所述液體隨著所述清潔滾筒的旋轉(zhuǎn)而被噴濺。
[0017]所述噴濺防止蓋可被形成為在所述清潔滾筒的兩側(cè)的一對(duì)噴濺防止蓋，并且所述清潔滾筒的上端部分可伸出到所述一對(duì)噴濺防止蓋之間的開(kāi)口。
[0018]所述空氣供應(yīng)單元可包括一對(duì)氣刀，并且所述一對(duì)氣刀位于所述液體化學(xué)物供給器和所述純凈水供給器中的每一個(gè)的上方。
[0019]當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)，所述一對(duì)氣刀可位于所述清潔滾筒的前側(cè)和后側(cè)。
[0020]在所述一對(duì)氣刀中，位于所述前側(cè)的氣刀可向所述后側(cè)傾斜，并且位于所述后側(cè)的氣刀可向所述前側(cè)傾斜。
[0021]當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)，所述純凈水供給器可位于所述液體化學(xué)物供給器的后側(cè)。
[0022]所述純凈水供給器的數(shù)量為多個(gè)。
[0023]所述基板清潔裝置可進(jìn)一步包括與所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體分隔開(kāi)且當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)在所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體前方的基板移動(dòng)傳感器。
[0024]當(dāng)所述基板移動(dòng)傳感器檢測(cè)到所述基板進(jìn)入所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體的上側(cè)以及從所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體的所述上側(cè)離開(kāi)時(shí)，所述清潔滾筒的速度可被可變地控制。
[0025]當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)，所述基板的前端部分移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述基板移動(dòng)傳感器到達(dá)所述清潔滾筒的上部分的速度以及所述基板的后端部分移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述基板移動(dòng)傳感器到達(dá)所述清潔滾筒的所述上部分的速度可低于所述基板的中心部分移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述清潔滾筒的上部分的速度。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]圖1為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的視圖。
[0027]圖2為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的清潔單元的殼體的剖視圖。
[0028]圖3為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的清潔單元的操作狀態(tài)的剖視圖。
[0029]圖4為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例基板進(jìn)入基板清潔裝置的清潔單元的操作狀態(tài)的視圖。
[0030]圖5為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例基板從基板清潔裝置的清潔單元釋放的操作狀態(tài)的視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031]下文中，將參照附圖詳細(xì)描述實(shí)施例，使得它們能夠被本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員容易地實(shí)踐。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)的那樣，描述的實(shí)施例可以以各種方式被修改，而不脫離本發(fā)明的精神或范圍。附圖和說(shuō)明將被認(rèn)為本質(zhì)上是例示性的而非限制性的。相似的附圖標(biāo)記在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中通常指代相似的元件。
[0032]為了清潔平板顯示器的基板的下表面，純凈水或液體化學(xué)物典型地被噴嘴供應(yīng)并且通過(guò)使用刷子被去除，以此方式，基板的上下表面被同時(shí)清潔。然而，由于傳統(tǒng)的清潔裝置典型地通過(guò)噴頭供應(yīng)純凈水和液體化學(xué)物，液體化學(xué)物被噴濺到基板的上表面，而在很多情況下，顯示元件位于基板的上表面上。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的情況下，由于液體化學(xué)物和純凈水通過(guò)使用刷子被應(yīng)用到基板上以便清潔基板的下表面，因此能夠防止液體化學(xué)物被噴濺到基板的定位有顯示元件的上表面，同時(shí)基板的下表面被清潔。
