按鍵機構(gòu)及鍵盤的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明關(guān)于一種按鍵機構(gòu)及鍵盤。按鍵機構(gòu)包含底板、鍵帽、框架及向上作用力源。鍵帽設(shè)置于底板之上并位于其周圍具有朝上的斜面?？蚣茉O(shè)置于底板之上并具有通孔結(jié)構(gòu)。通孔結(jié)構(gòu)于其內(nèi)緣具有朝下的斜面，此二斜面相對設(shè)置。向上作用力源設(shè)置于底板與鍵帽之間，可使鍵帽向上運動直到鍵帽的周圍接觸到框架，使得鍵帽部分穿過通孔結(jié)構(gòu)。此二斜面于該底板的投影部分重疊，當向上作用力源使鍵帽向上移動而接近框架，此二斜面接觸時，能導引鍵帽朝向通孔結(jié)構(gòu)的中央部位偏移。本發(fā)明利用鍵帽的斜面與通孔結(jié)構(gòu)內(nèi)緣的斜面配合，產(chǎn)生限制及穩(wěn)定鍵帽作動的效果；且于整體占用面積不變的條件下，擴大鍵帽的尺寸，便于使用者按壓操作。
【專利說明】按鍵機構(gòu)及鍵盤
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種按鍵機構(gòu)及鍵盤，尤其指一種機械式按鍵機構(gòu)及鍵盤。
【背景技術(shù)】
[0002]一般薄型化鍵盤在Z軸方向(即按鍵按壓方向)上的尺寸縮小，但為了按鍵作動的穩(wěn)定性，于垂直于Z軸方向的XY平面(即按鍵排列的平面)上的尺寸則難以縮小。例如于采用鍵帽獨立于鍵盤殼體的設(shè)計中，薄型化鍵盤于Z軸方向已無多少空間可供穩(wěn)定鍵帽作動的機構(gòu)來設(shè)置，故多于鍵帽外緣形成突緣以與鍵盤殼體匹配，以限制及穩(wěn)定鍵帽的作動，此設(shè)計使得鍵帽之間的距離難以縮短。此外，為便于使用者打字操作(即按壓按鍵)，鍵帽本身的尺寸亦有設(shè)計越來越大的趨勢，此將使鍵盤在XY平面上的尺寸更難以減縮。薄型化鍵盤多搭配可攜式電子裝置而使用，以目前薄型化鍵盤的結(jié)構(gòu)配置而言，需占用過大面積的裝置既不利于攜帶，亦不利于使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]鑒于先前技術(shù)中的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種按鍵機構(gòu)，利用鍵帽外緣形成斜面來拘束鍵帽的作動，可減少于XY平面上延伸結(jié)構(gòu)的尺寸，兼顧薄型化及在XY平面上的尺寸控制。
[0004]為了達到上述目的，本發(fā)明提出一種按鍵機構(gòu)，該按鍵機構(gòu)包含底板、鍵帽、框架和向上作用力源。鍵帽設(shè)置于該底板之上并具有周圍及位于該周圍的第一斜面，該第一斜面朝上；框架設(shè)置于該底板之上并具有通孔結(jié)構(gòu)，該通孔結(jié)構(gòu)具有內(nèi)緣及位于該內(nèi)緣的第三斜面，該第三斜面朝下并與該第一斜面相對；向上作用力源設(shè)置于該底板與該鍵帽之間，該向上作用力源可使該鍵帽向上運動直到該鍵帽的該周圍接觸到該框架，使得該鍵帽部分穿過該通孔結(jié)構(gòu)；其中，該第一斜面于該底板的投影與該第三斜面于該底板的投影部分重疊，當該向上作用力源使該鍵帽向上移動而接近該框架，該第三斜面與該第一斜面接觸時，該第三斜面導引該鍵帽朝向該通孔結(jié)構(gòu)的中央部位偏移。
[0005]作為可選的技術(shù)方案，該框架包含鉚接柱、沿第一軸線延伸的第一延伸結(jié)構(gòu)及沿第二軸線延伸的第二延伸結(jié)構(gòu)，該框架經(jīng)由該鉚接柱與該底板固定連接，該鉚接柱位于該第一延伸結(jié)構(gòu)和該第二延伸結(jié)構(gòu)交會處下方，其中該第一軸線與該第二軸線垂直。
[0006]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽的該周圍為長方形，其中該鉚接柱鄰近該長方形的長軸側(cè)邊的中間，該鍵帽于該長軸側(cè)邊具有缺口，該鉚接柱穿過該缺口。
[0007]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽包含位于該周圍的突緣結(jié)構(gòu)，該突緣結(jié)構(gòu)位于該框架與該底板之間，當該鍵帽相對于該底板向上移動時，該框架擋止該突緣結(jié)構(gòu)以防止該鍵帽脫離該框架。
[0008]作為可選的技術(shù)方案，該周圍呈四邊形，該突緣結(jié)構(gòu)包含四個相互分開的第一突出部，該四個分開的第一突出部對應地位于該四邊形的四個角落。
[0009]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽的該周圍為長方形，其中該突緣結(jié)構(gòu)包含第二突出部，該第二突出部位于該長方形的長軸側(cè)邊的中間。
[0010]作為可選的技術(shù)方案，該框架包含凹陷結(jié)構(gòu)，該凹陷結(jié)構(gòu)形成于該框架朝向該底板的底表面上，當該框架擋止該突緣結(jié)構(gòu)時，該突緣結(jié)構(gòu)容置于該凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)。
[0011]作為可選的技術(shù)方案，該周圍包含復數(shù)個第一區(qū)段及復數(shù)個第二區(qū)段，該復數(shù)個第一區(qū)段與該復數(shù)個第二區(qū)段交錯設(shè)置，該突緣結(jié)構(gòu)只形成于該復數(shù)個第二區(qū)段中，但該突緣結(jié)構(gòu)未形成于該復數(shù)個第一區(qū)段。
[0012]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽具有第一按壓部，該第一按壓部為突柱，該突柱自該鍵帽的下表面朝向該底板延伸，該鍵帽于該下表面上包含交叉肋結(jié)構(gòu)，該交叉肋結(jié)構(gòu)延伸鄰接該鍵帽的該周圍，該突柱位于該交叉肋結(jié)構(gòu)的交叉點上。
