有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備和制造它的方法
【專利摘要】有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備及制造它的方法。所述有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備包括基板、配置在所述基板上的顯示單元、配置在所述顯示單元的周圍及所述基板上的阻塞單元，和封裝所述顯示單元的封裝層，其中，所述封裝層包括覆蓋所述顯示單元的有機(jī)膜和覆蓋所述有機(jī)膜和所述阻塞單元的無(wú)機(jī)膜，并且其中，所述阻塞單元的硬度低于所述無(wú)機(jī)膜的硬度。據(jù)此，改善了所述有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的橫向防潮特性。
【專利說(shuō)明】有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備和制造它的方法
[0001] 優(yōu)先權(quán)要求
[0002] 本申請(qǐng)引用整合入這個(gè)說(shuō)明書中，并根據(jù)35U.S.C. § 119法條所規(guī)定要求2012年 4月12日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局早先遞交并正式分配序列號(hào)10-2013-0040547的申請(qǐng)的所有權(quán)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003] 本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備和制造它的方法，其中改善了橫向防潮特性。

【背景技術(shù)】
[0004] 有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備包括有機(jī)發(fā)光裝置，所述有機(jī)發(fā)光裝置包括空穴注入電極、電 子注入電極、及插入它們之間的有機(jī)發(fā)光層。所述有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備為自發(fā)光顯示設(shè)備，其 中，從空穴注入電極注入的空穴和從電子注入電極注入的電子結(jié)合以在有機(jī)發(fā)光層中產(chǎn)生 激子，并且所述激子由激發(fā)態(tài)衰變至基態(tài)，以發(fā)射光束。
[0005] 由于作為自發(fā)光顯示設(shè)備的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備不需要單獨(dú)的光源，低壓驅(qū)動(dòng)以及 輕重和薄型的構(gòu)型成為可能。由于高清晰度特性，例如寬視角、高對(duì)比度和快速響應(yīng)速度， 所述有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備作為下一代顯示設(shè)備受到關(guān)注。然而，由于所述有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備 被外部濕氣和氧劣化，需要封裝它以保護(hù)所述有機(jī)發(fā)光裝置免受外部濕氣和氧的損害。
[0006] 現(xiàn)今，為了實(shí)現(xiàn)更薄和適應(yīng)性更強(qiáng)的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，使用包括有機(jī)膜和無(wú)機(jī) 膜的薄膜封裝（TFE)層封裝所述有機(jī)發(fā)光裝置。
[0007] 當(dāng)形成所述有機(jī)膜和所述無(wú)機(jī)膜時(shí)，通過(guò)在基板上布置與所述基板上的膜相對(duì)應(yīng) 的掩膜而形成圖案。此時(shí)，有機(jī)膜可滲入用于產(chǎn)生有機(jī)膜圖案的掩膜和所述基板之間的空 隙。與無(wú)機(jī)膜相比，有機(jī)膜具有顯著更低的封裝特性。因此，當(dāng)有機(jī)膜滲入基板和用于使所 述有機(jī)膜形成圖案的掩膜之間的空隙時(shí)，可在所述無(wú)機(jī)膜和所述基板之間，或所述無(wú)機(jī)膜 之間形成有機(jī)膜。同樣，這樣氧和濕氣會(huì)滲入顯示單元。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明提供了有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備和它的制造方法，其中，改善了橫向防潮特性。