[0033]圖1為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的視圖。
[0034]參見(jiàn)圖1，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置I可包括傳送滾筒40、清潔單元30和空氣供應(yīng)單元50。
[0035]如圖1中所例示，傳送滾筒40，即用于傳送基板2的部件，可包括安裝在框架4上的多個(gè)滾筒。多個(gè)傳送滾筒40可在水平方向上以等間距設(shè)置。
[0036]多個(gè)傳送滾筒40中的每一個(gè)的旋轉(zhuǎn)速度可由電機(jī)(未示出)調(diào)節(jié)，從而調(diào)節(jié)基板2的傳送速度。
[0037]在本發(fā)明的實(shí)施例中，下面描述基板清潔裝置I。在圖1的實(shí)施例中，裝置I具有這樣的結(jié)構(gòu):基板2被從第一側(cè)(例如，從圖1觀看時(shí)的左側(cè))引入，當(dāng)其被傳送到與第一側(cè)相反的第二側(cè)(例如，右側(cè))時(shí)其被清潔。然后，顯示(未示出)元件位于基板2的上表面上。
[0038]為了清潔基板2的下表面，當(dāng)基板2通過(guò)經(jīng)過(guò)多個(gè)傳送滾筒40而被傳送時(shí)，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的基板清潔裝置I包括清潔單元30和空氣供應(yīng)單元50。
[0039]在本發(fā)明的實(shí)施例中，清潔單元30包括將液體化學(xué)物供應(yīng)到基板2的下表面的液體化學(xué)物供給器30a以及供應(yīng)純凈水以便將已經(jīng)被供應(yīng)到基板的液體化學(xué)物去除的第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d。
[0040]參見(jiàn)圖1，當(dāng)沿基板2的傳送方向觀看時(shí)液體化學(xué)物供給器30a位于第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d前方的前側(cè)(也就是，圖1中的左側(cè))，純凈水供給器30b、30c和30d被布置在液體化學(xué)物供給器30a的后側(cè)。
[0041]參見(jiàn)圖1，在本發(fā)明的實(shí)施例中，三個(gè)純凈水供給器30b、30c和30d被安裝，但純凈水供給器的數(shù)量不限于此。
[0042]在本發(fā)明的實(shí)施例中，存儲(chǔ)在液體化學(xué)物存儲(chǔ)罐10中的液體化學(xué)物被第一泵20a通過(guò)第一供應(yīng)管24a被供應(yīng)到液體化學(xué)物供給器30a的內(nèi)部，并且用于清潔基板2的下表面的液體化學(xué)物隨后通過(guò)安裝在液體化學(xué)物供給器30a中的清潔滾筒(34a)被供應(yīng)到基板2的下表面。
[0043]存儲(chǔ)在純凈水存儲(chǔ)罐12中的純凈水被第二至第四泵20b、20c、20d通過(guò)第二至第四供應(yīng)管24b、24c、24d被供應(yīng)到第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d的內(nèi)部，并且用于清潔存在于基板2的下表面上的液體化學(xué)物的純凈水隨后通過(guò)安裝在第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d中的清潔滾筒34b、34c、34d被供應(yīng)到基板2的下表面。
[0044]空氣供應(yīng)單元50被安裝在液體化學(xué)物供給器30a和第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d的上方?？諝夤┙o單元50分別包括一對(duì)氣刀52和54。在一實(shí)施方式中，空氣供給單元50安裝在基板2的上表面的上部分上，以便防止液體化學(xué)物噴濺到基板2的下表面。
[0045]在一對(duì)氣刀52和54中，當(dāng)沿基板2的傳送方向觀看時(shí),位于前側(cè)的氣刀被定義為第一氣刀52，位于后側(cè)的氣刀被定義為第二氣刀54，第一氣刀52布置為朝向后側(cè)傾斜，第二氣刀54布置為朝向前側(cè)傾斜。參見(jiàn)圖1，第一氣刀52和基板2之間的角度a可大于0度并小于90度。第二氣刀54和基板2之間的角度P可大于90度并小于180度。
[0046]當(dāng)沿基板2的傳送方向觀看時(shí)，基于液體化學(xué)物供給器30a和第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d內(nèi)的清潔滾筒旋轉(zhuǎn)軸，第一氣刀52和第二氣刀54分別位于液體化學(xué)物供給器30a和第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d內(nèi)的清潔滾筒旋轉(zhuǎn)軸的前側(cè)和后側(cè)。