[0013]作為可選的技術(shù)方案，該按鍵機構(gòu)還包含第一開關(guān)，其中該第一開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有第一按壓部，當該鍵帽朝向該底板移動時，該第一按壓部位于該第一開關(guān)上方。
[0014]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽的周圍為長方形，其中該按鍵機構(gòu)還包含第二開關(guān)，該第二開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有第二按壓部，當該鍵帽朝向該底板移動時，該第二按壓部位于該第二開關(guān)上方。
[0015]作為可選的技術(shù)方案，該第一按壓部與第二按壓部分別為一個突柱，每一該突柱自該鍵帽的下表面朝向該底板延伸，該鍵帽于該下表面上包含二個交叉肋結(jié)構(gòu)，該二個交叉肋結(jié)構(gòu)相互連接且延伸鄰接該鍵帽的該周圍，二個該突柱對應地位于該二個交叉肋結(jié)構(gòu)的二個交叉點上，該二個交叉點的連線平行于該長方形的長軸中心線。
[0016]作為可選的技術(shù)方案，該向上作用力源為彈性體，該鍵帽具有按壓部，該按壓部保持接觸該彈性體，當該鍵帽朝向該底板移動時，該按壓部擠壓該彈性體。
[0017]作為可選的技術(shù)方案，該向上作用力源為一對互相排斥的磁鐵，該對互相排斥的磁鐵分別設(shè)置在該鍵帽與該底板上，當該鍵帽朝向該底板移動時，該對互相排斥的磁鐵彼此接近。
[0018]作為可選的技術(shù)方案，該按鍵機構(gòu)還包含開關(guān)，其中該開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有按壓部，該按壓部朝向該底板移動第一行程以觸發(fā)該開關(guān)，該鍵帽的該周圍具有第一側(cè)部及相對該第一側(cè)部的第二側(cè)部，當該第一側(cè)部及該第二側(cè)部均接觸該框架時，該第二側(cè)部處于原始位置，當該鍵帽傾斜按壓時，該第一側(cè)部保持接觸該框架且該第二側(cè)部朝向該底板移動直到該第二側(cè)部處于傾斜按壓位置，該第二側(cè)部自該原始位置至該傾斜按壓位置移動第二行程，該第二行程大于該第一行程的兩倍。
[0019]作為可選的技術(shù)方案，該向上作用力源具有向上突柱，該向上突柱朝向該鍵帽延伸，該鍵帽的下表面具有平面，該向上突柱于該下表面的投影完全落于該平面內(nèi)，且該投影大小小于該平面大小。
[0020]作為可選的技術(shù)方案，該框架與該鍵帽之間具有縫隙，該按鍵機構(gòu)還包含蒙皮，該蒙皮延伸于該框架、該鍵帽與該縫隙上方。
[0021]相較于先前技術(shù)，本發(fā)明的按鍵機構(gòu)利用鍵帽的斜面與通孔結(jié)構(gòu)內(nèi)緣的斜面配合，即可產(chǎn)生限制及穩(wěn)定鍵帽作動的效果，故鍵帽之間的距離可相對地縮短；另一方面，本發(fā)明的按鍵機構(gòu)亦能于整體占用面積不變的條件下，擴大鍵帽的尺寸，便于使用者按壓操作。[0022]此外，本發(fā)明還提出一種鍵盤，該鍵盤包含按鍵機構(gòu)，該按鍵機構(gòu)包含底板、鍵帽、框架和向上作用力源。鍵帽設(shè)置于該底板之上并具有周圍及位于該周圍的第一斜面，該第一斜面朝上；框架設(shè)置于該底板之上并具有通孔結(jié)構(gòu)，該通孔結(jié)構(gòu)具有內(nèi)緣及位于該內(nèi)緣的第三斜面，該第三斜面朝下并與該第一斜面相對；向上作用力源設(shè)置于該底板與該鍵帽之間，該向上作用力源可使該鍵帽向上運動直到該鍵帽的該周圍接觸到該框架，使得該鍵帽部分穿過該通孔結(jié)構(gòu)；其中，該第一斜面于該底板的投影與該第三斜面于該底板的投影部分重疊，當該向上作用力源使該鍵帽向上移動而接近該框架，該第三斜面與該第一斜面接觸時，該第三斜面導引該鍵帽朝向該通孔結(jié)構(gòu)的中央部位偏移。
[0023]作為可選的技術(shù)方案，該框架包含鉚接柱、沿第一軸線延伸的第一延伸結(jié)構(gòu)及沿第二軸線延伸的第二延伸結(jié)構(gòu)，該框架經(jīng)由該鉚接柱與該底板固定連接，該鉚接柱位于該第一延伸結(jié)構(gòu)和該第二延伸結(jié)構(gòu)交會處下方，其中該第一軸線與該第二軸線垂直。
[0024]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽的該周圍為長方形，其中該鉚接柱鄰近該長方形的長軸側(cè)邊的中間，該鍵帽于該長軸側(cè)邊具有缺口，該鉚接柱穿過該缺口。
[0025]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽包含位于該周圍的突緣結(jié)構(gòu)，該突緣結(jié)構(gòu)位于該框架與該底板之間，當該鍵帽相對于該底板向上移動時，該框架擋止該突緣結(jié)構(gòu)以防止該鍵帽脫離該框架。
[0026]作為可選的技術(shù)方案，該周圍呈四邊形，該突緣結(jié)構(gòu)包含四個相互分開的第一突出部，該四個分開的第一突出部對應地位于該四邊形的四個角落。
[0027]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽的該周圍為長方形，其中該突緣結(jié)構(gòu)包含第二突出部，該第二突出部位于該長方形的長軸側(cè)邊的中間。
[0028]作為可選的技術(shù)方案，該框架包含凹陷結(jié)構(gòu)，該凹陷結(jié)構(gòu)形成于該框架朝向該底板的底表面上，當該框架擋止該突緣結(jié)構(gòu)時，該突緣結(jié)構(gòu)容置于該凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)。
[0029]作為可選的技術(shù)方案，該周圍包含復數(shù)個第一區(qū)段及復數(shù)個第二區(qū)段，該復數(shù)個第一區(qū)段與該復數(shù)個第二區(qū)段交錯設(shè)置，該突緣結(jié)構(gòu)只形成于該復數(shù)個第二區(qū)段中，但該突緣結(jié)構(gòu)未形成于該復數(shù)個第一區(qū)段。