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，包括基板、配置在所述基板上 的顯示單元、配置在所述顯示單元的周圍并在所述基板上的阻塞單元（dam unit)、和封裝 所述顯示單元的封裝層，其中，所述封裝層包括覆蓋所述顯示單元的有機(jī)膜以及覆蓋所述 有機(jī)膜和所述阻塞單元的無(wú)機(jī)膜，并且其中，所述阻塞單元的硬度可低于所述無(wú)機(jī)膜的硬 度。所述有機(jī)膜可與所述阻塞單元隔開。所述阻塞單元可包括硅、環(huán)氧樹脂或亞克力。所 述阻塞單元可包括多個(gè)彼此隔開并且彼此平行的壩（dam)。所述阻塞單元可具有彈性。所 述有機(jī)膜可包括聚脲或聚丙烯酸酯。所述無(wú)機(jī)膜可包括31凡、41 203、5102或1102。所述顯 示設(shè)備還可包括覆蓋所述顯示單元和所述阻塞單元的下無(wú)機(jī)膜，所述有機(jī)膜可覆蓋所述下 無(wú)機(jī)膜。所述多個(gè)壩可為增加濕氣從外部到達(dá)所述顯示單元的橫向路徑長(zhǎng)度的同心矩形。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法，包括在基板上形 成阻塞單元、在所述阻塞單元的內(nèi)側(cè)并在所述基板上形成顯示單元；和在所述顯示單元上 形成封裝層以封裝所述顯示單元，形成所述封裝層可包括結(jié)合掩膜和所述基板，所述掩膜 具有其中插入所述阻塞單元的槽，通過(guò)使用所述掩膜形成有機(jī)膜以覆蓋所述顯示單元，分 離所述掩膜并形成無(wú)機(jī)膜以覆蓋所述有機(jī)膜和所述阻塞單元。所述槽的深度可等于或小于 所述阻塞單元的高度，并且所述槽的寬度可等于或大于所述阻塞單元的寬度。所述阻塞單 元可包括硅、環(huán)氧樹脂和亞克力。可通過(guò)噴墨印刷或絲網(wǎng)印刷生產(chǎn)所述阻塞單元。所述槽 可具有錐形形狀。當(dāng)所述阻塞單元與所述槽結(jié)合時(shí)，所述阻塞單元的形狀可根據(jù)所述槽的 形狀彈性地改變。所述有機(jī)膜可與所述阻塞單元隔開。所述阻塞單元的硬度可低于所述無(wú) 機(jī)膜的硬度。所述的方法還可包括形成下無(wú)機(jī)膜以覆蓋所述顯示單元和所述阻塞單元，其 中，可形成所述有機(jī)膜以覆蓋部分所述下無(wú)機(jī)膜，并且其中，結(jié)合所述掩膜與所述基板可包 括將被所述下無(wú)機(jī)膜覆蓋的阻塞單元插入所述掩膜的所述槽中。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0011] 參照以下詳細(xì)說(shuō)明，同時(shí)結(jié)合附圖，本發(fā)明的更完整的理解及其隨之產(chǎn)生的許多 優(yōu)點(diǎn)將顯而易見，同樣被更好地理解，附圖中，相似的附圖標(biāo)記表示相同或相似的部件，其 中：
[0012] 圖1為示意性說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的截面視圖；
[0013] 圖2為說(shuō)明圖1中的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的顯示單元的放大的截面視圖；
[0014] 圖3為示意性說(shuō)明制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法的截面視圖，其中，在形成阻塞 單元后形成顯示單元；
[0015] 圖4為示意性說(shuō)明制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法的截面視圖，其中，所述掩膜附 著到所述顯示單元的阻塞單元上；
[0016] 圖5為示意性說(shuō)明制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法的截面視圖，其中，有機(jī)膜形成 在所述顯示器上；和
[0017] 圖6為示意性說(shuō)明制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法的截面視圖，其中，形成無(wú)機(jī)膜。

【具體實(shí)施方式】
[0018] 提供參照附圖的下面的說(shuō)明以幫助對(duì)被權(quán)利要求和它們的等價(jià)方式所限定的示 例性實(shí)施方式的全面的理解。它包括各種具體的細(xì)節(jié)，以幫助理解，但是不應(yīng)被認(rèn)為僅為示 例性。因此，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員會(huì)認(rèn)識(shí)到可在不背離本發(fā)明的范圍和精神的情況下，作出 對(duì)這里說(shuō)明的實(shí)施方式的各種變化和修改。同樣，從詳細(xì)說(shuō)明中省略會(huì)使本發(fā)明的要點(diǎn)不 必要地模糊的任何說(shuō)明。
