專利名稱：按鍵開關及鍵盤的制作方法
技術領域：
本實用新型關于一種按鍵開關及鍵盤，特別是指一種利用導引機構帶動鍵帽移動的按鍵開關。
背景技術：
習知的按鍵的運動方向為直上直下，當按鍵的高度要再降低時，按壓行程(traveldistance)也會相對縮減，例如從2毫米降為I毫米，這會讓使用者的按壓手感變差。

實用新型內容本實用新型提出一種按鍵開關及鍵盤，藉由導引機構帶動鍵帽移動，在減少按鍵高度的同時，能保持一定的按壓手感。根據(jù)本實用新型，提出一種按鍵開關，包括鍵帽、底座以及導引機構。鍵帽用以供使用者按壓。底座包括容置空間以收納鍵帽。容置空間沿著X軸、Y軸與Z軸延伸，其中X軸、Y軸與Z軸任意兩者之間彼此垂直。導引機構可動地連結于鍵帽。在使用者按壓鍵帽的過程中，導引機構保持鍵帽平行于X軸和Y軸所在的平面，且引導鍵帽沿著一路徑運動，此路徑讓鍵帽在X軸、Y軸及Z軸上均有位移量。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該鍵帽具有參考點，該路徑具有起點和終點，該鍵帽可相對于該框架運動于第一位置和第二位置之間，當該鍵帽在該第一位置時，該參考點位于坐標(xl，yl，zl)處，當該鍵帽在該第二位置時,該參考點位于坐標(x2，y2，z2)處,xl不等于x2, yl不等于y2, zl不等于z2。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該路徑為直線，該路徑的該起點到該終點之向量平行于該參考點從坐標(xl，yl，zl)運 動到坐標(x2，y2，z2)之向量。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該路徑為曲線。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該導引機構包括復數(shù)個導槽以及復數(shù)個滑動部，該復數(shù)個導槽設置于該底座上，且具有相同的傾斜度，該復數(shù)個滑動部設置于該鍵帽上，在該使用者按壓該鍵帽過程中，該復數(shù)個滑動部分別在該復數(shù)個導槽中向下滑動實質相同的高度，以保持該鍵帽平行于X軸和Y軸所在的平面。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該導引機構包括導槽與滑動部，該導槽設置于該底座上且具有預設寬度，該滑動部設置于該鍵帽上，該滑動部的尺寸接近該預設寬度，在該使用者按壓該鍵帽的過程中，該滑動部在該導槽中向下滑動，以保持該鍵帽實質僅能沿著該路徑運動。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該導引機構包括復數(shù)個導槽以及復數(shù)個滑動部，該復數(shù)個導槽設置于該鍵帽上且具有相同的傾斜度，該復數(shù)個滑動部固定于該底座上，在該使用者按壓該鍵帽過程中，該復數(shù)個滑動部分別在該復數(shù)個導槽中滑動實質相同的高度差，以保持該鍵帽平行于X軸和Y軸所在的平面。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該導引機構包括導槽與滑動部，該導槽設置于該鍵帽上且具有預設寬度，該滑動部固定于該底座上，該滑動部的尺寸接近該預設寬度，在該使用者按壓該鍵帽的過程中，該滑動部在該導槽中滑動，以保持該鍵帽實質僅能沿著該路徑運動。根據(jù)本實用新型，提出一種按鍵開關，包括底座、鍵帽以及導引機構。鍵帽設置于底座之上，且相對于底座可于第一位置與第二位置之間移動。導引機構由至少一導槽與至少一凸塊所構成，凸塊具有弧形側面。當鍵帽被使用者按壓時，鍵帽藉由導引機構由第一位置移動到第二位置，且凸塊的弧形側面與導槽保持線接觸。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，當該鍵帽被該使用者按壓時，該凸塊的該弧形側面與該導槽的接觸線為圓弧。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該凸塊設置于該鍵帽，該導槽設置于該底座；或者，該導槽設置于該鍵帽，該凸塊設置于該底座。根據(jù)本實用新型的按鍵開關，該弧形側面為球面。根據(jù)本實用新型的按鍵開關更包括背光模塊，設置于該底座之下，其中該鍵帽包括透光區(qū)，該背光模塊的光源穿透該透光區(qū)。根據(jù)本實用新型的按鍵開關更包括回復裝置，當該用戶釋放該鍵帽時，該鍵帽利用該回復裝置由該第二位置回復到該第一位置。