[0030]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽具有第一按壓部，該第一按壓部為突柱，該突柱自該鍵帽的下表面朝向該底板延伸，該鍵帽于該下表面上包含交叉肋結(jié)構(gòu)，該交叉肋結(jié)構(gòu)延伸鄰接該鍵帽的該周圍，該突柱位于該交叉肋結(jié)構(gòu)的交叉點上。
[0031]作為可選的技術(shù)方案，該按鍵機構(gòu)還包含第一開關(guān)，其中該第一開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有第一按壓部，當該鍵帽朝向該底板移動時，該第一按壓部位于該第一開關(guān)上方。
[0032]作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽的周圍為長方形，其中該按鍵機構(gòu)還包含第二開關(guān)，該第二開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有第二按壓部，當該鍵帽朝向該底板移動時，該第二按壓部位于該第二開關(guān)上方。
[0033]作為可選的技術(shù)方案，該第一按壓部與第二按壓部分別為一個突柱，每一該突柱自該鍵帽的下表面朝向該底板延伸，該鍵帽于該下表面上包含二個交叉肋結(jié)構(gòu)，該二個交叉肋結(jié)構(gòu)相互連接且延伸鄰接該鍵帽的該周圍，二個該突柱對應地位于該二個交叉肋結(jié)構(gòu)的二個交叉點上，該二個交叉點的連線平行于該長方形的長軸中心線。
[0034]作為可選的技術(shù)方案，該向上作用力源為彈性體，該鍵帽具有按壓部，該按壓部保持接觸該彈性體，當該鍵帽朝向該底板移動時，該按壓部擠壓該彈性體。
[0035]作為可選的技術(shù)方案，該向上作用力源為一對互相排斥的磁鐵，該對互相排斥的磁鐵分別設(shè)置在該鍵帽與該底板上，當該鍵帽朝向該底板移動時，該對互相排斥的磁鐵彼此接近。
[0036]作為可選的技術(shù)方案，該按鍵機構(gòu)還包含開關(guān)，其中該開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有按壓部，該按壓部朝向該底板移動第一行程以觸發(fā)該開關(guān)，該鍵帽的該周圍具有第一側(cè)部及相對該第一側(cè)部的第二側(cè)部，當該第一側(cè)部及該第二側(cè)部均接觸該框架時，該第二側(cè)部處于原始位置，當該鍵帽傾斜按壓時，該第一側(cè)部保持接觸該框架且該第二側(cè)部朝向該底板移動直到該第二側(cè)部處于傾斜按壓位置，該第二側(cè)部自該原始位置至該傾斜按壓位置移動第二行程，該第二行程大于該第一行程的兩倍。
[0037]作為可選的技術(shù)方案，該向上作用力源具有向上突柱，該向上突柱朝向該鍵帽延伸，該鍵帽的下表面具有平面，該向上突柱于該下表面的投影完全落于該平面內(nèi)，且該投影大小小于該平面大小。
[0038]作為可選的技術(shù)方案，該框架與該鍵帽之間具有縫隙，該按鍵機構(gòu)還包含蒙皮，該蒙皮延伸于該框架、該鍵帽與該縫隙上方。
[0039]作為可選的技術(shù)方案，該框架具有第一通孔結(jié)構(gòu)及第二通孔結(jié)構(gòu)，該鉚接柱位于該第一通孔結(jié)構(gòu)與該第二通孔結(jié)構(gòu)之間。
[0040]相較于先前技術(shù)，本發(fā)明的鍵盤利用按鍵機構(gòu)中鍵帽的斜面與通孔結(jié)構(gòu)內(nèi)緣的斜面配合，即可產(chǎn)生限制及穩(wěn)定鍵帽作動的效果，故鍵帽之間的距離可相對地縮短；另一方面，本發(fā)明的鍵盤亦能于整體占用面積不變的條件下，擴大鍵帽的尺寸，便于使用者按壓操作。
[0041]以下結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行詳細描述，但不作為對本發(fā)明的限定?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0042]圖1為根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的按鍵機構(gòu)的示意圖；
[0043]圖2為圖1中按鍵機構(gòu)的爆炸圖；
[0044]圖3為圖1中按鍵機構(gòu)沿線W-W的剖面圖；
[0045]圖4為圖1中按鍵機構(gòu)沿線V-V的剖面圖；
[0046]圖5為圖1中按鍵機構(gòu)的框架于另一視角的示意圖；
[0047]圖6為圖1中按鍵機構(gòu)的鍵帽于另一視角的示意圖；
[0048]圖7為圖1中按鍵機構(gòu)的鍵帽傾斜上升的示意圖；
[0049]圖8為圖1中按鍵機構(gòu)的鍵帽傾斜下降的示意圖；
[0050]圖9為根據(jù)另一實施例的按鍵機構(gòu)的剖面圖；
[0051]圖10為根據(jù)另一實施例的按鍵機構(gòu)的剖面圖；
[0052]圖11為根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的按鍵機構(gòu)的爆炸圖；
[0053]圖12為圖11中按鍵機構(gòu)的鍵帽于另一視角的示意圖；
[0054]圖13為根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的按鍵機構(gòu)的爆炸圖；
[0055]圖14為圖13中按鍵機構(gòu)的鍵帽于另一視角的示意圖；
[0056]圖15為根據(jù)本發(fā)明的第四實施例的鍵盤的示意圖；[0057]圖16為圖15中鍵盤的爆炸圖；
[0058]圖17為鍵盤包含一層蒙皮實施例的按鍵機構(gòu)的剖面圖。
【具體實施方式】