[0019] 同樣，雖然類似"第一"和"第二"的術(shù)語(yǔ)被用于說(shuō)明本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施方式中的 各個(gè)元件和/或部分，所述元件和/或部分可不限于這些術(shù)語(yǔ)。這些術(shù)語(yǔ)僅用于區(qū)分一個(gè) 元件或部分與另一個(gè)元件或部分。
[0020] 應(yīng)理解，當(dāng)將一部分，例如層、膜、區(qū)域、板，稱為在另一部分"上"或"上方"時(shí)，它 可直接在所述另一部分上，或者還可存在中間層。
[0021] 下文，將參照附圖詳細(xì)地說(shuō)明所述創(chuàng)造性概念的示例性實(shí)施方式。在說(shuō)明書中，將 省略或簡(jiǎn)單地說(shuō)明或給出與本發(fā)明無(wú)關(guān)的部分的說(shuō)明或附圖。全文中，相似的附圖標(biāo)記指 相似的元件。同樣，在附圖中，為了清楚，放大或擴(kuò)大層和區(qū)域的厚度和面積。
[0022] 如這里使用，術(shù)語(yǔ)"和/或"包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)列出的項(xiàng)目的任意和全部組合。 當(dāng)例如"至少一種"的表述位于一列元件之前時(shí)，它修飾整列元件，而非修飾列表中的單個(gè) 元件。
[0023] 現(xiàn)說(shuō)明圖1和圖2,圖1為示意性說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè) 備10的截面視圖，并且圖2為說(shuō)明圖1中的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的顯示單元200的放大 的截面視圖。參照?qǐng)D1和圖2,有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10包括基板100、形成在基板100上的顯 示單元200、與顯示單元200隔開并在基板100上的阻塞單元120、和封裝顯示單元200的 封裝層300。
[0024] 基板100可為柔性基板，并可由具有優(yōu)異的耐熱性和耐久性的塑料制造，例如聚 酰亞胺、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚丙烯酸酯（PAR)和 聚醚酰亞胺，然而，本發(fā)明不限于此，因?yàn)榛?00可由各種其它材料代替制造，例如金屬 和玻璃。
[0025] 顯示單元200可包括有機(jī)薄膜晶體管（TFT)層200a和像素單元200b。像素單元 200b可為有機(jī)發(fā)光裝置。下文，將參照?qǐng)D2詳細(xì)地說(shuō)明顯示單元200。
[0026] 可在基板100上形成緩沖層212。緩沖層212防止雜質(zhì)通過(guò)基板100滲入，并在基 板100的頂側(cè)提供平的表面。緩沖層212可由各種能夠進(jìn)行上述功能的材料制造。
[0027] 例如，緩沖層212可包括無(wú)機(jī)材料，例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁、氮化 鋁、氧化鈦或氮化鈦，或有機(jī)材料，例如聚酰亞胺、聚酯、或亞克力?；蛘?，所述緩沖層可為有 機(jī)層和無(wú)機(jī)層交替堆疊的多個(gè)層壓層。
[0028] 可在緩沖層212上形成TFT層200a。TFT層200a可包括有源層221、柵極222、和 源極和漏極223。雖然，在本實(shí)施方式中作為TFT層200a的實(shí)例說(shuō)明了頂柵極型的TFT，但 是還可包括具有其它結(jié)構(gòu)的TFT。
[0029] 有源層221由半導(dǎo)體材料制造，并配置在緩沖層212上，并且形成柵絕緣膜213以 覆蓋有源層221。有源層221可由例如非晶硅或多晶硅的無(wú)機(jī)半導(dǎo)體或者有機(jī)半導(dǎo)體制造， 并在源區(qū)和漏區(qū)之間具有溝道區(qū)。而且，柵絕緣膜213使有源層221與柵極222絕緣，并可 由有機(jī)材料或例如SiN x或Si02的無(wú)機(jī)材料制造。