[0047]第一氣刀52和第二氣刀54被連接到空氣供應(yīng)泵(未示出)以便排放空氣。
[0048]第一氣刀52和第二氣刀54將空氣噴射到基板2，使得當(dāng)基板2在經(jīng)過(guò)清潔單元30并且液體化學(xué)物或純凈水從清潔單元30被應(yīng)用到基板2的下表面時(shí)，液體化學(xué)物或純凈水可以不被噴濺到基板2的上表面。
[0049]在本發(fā)明的實(shí)施例中，液體化學(xué)物供給器30a和第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d可具有相同的結(jié)構(gòu)，除了它們向基板供應(yīng)不同類(lèi)型的液體之外，因此，在下文中，液體化學(xué)物供給器30a和第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d，以及用于將液體化學(xué)物和純凈水供應(yīng)到液體化學(xué)物供給器30a和第一至第三純凈水供給器30b、30c和30d的構(gòu)成元件被稱(chēng)為清潔單元30，下面描述清潔單元30的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。
[0050]圖2為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的清潔單元30的殼體的剖視圖。圖3為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的清潔單元30的操作狀態(tài)的剖視圖。
[0051]參見(jiàn)圖1和圖2，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置I的清潔單元30包括殼體32、清潔滾筒34、泵和液體存儲(chǔ)罐。
[0052]殼體32被安裝在比基板2經(jīng)過(guò)的高度低的位置中，并且具有允許液體W被存儲(chǔ)在其底部部分的防滲結(jié)構(gòu)。殼體32具有矩形盒狀形狀，其具有方形橫截面并且沿基板2的寬度方向延伸，但殼體的形狀不限于此。
[0053]供應(yīng)管24被連接到殼體32的一側(cè)，從而將液體供應(yīng)到殼體32的內(nèi)部。然后，供應(yīng)管24可被連接到殼體32的下側(cè)。
[0054]排放管26安裝在殼體32的底部部分上，從而在不需要填充殼體32內(nèi)的底部部分的情況下(例如清潔單元30不操作、清潔單元30被清潔等)將殼體32內(nèi)的液體排放到外部。
[0055]清潔滾筒34被可旋轉(zhuǎn)地安裝在殼體32內(nèi)。清潔滾筒34為利用液體旋轉(zhuǎn)的構(gòu)成元件，其停滯在殼體32的底部部分上，被保持在那，從而與位于殼體32的上部分中的基板2的下表面接觸以便將液體應(yīng)用到基板的下表面。[0056]參見(jiàn)圖2和圖3，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的清潔滾筒34可包括圓柱形主體33和由PVA材料制成的刷子35以及支撐圓柱形主體33和刷子35并且沿與基板2的傳送方向垂直的方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸37。
[0057]在一個(gè)實(shí)施例中，例示的是清潔滾筒34可包括由PVA材料制成的刷子，但清潔滾筒34的材料和形狀不限于此。
[0058]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，清潔滾筒34的下端部分被定位為與殼體32的底表面稍微分隔開(kāi)，并且清潔滾筒34的上端部分可被形成為從殼體32向上伸出。
[0059]清潔滾筒34的直徑D小于殼體32的寬度LI，從而，當(dāng)清潔滾筒34被旋轉(zhuǎn)時(shí)，在圖2中觀看的清潔滾筒34的兩個(gè)橫向部分中，清潔滾筒34的端部分不被引起與殼體32的兩個(gè)側(cè)壁接觸。以此方式，由于殼體32的寬度大于清潔滾筒34的直徑，當(dāng)清潔滾筒34以高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，液體能夠平滑地移動(dòng)。清潔單元30具有矩形盒狀形狀，該矩形盒狀形狀具有方形橫截面并且沿基板2的寬度方向延伸，但清潔單元30的形狀不限于此。
[0060]噴濺防止構(gòu)件36安裝在殼體32中。參見(jiàn)圖2和圖3，噴濺防止構(gòu)件36可被配置為管，被布置為在比清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)中心軸線高的位置處與清潔滾筒34相鄰，從而當(dāng)帶有保持于其中的大量液體的清潔滾筒34被旋轉(zhuǎn)時(shí)防止液體沿殼體的向上方向噴濺。