該回復裝置由第一磁性件及第二磁性件所組成，且該按鍵更包括框架，設置于該鍵帽的外側，其中該第一磁性件設置于該鍵帽，該第二磁性件對應該第一磁性件設置于該框架。該第一磁性件及該第二磁性件分別由二相反極性磁鐵所構成；或者，該第一磁性件及該第二磁性件分別由鐵件及磁鐵所構成。根據(jù)本實用新 型的按鍵開關更包括開關組件，設置于該鍵帽下方。根據(jù)本實用新型的按鍵開關更包括限制機構及框架，該框架設置于該鍵帽的外偵牝該限制機構用以避免該鍵帽脫落。該限制機構由至少一突出部與至少一槽道所構成。該突出部設置于該鍵帽的角落，該槽道設置于該框架對應該突出部的位置。根據(jù)本實用新型，提出一種鍵盤，具有第一按鍵開關和第二按鍵開關。該第一按鍵開關和該第二按鍵開關分別包括底座、鍵帽、框架、導引機構、限制機構及回復裝置。鍵帽設置于該底座之上，該鍵帽相對于該底座可于第一位置與第二位置之間移動。框架設置于該鍵帽的外側。導引機構由至少一導槽與至少一凸塊所構成，其中該凸塊具有一弧形側面，該鍵帽在被使用者按壓時利用該導引機構由該第一位置移動到該第二位置，且該凸塊的該弧形側面與該導槽保持線接觸。限制機構設置于鄰近該鍵帽角落處，用以避免該鍵帽自該框架脫落?；貜脱b置設置于該鍵帽的中線附近，該鍵帽在被使用者釋放時利用該回復裝置由該第二位置回復到該第一位置。其中該第一按鍵開關和該第二按鍵開關彼此鄰近排列，且該第一按鍵開關的限制機構和該第二按鍵開關的回復裝置在該框架內的位置錯開。本實用新型所提供的按鍵開關及鍵盤，利用導引機構的滑動部與導槽，帶動鍵帽相對于框架移動，降低按鍵開關的高度。此外，由于鍵帽移動時滑動部與導槽僅為線接觸，摩擦力低且容易啟動。再者，鍵帽的動作路徑同時具有x、y、z三個方向的位移量，即使高度(Ζ軸)降低，仍可保持一定的行程，維持按壓手感。

圖1A為依據(jù)本實用新型一實施例的按鍵開關的立體分解圖；[0023]圖1B為圖1A的鍵帽、底座、框架的下視立體圖；圖1C為圖1A中導槽的放大圖；圖2A為圖1A的按鍵開關的組合圖；圖2B為圖1A的按鍵開關未按壓時的上視圖；圖2C為圖1A的按鍵開關按壓后的上視圖；圖3A為圖2B的剖面圖；圖3B為圖2C的剖面圖；圖4A為圖2A的按鍵開關的底部視圖；圖4B為依據(jù)本實用新型另一實施例的按鍵開關的底部視圖；圖5A為依據(jù)本實用新型另一實施例的按鍵開關的立體分解圖；圖5B為圖5A的按鍵開關的下視分解圖；圖5C為圖5A的按鍵開關按壓前的側視剖面圖；圖為圖5A的按鍵開關按壓后的側視剖面圖。
具體實施方式
為使對本實用新型的目 的、構造、特征、及其功能有進一步的了解，茲配合實施例詳細說明如下。以下舉出各種實施例，針對利用導引機構帶動鍵帽移動的按鍵開關進行詳細說明。然而，實施例僅用以作為范例說明，此外，實施例中的圖式有省略部份組件，以清楚顯示本實用新型的技術特點。請參照圖1A及圖1B，圖1A繪示依據(jù)本實用新型一實施例的按鍵開關的立體分解圖，圖1B繪示圖1A的部份組件(鍵帽110、底座120、框架130)的下視立體圖。按鍵開關100包括鍵帽110、底座120、框架130、導引機構140、回復裝置150、開關組件170以及底板175?？蚣?30具有一容置空間S，用以容納鍵帽110。鍵帽110位于底座120之上，藉由導引機構140，鍵帽110可相對于框架130運動?；貜脱b置150使鍵帽110被按壓后能回復至起始位置。開關組件170位于底座120之下，用以送出訊號。底板175作為支撐，位于上述組件之下。導引機構140由滑動部141以及導槽142組成。本例中，滑動部141為弧形凸塊，例如是一球體或其他具有弧形側面(如球面)的任意形狀，且位于鍵帽110的四個角落。導槽142位于底座120上對應滑動部141的位置，且各個導槽142沿著相同方向傾斜。當使用者按壓鍵帽110時，滑動部141便可沿著導槽142向下滑動，進而帶動鍵帽110朝底座移動，由于各個導槽142的傾斜方向一致且具有相同的傾斜度，可保持鍵帽110于水平空間滑動?；貜脱b置150由第一磁性件151與第二磁性件152組成；第一磁性件151與第二磁性件152可互相吸引，例如是兩相反極性的磁鐵，或分別由鐵件及磁鐵構成。另外，按鍵開關100更可包括背光模塊(未繪示)，設置于底座120之下。并在鍵帽110設置透光區(qū)(未繪示)，背光模塊的光源可穿透透光區(qū)，方便用戶在黑暗處操作按鍵開關。請同時參照圖1A及圖1B，鍵帽110的滑動部141 (弧形凸塊)具有弧形側面，而相對應的導槽142亦為弧形，具有弧形曲面。導槽142的曲率半徑可等于或大于滑動部的曲率半徑，以容置滑動部。