[0030] 柵極222形成在柵絕緣層213上，并形成層間絕緣膜214以覆蓋柵極222。柵極 222可包括Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd、A1或Mo,和合金，例如A1 :Nd或Mo: W合金，但是不限于 此，因?yàn)榭紤]到設(shè)計(jì)條件，柵極222可由各種其它材料制造。層間絕緣膜214布置在柵極 222和源極和漏極223之間，以使它們彼此絕緣，并可由無(wú)機(jī)材料，例如SiN x或Si02制造。
[0031] 源極和漏極223形成在層間絕緣膜214上。具體地，層間絕緣膜214和柵絕緣層 213暴露有源層221的源區(qū)和漏區(qū)，并且源極和漏極223接觸有源層221的暴露的源區(qū)和漏 區(qū)。
[0032] 圖2示例說(shuō)明了頂柵極型的TFT，順序包括有源層221、柵極222、和源極和漏極 223,然而，本發(fā)明不限于此，并且柵極222可布置在有源層221的下方。上述TFT層200a 電連接至像素單元200b以驅(qū)動(dòng)像素單元200b，并通過(guò)被平面化層215覆蓋而受到保護(hù)。
[0033] 平面化層215可包括無(wú)機(jī)絕緣膜和/或有機(jī)絕緣膜。對(duì)于無(wú)機(jī)絕緣膜，可使用 Si02、SiNx、SiON、A1203、Ti0 2、Ta205、Hf02、Zr02、BST 或 PZT。對(duì)于有機(jī)絕緣膜，可使用通用的 聚合物（ΡΜΜΑ，PS)、具有酚類基團(tuán)的聚合物衍生物、丙烯酸類聚合物、酰亞胺類聚合物、芳基 醚類聚合物、酰胺類聚合物、氟類聚合物、對(duì)二甲苯類聚合物、乙烯醇類聚合物和它們的混 合物。而且，平面化層215可由無(wú)機(jī)絕緣膜和有機(jī)絕緣膜的復(fù)合層壓體制造。
[0034] 像素單元200b形成在平面化層215上，并可包括像素電極231、中間層232和反 電極233。像素電極231形成平面化層215上，并通過(guò)在平面化層215中形成的接觸孔230 電連接至源極和漏極223中的一個(gè)。像素電極231可為反射電極，并可包括反射膜和形成 在反射膜上的透明或半透明電極層，其中，反射膜由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或 它們的化合物制造，而透明或半透明電極層可由氧化銦錫（ΙΤ0)、氧化銦鋅（ΙΖ0)、氧化鋅 (ZnO)、氧化銦（Ιη 203)、氧化銦鎵（IG0)和氧化鋁鋅（ΑΖ0)中的至少一種或多種制造。
[0035] 在像素電極231的對(duì)面的反電極233可為透明或半透明電極，并可由包括Li、Ca、 LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg和它們的組合的具有小功函的金屬薄膜制造。而且，可進(jìn)一步由 透明電極形成材料，例如ITO、IZO、ZnO或Ιη 203，在所述金屬薄膜上制造輔助電極層或匯流 電極。
[0036] 因此，反電極233可透射由包括在中間層232中的有機(jī)發(fā)光層發(fā)射的光。即，從有 機(jī)發(fā)光層發(fā)射的光可被由反射電極制造的像素電極231直接輸出或反射，以向反電極233 輸出。
[0037] 然而，根據(jù)本實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10不限于頂發(fā)光型，并可為底發(fā)光 型，其中，從所述有機(jī)發(fā)光層射出的光射向基板100。在這個(gè)情況下，像素電極231可由透明 或半透明電極制造，并且反電極233可由反射電極制造。而且，根據(jù)本實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光 顯示設(shè)備10可為在它的頂表面和底表面的兩個(gè)方向都發(fā)光的雙發(fā)光型。
[0038] 像素限定膜216由絕緣材料制造，并配置在像素電極231上。像素限定膜216暴 露像素電極231預(yù)定區(qū)域，并且中間層232布置在暴露的區(qū)域上，其中中間層232包括有機(jī) 發(fā)光層。
[0039] 所述有機(jī)發(fā)光層可由低分子有機(jī)材料或聚合物有機(jī)材料制造。除了有機(jī)發(fā)光層， 中間層232可選擇性地進(jìn)一步包括功能層，例如空穴傳輸層（HTL)、空穴注入層（HIL)、電子 傳輸層（ETL)和電子注入層（EIL)。
[0040] 現(xiàn)參照?qǐng)D1，在基板100上與顯示單元200隔開形成阻塞單元120。S卩，阻塞單元 120包圍顯示單元200的邊緣。
[0041] 如后面所述，阻塞單元120改善了基板100和用于使封裝層300的有機(jī)膜310形 成圖案的掩膜400 (參照?qǐng)D4)之間的附著力，以在形成有機(jī)膜310的時(shí)，有效防止用于形成 有機(jī)膜310的材料的單體滲入圖4中的基板100和掩膜400中的空隙。通過(guò)防止將有機(jī)膜 310暴露于外部，改善了有機(jī)發(fā)光顯不設(shè)備10的橫向耐水蒸氣性。