[0059]請參閱圖1及圖2，圖1為根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的按鍵機構(gòu)I的示意圖，圖2為按鍵機構(gòu)I的爆炸圖。按鍵機構(gòu)I包含底板10、薄膜電路板12、鍵帽14、框架16及向上作用力源18，底板10、薄膜電路板12、鍵帽14、框架16及向上作用力源18疊置。其中，薄膜電路板12設(shè)置于底板10與鍵帽14之間并包含開關(guān)122 (以影線框表示)，鍵帽14及框架16均設(shè)置于底板10及薄膜電路板12之上，框架16具有通孔結(jié)構(gòu)162，鍵帽14對應通孔結(jié)構(gòu)162設(shè)置，向上作用力源18對應開關(guān)122設(shè)置于底板10及薄膜電路板12之上且于鍵帽14之下。
[0060]請亦參閱圖3至圖6，圖3為按鍵機構(gòu)I沿圖1中線W-W的剖面圖，圖4為按鍵機構(gòu)I沿圖1中線V-V的剖面圖，圖5為框架16于另一視角的示意圖，圖6為鍵帽14于另一視角的不意圖。鍵帽14具有周圍14a及位于周圍14a的第一斜面14b,通孔結(jié)構(gòu)162具有內(nèi)緣162a及位于內(nèi)緣162a的第三斜面162b。以圖1的視角而言，第一斜面14b朝上，第三斜面162b朝下，第三斜面162b與第一斜面14b相對。鍵帽14包含位于周圍14a的突緣結(jié)構(gòu)142，突緣結(jié)構(gòu)142包含四個分開的突出部1422，自第一斜面14b邊緣向外突出?？蚣?6包含凹陷結(jié)構(gòu)164，形成于框架16朝向底板10的底表面16a上，凹陷結(jié)構(gòu)164對應突出部1422包含四個分開的凹陷部1642?？蚣?6整體大致呈方框結(jié)構(gòu)，其包含兩個X軸延伸結(jié)構(gòu)168及兩個Y軸延伸結(jié)構(gòu)170?？蚣?6包含四個鉚接柱166，位于X軸延伸結(jié)構(gòu)168及Y軸延伸結(jié)構(gòu)170的交會處下方并自交會處朝向底板10延伸。于本實施例中，底板10對應鉚接柱166包含四個鉚接平臺102，鉚接柱166接觸且穿過對應的鉚接平臺102的通孔，鉚接柱166末端經(jīng)加工變形(例如熱融或擠壓變形)后，如圖3中以虛線表示其變形后輪廓，框架16即經(jīng)由鉚接柱166與底板10固定連接，薄膜電路板12亦夾置于框架16與底板10之間。
[0061]于本實施例中，向上作用力源18為彈性體，例如金屬圓突(metal dome)，可提供彈性變形。鍵帽14于其下表面14c包含交叉肋結(jié)構(gòu)144及按壓部146，交叉肋結(jié)構(gòu)144延伸鄰接鍵帽14的周圍14a，實際操作中，按壓部146可為突柱，其位于交叉肋結(jié)構(gòu)144的交叉點上并朝向底板10延伸。按壓部146位于向上作用力源18上方，且向上作用力源18位于開關(guān)122上方，亦即按壓部146位于開關(guān)122上方，故當使用者施加外力按壓鍵帽14時，鍵帽14向下移動(或謂于垂直方向Dl朝向底板10移動)，按壓部146擠壓向上作用力源18使得向上作用力源18彈性變形以能觸發(fā)開關(guān)122，其中于圖3及圖4中，以虛線繪示按壓后的鍵帽14及向上作用力源18。其中底板10對應突出部1422具有復數(shù)個鏤空104，薄膜電路板12對應突出部1422具有復數(shù)個鏤空124，使得于鍵帽14向下移動時，突出部1422不會與底板10及薄膜電路板12產(chǎn)生結(jié)構(gòu)干涉現(xiàn)象。當該外力移除時，彈性變形的向上作用力源18利用其儲存的彈性回復力以使鍵帽14向上運動(或為于垂直方向Dl遠離底板10移動)直到鍵帽14的周圍14a接觸到框架16，使得鍵帽14部分穿過通孔結(jié)構(gòu)162，即如圖3及圖4中實線所示。
[0062]進一步來說，第一斜面14b、第三斜面162b于底板10的投影部分重疊，亦即由上方俯視按鍵機構(gòu)I時，第一斜面14b部分被第三斜面162b遮蓋，故于鍵帽14向上運動時，第三斜面162b對第一斜面14b具有拘束效果。另外，突緣結(jié)構(gòu)142位于框架16與底板10之間，于鍵帽14向上運動時，框架16亦可擋止突緣結(jié)構(gòu)142以對鍵帽14向上運動拘束。于本實施例中，鍵帽14上升后(即如圖3及圖4中實線所示)，突緣結(jié)構(gòu)142的突出部1422即可容置于凹陷結(jié)構(gòu)164的對應的凹陷部1642內(nèi)。因此，第三斜面162b、框架16 (的凹陷結(jié)構(gòu)164)均具有防止鍵帽14脫離框架16的功效，亦均具有定位鍵帽14的功效。
[0063]另外，當框架16的第三斜面162b與鍵帽14的第一斜面14b接觸時，框架16對鍵帽14產(chǎn)生的作用力為斜向的(相對于垂直方向Dl)，亦即鍵帽14在垂直方向Dl及水平方向D2均受力。請參閱圖7，其為鍵帽14傾斜上升的示意圖，其剖面位置與圖4相同。于實際的鍵帽14回彈作動中，鍵帽14可能不會保持水平上升，但由于通孔結(jié)構(gòu)162的第三斜面162b對鍵帽14的第一斜面14b的拘束功效，即使鍵帽14傾斜地向上移動而接近框架16 (仍由向上作用力源18的回彈力作用)，第一斜面14b的一側(cè)先接觸第三斜面162b(如圖中實線所示)，第三斜面162b可導引鍵帽14朝向通孔結(jié)構(gòu)162的中央部位偏移，進而使鍵帽14最后仍能回到原始未被按壓時的位置(如圖中虛線所示)。因此，透過第一斜面14b、第三斜面162b，框架16對鍵帽14于垂直方向Dl及水平方向D2均有結(jié)構(gòu)拘束作用。實際操作中，突緣結(jié)構(gòu)142 (提供鍵帽14垂直方向Dl的拘束)亦可省略。
[0064]此外，當鍵帽14被按壓時，按壓部146需朝向底板10移動行程LI (如圖3及圖4所示)以觸發(fā)開關(guān)122 ;若按壓部146朝向底板10移動量小于該行程LI，則無法順利地觸發(fā)開關(guān)122 ;但于實際的按壓鍵帽14的作動中，鍵帽14亦可能不會保持水平下降。請參閱圖8，其為鍵帽14傾斜下降的示意圖，其剖面位置與圖3相同。以圖8中的視角來看，周圍14a于左右兩側(cè)具有兩相對的側(cè)部14d、14e，相當于突出部1422。當(如圖中虛線所示)鍵帽14未被按壓時，側(cè)部14d、14e均接觸框架16，側(cè)部14e處于一原始位置。當鍵帽14被按壓而傾斜下降時(如圖中實線所示)，側(cè)部14d保持接觸框架16，側(cè)部14e則朝向底板10移動直至側(cè)部14e處于一傾斜按壓位置，側(cè)部14e自該原始位置至該傾斜按壓位置移動行程L2，由于按壓部146大致位于鍵帽14中央位置，亦位于側(cè)部14d、14e中間1/2距離處，為使按壓部146能有效觸發(fā)開關(guān)122，行程L2必需設(shè)計為約略等于行程LI的兩倍，如此方能確保位于鍵帽14中央位置的按壓部146移動量至少大于行程LI。