[0061]噴濺防止構(gòu)件36可沿平行于清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)中心軸線的方向布置，并且如圖2和圖3中所例示，一對(duì)噴濺防止構(gòu)件可形成在清潔滾筒34的上部分的兩側(cè)。
[0062]蓋38安裝在殼體32的上表面上。蓋38為用于防止液體隨著清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)而沿殼體32的向上方向噴濺的構(gòu)成元件。
[0063]當(dāng)在圖2中觀看時(shí)，蓋38的一側(cè)38a被固定到殼體32的橫向表面，并且蓋38的另一側(cè)38b朝向清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)中心延伸。
[0064]當(dāng)沿基板的傳送方向觀看時(shí)，蓋38被形成為在殼體32的沿向前/向后方向的兩側(cè)的一對(duì)。開(kāi)口形成在蓋38之間，以便允許清潔滾筒34的上端部分通過(guò)該開(kāi)口伸出。形成在蓋38之間的開(kāi)口可具有合適的尺寸，從而防止當(dāng)清潔滾筒34沿基板2的傳送方向旋轉(zhuǎn)時(shí)液體沿殼體32的向上方向噴濺。
[0065]將參照?qǐng)D3描述如上述配置的清潔單元30的操作。當(dāng)基板2經(jīng)過(guò)清潔單元30的上部分時(shí)，清潔滾筒34被旋轉(zhuǎn)以允許液體被應(yīng)用到基板2的下表面。
[0066]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,清潔滾筒34被配置為包括圓柱形主體33和由柔性PVA材料制成的位于圓柱形主體的外圓周表面的多個(gè)刷子35。因此，在殼體32的內(nèi)部被填充預(yù)定深度(或一定程度)的液體的狀態(tài)下，在清潔滾筒34的下部分處的多個(gè)刷子35用液體W浸潰。
[0067]清潔滾筒34的每個(gè)刷子35的尺寸和長(zhǎng)度可根據(jù)經(jīng)驗(yàn)選擇，使得刷子35能夠用液體被充分地浸潰。
[0068]通過(guò)用液體浸潰清潔滾筒34的刷子35，當(dāng)清潔滾筒34以高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，清潔滾筒34沿圖3中觀看的逆時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)，將液體W攜帶到殼體32的上部分。因此，當(dāng)基板2朝向向前方向移動(dòng)時(shí)，被清潔滾筒34攜帶的液體W被從向前方向到向后方向應(yīng)用到基板2的下表面上。
[0069]當(dāng)清潔滾筒34將液體W傳送到殼體32的上部分時(shí)，由于殼體32的側(cè)壁與清潔滾筒34分隔開(kāi)，所以足夠大量的液體能被傳送到殼體32的上部分。[0070]如果液體的多余的量隨著旋轉(zhuǎn)被傳送到殼體32的上部分，則液體W可由于清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)動(dòng)力而沿向上方向噴濺。因此，為了防止液體W的多余的量被清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)動(dòng)力傳送到殼體32的上部分，噴濺防止構(gòu)件36被安裝。
[0071]在圖3的實(shí)施例中，例示的是噴濺防止構(gòu)件36被配置為管，但用于防止多余量的液體W被沿向上方向傳送的噴濺防止構(gòu)件36的尺寸、形狀和位置可進(jìn)行各種修改。
[0072]當(dāng)清潔滾筒34的刷子35在用液體適當(dāng)?shù)亟⒌臓顟B(tài)下經(jīng)過(guò)噴濺防止構(gòu)件36的位置時(shí)，清潔滾筒34的刷子35可與基板2的下表面接觸。以此方式，當(dāng)刷子35與基板2的下表面接觸時(shí)，液體W被應(yīng)用到基板2，并且基板2根據(jù)應(yīng)用到其上的液體類(lèi)型而被清潔。
[0073]盡管存在噴濺防止構(gòu)件36，蓋38形成在殼體32的上表面的兩側(cè)，因此，防止液體在除了蓋38之間的開(kāi)口的其它位置被應(yīng)用到基板2。
[0074]當(dāng)刷子35的液體被應(yīng)用到基板2的下表面時(shí)，包括少量液體的刷子35被可旋轉(zhuǎn)地移動(dòng)到殼體32的下部分并且用位于殼體32的底部部分的液體W浸潰，從而允許液體W位于刷子35中。
[0075]在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置I中，與基板被噴嘴(例如噴頭)形式的液體噴射器清潔的情況相比，為刷子35形式的清潔滾筒34被用來(lái)將液體化學(xué)物或純凈水應(yīng)用到基板2的下表面，防止液體被噴濺到基板2的上部分。
[0076]參見(jiàn)圖2，當(dāng)沿基板2的傳送方向觀看時(shí)，基板傳送傳感器60(或基板移動(dòng)傳感器)被安裝在殼體32的前方，并且與殼體32分隔開(kāi)預(yù)定間隔。
[0077]參見(jiàn)圖2，傳送傳感器60被形成為與殼體32分隔開(kāi)預(yù)定間隔L2。