[0042] 阻塞單元120為由硅、環(huán)氧樹脂和亞克力中的任一種制造的彈性元件。因而，如圖 4顯示，當(dāng)與圖4中的掩膜400結(jié)合時(shí)，阻塞單元120可根據(jù)形成在掩膜400中的槽410的 形狀而改變其形狀，并且在去除圖4中的掩膜400后，可恢復(fù)為其初始形狀。
[0043] 由于阻塞單元120存在于顯示單元200的周圍，可延長(zhǎng)濕氣和氧從有機(jī)發(fā)光顯示 設(shè)備10的外部滲入顯示單元200的滲入路徑。因此，可進(jìn)一步改善有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10 的耐水蒸氣性。為了進(jìn)一步提高耐水蒸氣性，并且雖然在附圖中未顯示，阻塞單元120可包 括多個(gè)彼此隔開的壩，以進(jìn)一步延長(zhǎng)濕氣或氧的滲入路徑。
[0044] 封裝層300封裝顯示單元200以防止顯示單元200的劣化。圖1示例說(shuō)明了包括 單個(gè)有機(jī)膜310和單個(gè)無(wú)機(jī)膜320的封裝層300,但是本發(fā)明不限于此。有機(jī)膜310和無(wú)機(jī) 膜320可被交替層壓多次。
[0045] 形成有機(jī)膜310以覆蓋顯示單元200,并可與阻塞單元120隔開。有機(jī)膜310由具 有柔性的有機(jī)材料，例如聚脲或聚丙烯酸酯制造，以釋放無(wú)機(jī)膜320的內(nèi)部壓力，或通過(guò)填 充無(wú)機(jī)膜320的微小的裂紋和小孔而提高防止外部濕氣或氧滲入的效果。無(wú)機(jī)膜320可由 具有優(yōu)異的防濕能力的無(wú)機(jī)材料，例如SiN x、A1203、Si02或Ti02制造，以防止外部濕氣或氧 滲入。因此，形成無(wú)機(jī)膜320以覆蓋有機(jī)膜310。而且，可形成無(wú)機(jī)膜320以覆蓋阻塞單元 120。
[0046] 雖然附圖中未顯示，在顯示單元200中，首先形成無(wú)機(jī)膜(未顯示)，然后可順序形 成有機(jī)膜310和另一個(gè)無(wú)機(jī)膜320。在這種情況下，阻塞單元120形成在基板100上并可被 另外的無(wú)機(jī)膜(未顯示）覆蓋。
[0047] 現(xiàn)說(shuō)明圖3至圖6,圖3至圖6為示意性說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式制造圖1中所 述有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的方法的截面視圖。首先，參照?qǐng)D3,在基板100上形成阻塞單元 120,然后在阻塞單元120內(nèi)側(cè)形成顯示單元200。
[0048] 可通過(guò)噴墨印刷技術(shù)或絲網(wǎng)印刷技術(shù)制造阻塞單元120。通過(guò)在相應(yīng)的部分上印 刷包含硅、環(huán)氧樹脂或亞克力的油墨進(jìn)行噴墨印刷，以形成阻塞單元120。通過(guò)布置在與 將在基板100上形成的阻塞單元相對(duì)應(yīng)的位置上具有開口的掩膜（未顯示)，然后在一個(gè)方 向上移動(dòng)橡膠壓輥(未顯示）并使包含硅、環(huán)氧樹脂或亞克力的糊劑通過(guò)所述開口，而進(jìn)行 絲網(wǎng)印刷，以形成阻塞單元120。雖然可通過(guò)噴墨印刷技術(shù)或絲網(wǎng)印刷技術(shù)制造阻塞單元 120,但是本發(fā)明不限于此，因?yàn)橐部赏ㄟ^(guò)涂布方法，例如旋涂或沉積，然而進(jìn)行光蝕刻過(guò)程 而制造阻塞單元120。
[0049] 在形成阻塞單元120后，形成顯示單元200。顯示單元200形成在阻塞單元120內(nèi) 偵牝以與阻塞單元120隔開。顯示單元200不僅可具有圖2示例的構(gòu)型，還可使用任何已知 的有機(jī)發(fā)光顯示器。因而，省略對(duì)它的制造方法的詳細(xì)的說(shuō)明。
[0050] 接著，形成封裝層300以封裝顯示單元200。首先，如圖4中顯示，將掩膜400附 著到基板100,然后，如圖5中顯示，以通過(guò)使用掩膜400形成有機(jī)膜310以覆蓋顯示單元 200。
[0051] 其中插入有阻塞單元120的槽410形成在掩膜400中。這里，槽410的深度可等 于或小于阻塞單元120的高度，并且槽410的寬度可等于或大于阻塞單元120的寬度。這 里，在與掩膜400的一個(gè)接觸基板100的表面相同的平面上測(cè)量槽410的寬度，即開始插入 阻塞單元120的部分的寬度。如上述，當(dāng)槽410的寬度等于或大于阻塞單元120的寬度時(shí)， 即使當(dāng)掩膜對(duì)齊工藝中出現(xiàn)錯(cuò)誤，阻塞單元120仍可易于插入槽410中。