[0065]補充說明的是，于本實施例中，主要透過框架16對突緣結(jié)構(gòu)142的拘束來達到對鍵帽14最高位置的限位作用，故當突緣結(jié)構(gòu)142進入凹陷結(jié)構(gòu)164后，鍵帽14的第一斜面14b與框架16的第三斜面162b間存有間隙，如圖3所示，但本發(fā)明不以此為限。實際操作中，鍵帽14亦可不含突緣結(jié)構(gòu)142，此時，第一斜面14b、第三斜面162b間的結(jié)構(gòu)拘束作用仍可有效發(fā)揮對鍵帽14于最高位置的限位作用。此外，于圖8所示鍵帽14傾斜按壓的情形中，其側(cè)部14d、14e均為突出部1422，當鍵帽14不含突緣結(jié)構(gòu)142時，前述側(cè)部14d、14e即由第一斜面14b處的鍵帽14周圍14a實施，不待贅述。
[0066]另外，于本實施例中，突緣結(jié)構(gòu)142未于整個周圍14a均形成。如圖6所示，鍵帽14周圍14a大致上呈四邊形(例如正方形)，周圍14a包含復數(shù)個第一區(qū)段140a及復數(shù)個第二區(qū)段140b，第一區(qū)段140a及第二區(qū)段140b交錯設(shè)置，其中第二區(qū)段140b位于該四邊形的四個角落，于本實施例中，突緣結(jié)構(gòu)142只形成于第二區(qū)段140b中，但突緣結(jié)構(gòu)142未形成于第一區(qū)段140a，亦即突出部1422即對應地位于該四邊形的四個角落，兼具有助于鍵帽14作動穩(wěn)定及空間有效利用的功效。于本實施例中，鉚接柱166亦對應鍵帽14周圍14a的四個角落設(shè)置，同樣地兼具有利于結(jié)構(gòu)固定及空間有效利用的功效。
[0067]再補充說明的是，于本實施例中，向上作用力源18以接觸的方式支撐鍵帽14并作為按壓部146觸發(fā)開關(guān)122的實體媒介，亦即于鍵帽14作動過程中，按壓部146保持接觸該彈性體，當鍵帽14朝向底板10移動時，按壓部146擠壓該彈性體，進而觸發(fā)開關(guān)122。但本發(fā)明不以此為限。請參閱圖9，其為根據(jù)另一實施例的按鍵機構(gòu)3的剖面圖，其剖面位置與圖4相同。按鍵機構(gòu)3與按鍵機構(gòu)I大致相同，故按鍵機構(gòu)3仍沿用按鍵機構(gòu)I的組件符號，關(guān)于按鍵機構(gòu)3的其它說明請直接參閱按鍵機構(gòu)I的相關(guān)說明，不另贅述。按鍵機構(gòu)3與按鍵機構(gòu)I主要不同之處在于按鍵機構(gòu)3的向上作用力源38為多對互相排斥的磁鐵382、384，分別設(shè)置在鍵帽14與底板10上。當鍵帽14朝向底板10移動時，該對互相排斥的磁鐵382、384彼此接近，使得彼此間產(chǎn)生的斥力增大；當按壓鍵帽14的外力消失時，此斥力即可驅(qū)使鍵帽14遠離底板10移動。補充說明的是，因按鍵機構(gòu)3中不具有金屬圓突置于開關(guān)122與按壓部346之間，實際操作中，按鍵機構(gòu)3的鍵帽34的按壓部346突出的長度可略長于按鍵機構(gòu)I中的按壓部146，用以補償金屬圓突的厚度，以維持相同的觸控行程(如前述行程LI)，但本發(fā)明不以此為限。例如，在不考慮結(jié)構(gòu)干涉的情形下，即使使用鍵帽14于按鍵機構(gòu)3中，使用者可以更大的按壓力量使鍵帽14持續(xù)朝向底板10移動，直至按壓部146接觸并觸發(fā)開關(guān)122。
[0068]另外，于按鍵機構(gòu)I中，鍵帽14透過突出的按壓部146擠壓向上作用力源18(例如金屬圓突)，但本發(fā)明不以此為限。請參閱圖10，其為根據(jù)另一實施例的按鍵機構(gòu)4的剖面圖，其剖面位置與圖4相同。按鍵機構(gòu)4與按鍵機構(gòu)I大致相同，故按鍵機構(gòu)4仍沿用按鍵機構(gòu)I的組件符號，關(guān)于按鍵機構(gòu)4的其它說明請直接參閱按鍵機構(gòu)I的相關(guān)說明，不另贅述。按鍵機構(gòu)4與按鍵機構(gòu)I主要不同之處在于按鍵機構(gòu)4的鍵帽44不具有按壓部，鍵帽44直接透過其下表面44c擠壓向上作用力源48。于本實施例中，向上作用力源48包含彈性本體482及向上突柱484，向上突柱484自彈性本體482的中央最高點朝向鍵帽44延伸，向上作用力源48可由彈性硅膠射出成形或金屬沖壓制作。鍵帽44的下表面44c具有平面440，鍵帽44可由圖6所示的鍵帽14去除按壓部146來理解，其中交叉肋結(jié)構(gòu)144的交叉點呈現(xiàn)的平面即可作為鍵帽44的平面440，但實際操作中，鍵帽44可直接使用其整個下表面44c為平面的結(jié)構(gòu)(亦即不存在交叉肋結(jié)構(gòu)144)。向上突柱484于下表面44c的投影完全落于平面440內(nèi)，且該投影大小小于平面440大?。粨Q言之，即使當鍵帽44相對于向上突柱484有所偏移時，例如鍵帽44于生產(chǎn)組裝過程中發(fā)生水平方向D2的偏移設(shè)置時，鍵帽44下表面44c仍能和向上突柱484保持相同間距,如此鍵帽44能:(I)有效擠壓向上突柱484進而按壓到彈性本體482中央位置而使彈性變形以觸發(fā)開關(guān)122 ;且(2)向上作用力源48提供給鍵帽44的作用力大小保持一致，不會因為鍵帽左右偏移而有變化。