[0078]當(dāng)基板2被朝向清潔單元30移動(dòng)或沿其遠(yuǎn)離清潔單元30的方向被移動(dòng)時(shí)，傳送傳感器60確定基板2的位置。
[0079]基板清潔裝置I的控制器(未示出)通過(guò)使用傳送傳感器60檢測(cè)基板2的端部分的位置，并且計(jì)算基板2的傳送速度，從而確定基板2經(jīng)過(guò)清潔單元30時(shí)的精確位置。
[0080]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，通過(guò)根據(jù)由傳送傳感器60檢測(cè)的基板2的位置來(lái)可變地控制清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度，防止液體噴濺到基板2的上表面。
[0081]下文中，將參照附圖詳細(xì)描述隨著基板的傳送清潔單元和空氣供應(yīng)單元的操作。
[0082]圖4為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例基板進(jìn)入基板清潔裝置的清潔單元的操作狀態(tài)的視圖。圖5為例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例基板從基板清潔裝置的清潔單元釋放的操作狀態(tài)的視圖。
[0083]參見(jiàn)圖4，當(dāng)基板2接近清潔單元30的區(qū)段A中接著經(jīng)過(guò)傳送傳感器60進(jìn)入?yún)^(qū)段B時(shí)，傳送傳感器60檢測(cè)基板2的位置。
[0084]傳送傳感器60可確定基板2是否存在于傳送傳感器60的上側(cè)。例如，當(dāng)基板2沒(méi)有存在于傳送傳感器60的上側(cè)時(shí)，傳送傳感器60被保持在OFF狀態(tài)，并且當(dāng)基板2存在于傳送傳感器60的上側(cè)時(shí)，也就是，當(dāng)基板2經(jīng)過(guò)傳送傳感器60的上側(cè)時(shí)，在圖4中觀看的區(qū)段B之后，傳送傳感器60可操作以保持在ON狀態(tài)。
[0085]以此方式，緊接著，當(dāng)傳送傳感器60進(jìn)入ON狀態(tài)時(shí)，基板清潔裝置I的控制器(未示出)檢查由傳送滾筒40移動(dòng)的基板2的傳送速度，因此確定基板2的位置。
[0086]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，當(dāng)傳送傳感器60打開(kāi)時(shí)，清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度在區(qū)段B中被保持在低速，例如大約50rpm。[0087]如果當(dāng)基板2進(jìn)入清潔單元30時(shí)清潔滾筒34快速旋轉(zhuǎn)，則液體很有可能因?yàn)榍鍧崫L筒34的旋轉(zhuǎn)動(dòng)力被噴濺到基板2的上表面。因此，清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度在區(qū)段B中保持在低速，在該區(qū)段B中，基板2接近清潔單元30，從而防止液體被噴濺到基板2的上表面。
[0088]參見(jiàn)圖5，當(dāng)基板2沿向前方向進(jìn)入清潔滾筒34的上部分，到達(dá)區(qū)段C時(shí)，清潔滾筒34以高速旋轉(zhuǎn)，例如大約200rpm，以便清潔基板2的中心部分的下表面。
[0089]以此方式，當(dāng)清潔滾筒34以高速旋轉(zhuǎn)以便被與基板2的下表面接觸從而允許液體被應(yīng)用到基板2的下表面時(shí)，基板2的下表面被應(yīng)用到其上的液體清潔。
[0090]當(dāng)清潔滾筒34以高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，空氣通過(guò)第一氣刀52被排放到基板2的上表面以便從基板2的上表面推動(dòng)存在于基板2的前端部分上的液體，即液體化學(xué)物或純凈水，因此防止液體噴濺到基板2的上表面。
[0091]當(dāng)基板2被移動(dòng)經(jīng)過(guò)傳送傳感器60并且基板2的后端部分被移動(dòng)到區(qū)段B時(shí)，傳送傳感器60被關(guān)閉，并且基板2的后端部分朝向清潔單元30的移動(dòng)被檢測(cè)。
[0092]以此方式，當(dāng)基板2的后端部分被朝向清潔單元30移動(dòng)時(shí)，清潔單元30的清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度被減小到低速，例如大約50rpm。
[0093]以此方式，由于清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度在基板2的后端部分靠近清潔滾筒34的狀態(tài)下被減小，防止液體噴濺到基板2的后端部分的上表面。
[0094]當(dāng)清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度被減小時(shí)，空氣通過(guò)第二氣刀54被排放到基板2的上表面以便推動(dòng)存在于基板的上表面上的被噴派的液體，因此防止液體存在于基板2的上表面上。