[0052] 此外，由于阻塞單元120具有彈性，當(dāng)與槽410結(jié)合時(shí)，阻塞單元120的尺寸和形 狀可根據(jù)槽410的形狀彈性地改變。因此，由于槽410的深度等于或小于阻塞單元120的 高度，阻塞單元120最終接觸槽410的兩側(cè)，結(jié)果為掩膜400附著到基板100上。
[0053] 槽410可具有下部具有大于上部的寬度的錐形形狀，上部對(duì)應(yīng)于槽410的開口。由 此改善了阻塞單元120和槽410之間的附著力。
[0054] 當(dāng)掩膜400與基板100結(jié)合時(shí)，形成有機(jī)膜310。由于難以直接沉積例如聚脲或聚 丙烯酸酯的聚合物，即有機(jī)膜310的材料，所以可通過(guò)向基板100上蒸發(fā)用于沉積的液化單 體，并向所述沉積的單體發(fā)射紫外線來(lái)聚合，而形成有機(jī)膜310。
[0055] 此時(shí)，由于所述蒸發(fā)的單體非定向，如果掩膜400和基板100之間有空隙，所述蒸 發(fā)的單體可滲入所述空隙中。然而，由于根據(jù)本發(fā)明結(jié)合了槽410與阻塞單元120,圖5的 掩膜400可牢固地附著到基板100上，并且可使所述蒸發(fā)的單體的滲入最小化。因此，防止 形成常見的邊末端（end tail)，并且可形成有機(jī)膜310,以與阻塞單元120分離并隔開。
[0056] 即使掩膜400和基板100之間有空隙，并且蒸發(fā)的單體滲入所述空隙中，但是阻塞 單元120可阻止所述蒸發(fā)的單體擴(kuò)散到周圍。
[0057] 接著，如圖6顯示，圖5中的掩膜400與基板100的阻塞單元120隔開，然后形成 無(wú)機(jī)膜320。可通過(guò)使用用于形成無(wú)機(jī)膜320的掩膜（未顯示)，通過(guò)濺射、原子層沉淀或化 學(xué)氣相沉淀而形成無(wú)機(jī)膜320。
[0058] 形成無(wú)機(jī)膜320以覆蓋有機(jī)膜310和阻塞單元120。由于形成無(wú)機(jī)膜320以覆蓋 有機(jī)膜310,有機(jī)膜310的周圍被具有優(yōu)異的防濕性能的無(wú)機(jī)膜320覆蓋，而柔性并易受濕 氣影響的有機(jī)膜310未暴露于外部。因而可實(shí)現(xiàn)具有非常穩(wěn)定的耐水蒸氣性的封裝層300。
[0059] 在上述說(shuō)明中，示例說(shuō)明了封裝層300包括單個(gè)有機(jī)膜310和單個(gè)無(wú)機(jī)膜320， 然而本發(fā)明不限于此，因?yàn)榉庋b層300也可包括交替層壓的多個(gè)有機(jī)膜310和多個(gè)無(wú)機(jī)膜 320。而且，封裝層300也可包括首先形成的第一無(wú)機(jī)膜(未顯示)，及順序形成的有機(jī)膜310 和第二無(wú)機(jī)膜320,并且仍在本發(fā)明的范圍內(nèi)。即使在這種情況下，阻塞單元120形成在基 板100上，并被另外的無(wú)機(jī)膜(未顯示）覆蓋。
[0060] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，在形成有機(jī)膜的時(shí)可通過(guò)防止有機(jī)膜滲入掩膜和基板之 間的空隙中而改善有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的橫向防潮特性。
[0061] 盡管參照其示例性實(shí)施方式具體顯示并說(shuō)明了本發(fā)明，但應(yīng)理解的是，本領(lǐng)域技 術(shù)人員可在不違背由以下權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍的前提下在其中進(jìn)行各 種形式和細(xì)節(jié)的改動(dòng)。
【權(quán)利要求】
1. 一種有機(jī)發(fā)光顯不設(shè)備，包括： 基板； 配置在所述基板上的顯示單元； 配置在所述顯示單元的周圍并在所述基板上的阻塞單元；和 封裝所述顯示單元的封裝層，其中，所述封裝層包括覆蓋所述顯示單元的有機(jī)膜和覆 蓋所述有機(jī)膜和所述阻塞單元的無(wú)機(jī)膜，并且其中，所述阻塞單元的硬度低于所述無(wú)機(jī)膜 的硬度。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述有機(jī)膜與所述阻塞單元隔開。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述阻塞單元包括選自由硅、環(huán)氧 樹脂和亞克力組成的組中的材料。