[0069]請參閱圖11及圖12，圖11為根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的按鍵機構(gòu)5的爆炸圖，圖12為按鍵機構(gòu)5的鍵帽54于另一視角的不意圖。按鍵機構(gòu)5與按鍵機構(gòu)I的結(jié)構(gòu)大致相同，邏輯上，按鍵機構(gòu)5可視為兩個按鍵機構(gòu)I結(jié)構(gòu)整合成單一倍數(shù)按鍵機構(gòu)，如:空格鍵，SHIFT鍵。同樣地，按鍵機構(gòu)5包含底板50、薄膜電路板52、鍵帽54、框架56及向上作用力源58，底板50、薄膜電路板52、鍵帽54、框架56及向上作用力源58疊置，其中，薄膜電路板52設(shè)置于底板50與鍵帽54之間。由于按鍵機構(gòu)5較長，為使鍵帽54能更有效觸發(fā)開關(guān)，薄膜電路板52包含兩個開關(guān)522a、522b (以影線框表示)，鍵帽54及框架56均設(shè)置于底板50及薄膜電路板52之上，框架56具有通孔結(jié)構(gòu)562，鍵帽54對應通孔結(jié)構(gòu)562設(shè)置，向上作用力源58由兩個彈性體58a、58b(例如金屬圓突)實作，對應開關(guān)522a、522b設(shè)置于底板50及薄膜電路板52之上且于鍵帽54之下。鍵帽54對應彈性體58a、58b具有兩個按壓部546a、546b，實際操作中，按壓部546a、546b可為突柱，自鍵帽54的下表面54c朝向底板50延伸。鍵帽54于下表面54c上包含二交叉肋結(jié)構(gòu)544a、544b，此兩個交叉肋結(jié)構(gòu)544a、544b相互連接且延伸鄰接鍵帽54的周圍54a，按壓部546a、546b對應地位于兩個交叉肋結(jié)構(gòu)544a、544b的兩個交叉點上。鍵帽54的周圍54a大致上為長方形，該兩個交叉點的連線平行于該長方形的長軸中心線(以虛線表示于圖12中)。按壓部546a、546b對應地位于開關(guān)522a、522b上方。當鍵帽54被按壓而朝向底板50移動時，無論是水平下壓或是傾斜下壓鍵帽54，按壓部546a、546b至少其中之一擠壓對應的彈性體58a或58b使得被擠壓的彈性體58a或58b彈性變形以能觸發(fā)對應的開關(guān)522a或522b。此外，相較于按鍵機構(gòu)1，按鍵機構(gòu)5輪廓較長，故使用較多的鉚接柱566，其中兩個鉚接柱566鄰近該長方形的兩個長軸側(cè)邊54d的中間，鍵帽54于此二兩個長軸側(cè)邊54d各具有缺口 54b，前述兩個鉚接柱166穿過此兩個缺口 54b，藉此，鉚接柱166可更接近鍵帽54而固定框架56與底板50，使得按鍵機構(gòu)5靠近鍵帽54的結(jié)構(gòu)更為穩(wěn)固，進而使得鍵帽54的作動更為穩(wěn)定。關(guān)于按鍵機構(gòu)5各組件的其它說明請直接參閱按鍵機構(gòu)I命名相同組件的相關(guān)說明，不另贅述。另外，關(guān)于按鍵機構(gòu)I變化態(tài)樣的說明于按鍵機構(gòu)5亦有適用，亦不另贅述。
[0070]請參閱圖13及圖14，圖13為根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的按鍵機構(gòu)6的爆炸圖，圖14為按鍵機構(gòu)6的鍵帽64于另一視角的示意圖。按鍵機構(gòu)6與按鍵機構(gòu)I的結(jié)構(gòu)大致相同，邏輯上，按鍵機構(gòu)6可視為三個按鍵機構(gòu)I結(jié)構(gòu)整合成單一按鍵機構(gòu)。同樣地，按鍵機構(gòu)6包含底板60、薄膜電路板62、鍵帽64、框架66及向上作用力源68，底板60、薄膜電路板62、鍵帽64、框架66及向上作用力源68疊置,其中，薄膜電路板62設(shè)置于底板60與鍵帽64之間。由于按鍵機構(gòu)5較長，為使鍵帽54能更有效觸發(fā)開關(guān)，薄膜電路板62包含三個開關(guān)622a、622b、622c (以影線框表示)，鍵帽64及框架66均設(shè)置于底板60及薄膜電路板62之上，框架66具有通孔結(jié)構(gòu)662，鍵帽64對應通孔結(jié)構(gòu)662設(shè)置，實際操作中，向上作用力源68可為三個彈性體68a、68b、68c (例如金屬圓突)，對應開關(guān)622a、622b、622c設(shè)置于底板60及薄膜電路板62之上且于鍵帽64之下。鍵帽64對應彈性體68a、68b、68c具有三個按壓部646a、646b、646c,實際操作中，三個按壓部646a、646b及646c可為突柱，且自鍵帽64的下表面64c朝向底板60延伸。鍵帽64于下表面64c上包含三個交叉肋結(jié)構(gòu)644a、644b、644c，此三個交叉肋結(jié)構(gòu)644a、644b、644c相互連接且延伸鄰接鍵帽64的周圍64a，按壓部646a、646b、646c對應地位于三個交叉肋結(jié)構(gòu)644a、644b、644c的三個交叉點上。鍵帽64的周圍64a大致上為長方形，該三個交叉點的連線平行于該長方形的長軸中心線(以虛線表示于圖14中)。當鍵帽64被按壓而朝向底板60移動時，無論是水平下壓或是傾斜下壓鍵帽64，按壓部646a、646b、646c至少其中之一擠壓對應的彈性體68a、68b或68c使得被擠壓的彈性體68a、68b或68c彈性變形以能觸發(fā)對應的開關(guān)622a、622b或622c。此外，與按鍵機構(gòu)5相當，相較于按鍵機構(gòu)1，按鍵機構(gòu)6輪廓亦較長，故亦使用較多的鉚接柱666，以增加按鍵機構(gòu)6整體的穩(wěn)固性；并且，鍵帽64的突緣結(jié)構(gòu)642的突出部6422不僅設(shè)置于周圍64a的四個角落，亦設(shè)置于該長方形的長軸側(cè)邊64d的中間，以提升框架66對鍵帽64結(jié)構(gòu)的拘束效果。關(guān)于按鍵機構(gòu)6各組件的其它說明請直接參閱按鍵機構(gòu)I命名相同組件的相關(guān)說明，不另贅述。另外，關(guān)于按鍵機構(gòu)I變化態(tài)樣的說明于按鍵機構(gòu)6亦有適用，亦不另贅述。