[0095]清潔滾筒34的旋轉(zhuǎn)速度、氣刀的操作時(shí)間、氣刀的操作壓力和基板的傳送速度在基板2被傳送時(shí)可根據(jù)經(jīng)驗(yàn)被選擇，使得基板的下表面被清潔，同時(shí)防止液體噴濺到基板的上表面。
[0096]在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的情況下，由于諸如刷子的清潔滾筒被用來(lái)將液體化學(xué)物和純凈水供應(yīng)到基板，液體化學(xué)物和純凈水能夠被防止噴濺到基板的上表面。
[0097]而且，在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的情況下，當(dāng)液體化學(xué)物和純凈水被供應(yīng)到基板時(shí)，刷子的速度被可變地控制，以防止液體化學(xué)物和純凈水噴濺到基板的上表面。
[0098]而且，在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板清潔裝置的情況下，由于存在氣刀用來(lái)將空氣排放到基板的上表面，液體化學(xué)物和純凈水能夠被防止噴濺到基板的上表面。
[0099]盡管已經(jīng)結(jié)合某些實(shí)施例描述了本發(fā)明，將理解，本發(fā)明不限于公開(kāi)的實(shí)施例，而是相反，其旨在覆蓋在所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)包括的各種修改和等同設(shè)置。
【權(quán)利要求】
1.一種基板清潔裝置，包括: 用于傳送基板的多個(gè)傳送滾筒； 將液體化學(xué)物供應(yīng)到所述基板的第一表面的液體化學(xué)物供給器； 其中所述液體化學(xué)物供給器包括: 殼體；和 清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉(zhuǎn)地安裝在所述殼體內(nèi)并且具有被配置為與所述基板接觸的上部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清潔裝置，進(jìn)一步包括: 純凈水供給器，用于將純凈水供應(yīng)到所述基板的所述第一表面，被配置為去除被供應(yīng)到所述第一表面的所述液體化學(xué)物的至少一部分， 其中所述純凈水供給器包括: 殼體；和 清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉(zhuǎn)地安裝在所述純凈水供給器的所述殼體內(nèi)并且具有被配置為與所述基板接觸的上部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清潔裝置，進(jìn)一步包括: 空氣供應(yīng)單元，安裝在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液體化學(xué)物噴濺到所述基板的所述第二表面。`
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，進(jìn)一步包括: 空氣供應(yīng)單元，安裝在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液體化學(xué)物和所述純凈水噴濺到所述基板的所述上表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述液體化學(xué)物供給器和所述純凈水供給器中的每一個(gè)進(jìn)一步包括: 將液體供應(yīng)到所述殼體的內(nèi)部的泵；和 存儲(chǔ)被供應(yīng)到所述殼體的內(nèi)部的液體的液體存儲(chǔ)罐； 其中所述清潔滾筒的一部分浸入被供應(yīng)到所述殼體的內(nèi)部的所述液體中。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板清潔裝置，其中所述清潔滾筒包括圓柱形主體和位于所述圓柱形主體的外圓周表面的多個(gè)刷子。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板清潔裝置，進(jìn)一步包括: 噴濺防止構(gòu)件，布置為在比所述清潔滾筒的旋轉(zhuǎn)中心軸線高的位置處與所述清潔滾筒相鄰，以便當(dāng)用大量液體浸潰的所述清潔滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí)防止液體沿所述殼體的向上方向噴濺。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板清潔裝置，其中所述噴濺防止構(gòu)件被定位為低于所述基板并且高于所述清潔滾筒的所述旋轉(zhuǎn)中心軸線。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板清潔裝置，其中所述噴濺防止構(gòu)件為被布置為與所述旋轉(zhuǎn)中心軸線平行的管。