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述阻塞單元包括多個(gè)彼此隔開 并且彼此平行的壩。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述阻塞單元具有彈性。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述有機(jī)膜包括選自由聚脲和聚 丙烯酸酯組成的組中的材料。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述無(wú)機(jī)膜包括選自由SiNx、 A1203、Si02和Ti02組成的組中的材料。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，進(jìn)一步包括覆蓋所述顯示單元和所述阻 塞單元的下無(wú)機(jī)膜，所述有機(jī)膜覆蓋所述下無(wú)機(jī)膜。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，所述顯示單元包括易受濕氣和氧影響的 有機(jī)發(fā)光層。
10. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，其中，所述多個(gè)壩為增加濕氣從外部到 達(dá)所述顯示單元的橫向路徑的長(zhǎng)度的同心矩形。
11. 一種制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法，包括： 在基板上形成阻塞單元； 在所述阻塞單元內(nèi)側(cè)并在所述基板上形成顯示單元；和 在所述顯示單元上形成封裝層以封裝所述顯示單元，其中，形成所述封裝層包括： 結(jié)合掩膜和所述基板，所述掩膜具有其中插入有所述阻塞單元的槽； 通過(guò)使用所述掩膜形成有機(jī)膜以覆蓋所述顯示單元； 分離所述掩膜；和 形成無(wú)機(jī)膜以覆蓋所述有機(jī)膜和所述阻塞單元。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述槽的深度等于或小于所述阻塞單元的高 度，并且所述槽的寬度等于或大于所述阻塞單元的寬度。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述阻塞單元包括選自由硅、環(huán)氧樹脂和亞克 力組成的組中的材料。
14. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，通過(guò)選自由噴墨印刷技術(shù)和絲網(wǎng)印刷技術(shù)組 成的組中的技術(shù)制造所述阻塞單元。
15. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述槽具有錐形形狀。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，當(dāng)所述阻塞單元與所述槽結(jié)合時(shí)，所述阻塞單 元的形狀根據(jù)所述槽的形狀彈性地改變。
17. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述有機(jī)膜與所述阻塞單元隔開。
18. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述阻塞單元的硬度低于所述無(wú)機(jī)膜的硬度。
19. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，進(jìn)一步包括形成下無(wú)機(jī)膜以覆蓋所述顯示單元和所 述阻塞單元，其中，所述有機(jī)膜形成為覆蓋部分所述下無(wú)機(jī)膜，并且其中，所述掩膜與所述 基板的結(jié)合包括將被所述下無(wú)機(jī)膜覆蓋的所述阻塞單元插入所述掩膜的所述槽中。
20. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述有機(jī)膜包括選自由聚脲和聚丙烯酸酯組 成的組中的材料，通過(guò)蒸發(fā)非定向的液化單體而制造所述有機(jī)膜。
【文檔編號(hào)】H01L21/77GK104103665SQ201310606600
【公開日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2013年11月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月12日
【發(fā)明者】吳敏鎬, 趙尹衡, 金容鐸, 李昭玲, 金鐘祐, 文智永 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司