[0071]請參閱圖15及圖16，圖15為根據(jù)本發(fā)明的第四實施例的鍵盤7的示意圖，圖16為鍵盤7的爆炸圖。鍵盤7包含底板70、薄膜電路板72、六鍵帽74a、74b、74c、框架76及六個向上作用力源78a、78b、78c，其中鍵帽74a為單鍵鍵帽，鍵帽74b、74c均為倍數(shù)鍵鍵帽，向上作用力源78a、78b、78c均由彈性體構(gòu)成(例如金屬圓突)，實際操作中，向上作用力源78a可由一個金屬圓突構(gòu)成，向上作用力源78b則可由二個金屬圓突構(gòu)成，向上作用力源78c則可由三個金屬圓突構(gòu)成。底板70、薄膜電路板72、鍵帽74a、74b、74c、框架76及向上作用力源78a、78b、78c疊置，薄膜電路板72設(shè)置于底板70與鍵帽74a、74b、74c之間，框架76具有六通孔結(jié)構(gòu)762a、762b、762c，分別對應鍵帽74a、74b、74c，使得鍵帽74a、74b、74c部分穿過通孔結(jié)構(gòu)762a、762b、762c，以供使用按壓操作。此外，為使向上作用力源78a、78b、78c能穩(wěn)定地對應設(shè)置于薄膜電路板72的開關(guān)722 (于圖16中以虛線框表示其位置)上，鍵盤7還包含膠膜80，向上作用力源78a、78b、78c先附著于膠膜80上，再疊層于薄膜電路板72上，如此將分散的復數(shù)個金屬圓突整合為單一構(gòu)件，可大幅改善組裝生產(chǎn)效率；且運用膠膜80黏貼固定，使得鍵盤7即使于長時間使用后，向上作用力源78a、78b、78c與對應的開關(guān)722的相對位置仍能保持。整體來說，鍵盤7具有四個單鍵、一個二倍長度按鍵及一個三倍長度按鍵，邏輯上，鍵盤7可視為由四個按鍵機構(gòu)1、一個按鍵機構(gòu)5及一個按鍵機構(gòu)6的結(jié)合。關(guān)于鍵盤7的其它說明(包含結(jié)構(gòu)細部說明、按鍵作動及結(jié)構(gòu)變化態(tài)樣等)請參閱前述各實施例的相關(guān)說明，不另贅述。相對地，于了解按鍵機構(gòu)1、5、6的結(jié)構(gòu)特征時，亦可參閱圖15及圖16顯示的相關(guān)結(jié)構(gòu)特征。
[0072]補充說明的是，于按鍵機構(gòu)1、5、6中，因其為單鍵結(jié)構(gòu)，故其鉚接柱166、566、666僅需位于機構(gòu)周圍部分即可使結(jié)構(gòu)穩(wěn)固，但于鍵盤7中，框架76相對較大，且分布較多數(shù)量的鍵帽74a、74b、74c，故框架76與底板70的中間部位亦使用鉚接柱766，尤其是通孔結(jié)構(gòu)762a、762b、762c之間(或謂鍵帽74a、74b、74c之間)。此外，于鍵盤7中，框架76尚包含二個定位柱768，底板70及薄膜電路板72分別對應地包含二個定位孔702、724，透過定位柱768與定位孔702、724的配合，方便鍵盤7組裝，使得鍵盤7雖包含多個按鍵，結(jié)構(gòu)體積相對龐大，但仍能保持相當?shù)慕M裝精度，使各按鍵作動正常。另外，鍵盤7的鍵帽74a、74b、74c采取相當緊密的排列，鍵帽74a、74b、74c間的空間窄小，故鉚接柱766設(shè)置在空間相對寬廣處，例如通孔結(jié)構(gòu)762a、762b、762c的角落(或謂對應鍵帽74a、74b、74c的角落處)。此外，基于相似的理由，鍵帽74a、74b、74c的突緣結(jié)構(gòu)(可參考前文中突緣結(jié)構(gòu)142)亦設(shè)置于鍵帽74a、74b、74c的角落(即對應通孔結(jié)構(gòu)762a、762b、762c的角落)，可減小容置突緣結(jié)構(gòu)的凹陷結(jié)構(gòu)(可參考前文中凹陷結(jié)構(gòu)164)對框架76結(jié)構(gòu)剛性的影響。
[0073]請參閱圖17，鍵盤7的框架76與第一鍵帽74a、第二鍵帽74b及第三鍵帽74c之間分別具有第一縫隙74m、第二縫隙74η及第三縫隙74ο。該鍵盤7更包含一層蒙皮79，蒙皮79兩端設(shè)置于鍵盤7周緣7a，且蒙皮79延伸于框架76、第一鍵帽74a、第二鍵帽74b、第三鍵帽74c、第一縫隙74m、第二縫隙74η與第三縫隙74ο上方，如此使蒙皮79能遮蔽第一縫隙74m，第二縫隙74η與第三縫隙74ο。當鍵盤7是發(fā)光鍵盤時，蒙皮79可有效阻擋上述鍵帽框架間縫隙的漏光；同時藉由挑選上述蒙皮79的材料花色或紋路，可改變使用者操作鍵盤7的接觸手感或用以改變鍵盤7的視覺外觀。
[0074]相較于先前技術(shù)，本發(fā)明的按鍵機構(gòu)及鍵盤利用按鍵機構(gòu)中鍵帽的斜面與通孔結(jié)構(gòu)內(nèi)緣的斜面配合，即可產(chǎn)生限制及穩(wěn)定鍵帽作動的效果，故鍵帽之間的距離可相對地縮短；另一方面，本發(fā)明的按鍵機構(gòu)及鍵盤亦能于整體占用面積不變的條件下，擴大鍵帽的尺寸，便于使用者按壓操作。
[0075]當然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種按鍵機構(gòu),其特征在于該按鍵機構(gòu)包含: 底板； 鍵帽，設(shè)置于該底板之上并具有周圍及位于該周圍的第一斜面，該第一斜面朝上； 框架，設(shè)置于該底板之上并具有通孔結(jié)構(gòu)，該通孔結(jié)構(gòu)具有內(nèi)緣及位于該內(nèi)緣的第三斜面，該第三斜面朝下并與該第一斜面相對；以及 向上作用力源，設(shè)置于該底板與該鍵帽之間，該向上作用力源可使該鍵帽向上運動直到該鍵帽的該周圍接觸到該框架，使得該鍵帽部分穿過該通孔結(jié)構(gòu)； 其中，該第一斜面于該底板的投影與該第三斜面于該底板的投影部分重疊，當該向上作用力源使該鍵帽向上移動而接近該框架，該第三斜面與該第一斜面接觸時，該第三斜面導引該鍵帽朝向該通孔結(jié)構(gòu)的中央部位偏移。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該框架包含鉚接柱、X軸延伸結(jié)構(gòu)及Y軸延伸結(jié)構(gòu)，該框架經(jīng)由該鉚接柱與該底板固定連接，該鉚接柱位于該X軸延伸結(jié)構(gòu)和該Y軸延伸結(jié)構(gòu)交會處下方。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該鍵帽的該周圍為長方形，其中該鉚接柱鄰近該長方形的長軸側(cè)邊的中間，該鍵帽于該長軸側(cè)邊具有缺口，該鉚接柱穿過該缺□。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該鍵帽包含位于該周圍的突緣結(jié)構(gòu)，該突緣結(jié)構(gòu)位于該框架與該底板之間，當該鍵帽相對于該底板向上移動時，該框架擋止該突緣結(jié)構(gòu)以防止該鍵帽脫離該框架。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該周圍呈四邊形，該突緣結(jié)構(gòu)包含四個相互分開的第一突出部，該四個分開的第一突出部對應地位于該四邊形的四個角落。`