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板清潔裝置，其中所述噴濺防止構(gòu)件被形成為在所述清潔滾筒的上部分的兩側(cè)的一對(duì)噴濺防止構(gòu)件。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述殼體的長(zhǎng)度方向?yàn)樗銮鍧崫L筒的軸線延伸的方向，并且當(dāng)所述清潔滾筒的所述軸線延伸的方向垂直于所述基板的傳送方向時(shí)，平行于所述基板的所述傳送方向的所述殼體的寬度長(zhǎng)于所述清潔滾筒的直徑。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，進(jìn)一步包括位于所述殼體的上表面上的蓋，所述蓋被配置為防止所述液體隨著所述清潔滾筒的旋轉(zhuǎn)而被噴濺。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板清潔裝置，其中所述蓋被形成為在所述清潔滾筒的兩側(cè)的一對(duì)噴濺防止蓋，并且 所述清潔滾筒的上端部分伸出到所述一對(duì)噴濺防止蓋之間的開(kāi)口。
14.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板清潔裝置，其中所述空氣供應(yīng)單元包括一對(duì)氣刀，并且 所述一對(duì)氣刀位于所述液體化學(xué)物供給器和所述純凈水供給器中的每一個(gè)的上方。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板清潔裝置，其中當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)，所述一對(duì)氣刀位于所述清潔滾筒的前側(cè)和后側(cè)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板清潔裝置，其中在所述一對(duì)氣刀中，位于所述前側(cè)的氣刀向所述后側(cè)傾斜，并且位于所述后側(cè)的氣刀向所述前側(cè)傾斜。
17.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，其中當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)，所述純凈水供給器位于所述液體化學(xué)物供給器的后側(cè)。
18.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述純凈水供給器的數(shù)量為多個(gè)。
19.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述基板清潔裝置進(jìn)一步包括與所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體分隔開(kāi)且當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)在所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體前方的基板移動(dòng)傳感器。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的基板清潔裝置，其中當(dāng)所述基板移動(dòng)傳感器檢測(cè)到所述基板進(jìn)入所述液體化學(xué)物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體的上側(cè)以及從所述第一殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體的所述上側(cè)離開(kāi)時(shí)，所述清潔滾筒的速度被可變地控制。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的基板清潔裝置，其中當(dāng)沿所述基板的所述傳送方向觀看時(shí)，所述基板的前端部分移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述基板移動(dòng)傳感器到達(dá)所述清潔滾筒的上部分的速度以及所述基板的后端部分移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述基板移動(dòng)傳感器到達(dá)所述清潔滾筒的所述上部分的速度低于所述基板的中心部分移動(dòng)經(jīng)過(guò)所述清潔滾筒的上部分的速度。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK103658072SQ201310412186
【公開(kāi)日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年9月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月20日
【發(fā)明者】李承俊, 柳廷和, 韓蘇拉, 申?yáng)|明 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司