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該鍵帽的該周圍為長方形，其中該突緣結(jié)構(gòu)包含第二突出部，該第二突出部位于該長方形的長軸側(cè)邊的中間。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該框架包含凹陷結(jié)構(gòu)，該凹陷結(jié)構(gòu)形成于該框架朝向該底板的底表面上，當該框架擋止該突緣結(jié)構(gòu)時，該突緣結(jié)構(gòu)容置于該凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該周圍包含復數(shù)個第一區(qū)段及復數(shù)個第二區(qū)段，該復數(shù)個第一區(qū)段與該復數(shù)個第二區(qū)段交錯設(shè)置，該突緣結(jié)構(gòu)只形成于該復數(shù)個第二區(qū)段中，但該突緣結(jié)構(gòu)未形成于該復數(shù)個第一區(qū)段。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該鍵帽具有第一按壓部，該第一按壓部為突柱，該突柱自該鍵帽的下表面朝向該底板延伸，該鍵帽于該下表面上包含交叉肋結(jié)構(gòu)，該交叉肋結(jié)構(gòu)延伸鄰接該鍵帽的該周圍，該突柱位于該交叉肋結(jié)構(gòu)的交叉點上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該按鍵機構(gòu)還包含第一開關(guān)，其中該第一開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有第一按壓部，當該鍵帽朝向該底板移動時，該第一按壓部位于該第一開關(guān)上方。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該鍵帽的周圍為長方形，其中該按鍵機構(gòu)還包含第二開關(guān)，該第二開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有第二按壓部，當該鍵帽朝向該底板移動時，該第二按壓部位于該第二開關(guān)上方。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該第一按壓部與第二按壓部分別為一個突柱，每一該突柱自該鍵帽的下表面朝向該底板延伸，該鍵帽于該下表面上包含二個交叉肋結(jié)構(gòu)，該二個交叉肋結(jié)構(gòu)相互連接且延伸鄰接該鍵帽的該周圍，二個該突柱對應地位于該二個交叉肋結(jié)構(gòu)的二個交叉點上，該二個交叉點的連線平行于該長方形的長軸中心線。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該向上作用力源為彈性體，該鍵帽具有按壓部，該按壓部保持接觸該彈性體，當該鍵帽朝向該底板移動時，該按壓部擠壓該彈性體。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該向上作用力源為一對互相排斥的磁鐵，該對互相排斥的磁鐵分別設(shè)置在該鍵帽與該底板上，當該鍵帽朝向該底板移動時，該對互相排斥的磁鐵彼此接近。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該按鍵機構(gòu)還包含開關(guān)，其中該開關(guān)設(shè)置于該鍵帽與該底板之間，該鍵帽具有按壓部，該按壓部朝向該底板移動第一行程以觸發(fā)該開關(guān)，該鍵帽的該周圍具有第一側(cè)部及相對該第一側(cè)部的第二側(cè)部，當該第一側(cè)部及該第二側(cè)部均接觸該框架時，該第二側(cè)部處于原始位置，當該鍵帽傾斜按壓時，該第一側(cè)部保持接觸該框架且該第二側(cè)部朝向該底板移動直到該第二側(cè)部處于傾斜按壓位置，該第二側(cè)部自該原始位置至該傾斜按壓位置移動第二行程，該第二行程大于該第一行程的兩倍。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該向上作用力源具有向上突柱，該向上突柱朝向該鍵帽延伸，該鍵帽的下表面具有平面，該向上突柱于該下表面的投影完全落于該平面內(nèi)，且該投影大小小于該平面大小。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按鍵機構(gòu)，其特征在于:該框架與該鍵帽之間具有縫隙，該按鍵機構(gòu)還包含蒙皮，該蒙皮延伸于該框架、該鍵帽與該縫隙上方。
18.—種鍵盤，其特征在于該鍵盤包含如權(quán)利要求1至17中任意一項所述的按鍵機構(gòu)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的鍵盤，其特征在于:該框架具有第一通孔結(jié)構(gòu)及第二通孔結(jié)構(gòu)，該鉚接柱位于該第一通孔結(jié)構(gòu)與該第二通孔結(jié)構(gòu)之間。
【文檔編號】H01H13/705GK103681064SQ201310653861
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年12月6日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月6日
【發(fā)明者】蘇政敏, 劉家宏, 孫長恩 申請人:蘇州達方電子有限公司, 達方電子股份有限公司