圖1C繪示圖1A的導槽142的放大圖，當使用者按壓鍵帽時，滑動部在導槽142中的動作路徑以NI表示。如圖1C所示，若導槽142的曲率半徑與滑動部的曲率半徑相等，則滑動部的弧形側面與導槽142做「弧線接觸」，且接觸線Tn最長可為半圓圓弧。而隨著滑動部于導槽142中滑動，接觸線也跟著移動，例如向下移動為接觸線TN+1，也就是說整個滑動過程中滑動部與導槽142保持線接觸。接觸線TN、TN+1實質上平行于底座120延伸的水平面。相對的，若導槽142的曲率半徑大于滑動部的曲率半徑，則滑動部與導槽142雖然仍是做「弧線接觸」，但接觸線TN，TN+1的長度將減少，例如從半圓弧縮短為1/4圓弧，甚至成為點接觸。由于滑動部與導槽的接觸面積相當小(例如是線接觸或點接觸)，摩擦力也較小，故用戶按壓按鍵時能更順暢。當導槽142的曲率半徑與滑動部141的曲率半徑相等，且滑動部141的尺寸接近導槽142預設寬度時，則滑動部141的運動受到限制，實質上僅能沿著路徑NI運動。路徑NI的長度即是按鍵開關100的行程(travel distance)。一實施例中，路徑NI在X軸方向的位移量為0.7暈米，在Y軸方向的位移量為0.4暈米,而在Z軸方向的位移量為0.7暈米，總行程約為1.1毫米。即計算公式1.07=((0.4)2+(0.7)2+(0.7)2)1/2。相對于傳統(tǒng)的剪刀腳設計，本實施例的按鍵開關同時具有X、Y、Z軸方向的位移量，故能以較短的Z軸方向行程，達到同樣1.1毫米的行程，如此能保持按壓段落手感，且又能大幅縮減鍵盤的厚度。此外，本例中路徑NI為一直線(請同時參照圖2A、2B、2C)，也就是說滑動部所經(jīng)的路徑為線性，然在其他實施例中，亦可調整導槽142的扭曲度，便可使滑動部的動作路徑NI為一曲線。請參照圖2A至圖2C。圖2A繪示圖1A的按鍵開關的組合圖，圖2B繪示圖1A的按鍵開關未按壓時的上視圖，圖2C繪示圖1A的按鍵開關按壓后的上視圖。當使用者未按壓鍵帽時，鍵帽110位于第一位 置且相對于框架130位于最高處，如圖2B所示，此時鍵帽110的一角Al貼近框架的一角BI。當使用者按壓鍵帽后，鍵帽110藉由上述的導引機構移動到第二位置，此時鍵帽110相對于框架130最低，且鍵帽110的另一角A2貼近框架130的另一角B2，如圖2C所示。其中A2為Al的對角，B2亦為BI的對角。設鍵帽具有一參考點位于A2，當鍵帽位于第一位置時此參考點的坐標為(xl, yl, zl),而位于第二位置時此參考點的坐標為(x2，y2, z2)，此兩參考點的聯(lián)機以N2表示。由于滑動部141的移動帶動鍵帽110移動，兩者的動作路徑及位移量自然相同。也就是說，當滑動部141的動作路徑NI為直線時，路徑NI的起點到終點的向量平行于N2(參考點從坐標(xl，yl，zl)運動到坐標(x2，y2，z2))的向量；而當路徑NI為曲線時，路徑NI的起點到終點的位移量相等于N2的長度(參考點從坐標(xl，yl，zl)運動到坐標(x2, y2, z2)的位移量)。請同時參照圖3A、圖3B及圖2B、圖2C。圖3A繪示圖2B的剖面圖，也就是按鍵開關按壓前的側視剖面圖；圖3B則繪示圖2C的剖面圖，也就是按鍵開關按壓后的側視剖面圖。第一磁性件151位于鍵帽110上，而第二磁性件152位于框架130上。當按鍵開關100未被按壓時，回復裝置150使鍵帽110固定在框架130上，使鍵帽110保持于第一位置(圖3A及圖2B)。當使用者按壓鍵帽110時，鍵帽110藉由導引機構140(滑動部141與導槽142)帶動鍵帽110移動至第二位置(圖3B及圖2C)，且于移動的過程中滑動部141與導槽142保持線接觸，以剖面圖觀之便是滑動部141的弧形側面與導槽142于一點相切。當用戶釋放鍵帽Iio時，回復裝置150的吸引力使鍵帽110回復到第一位置(圖3A及圖2B)。請參照圖3A及圖3B，按鍵開關100更可包括限制機構160。限制機構由突出部161及槽道162組成。突出部161位于鍵帽110并朝鍵帽外側延伸。槽道162位于框架130上對應突出部161的位置，且尺寸大于突出部161。不論鍵帽110相對于底座120位于第一位置(圖3A)或第二位置(圖3B)，突出部161皆位于槽道162之內，如此可避免鍵帽110自框架130脫落。本例中，如圖1A所示，回復裝置150設置于鍵帽110的中線M附近，而限制機構160突出部161設置于鍵帽110的兩個角落。如圖4A所示，當有需要將按鍵開關100作較密集排列時(例如作為鍵盤使用)，此設計可使第一排按鍵開關的限制機構160和第二排按鍵開關的回復裝置150在框架130空間內的位置錯開，以充分利用框架130的空間，使兩排按鍵開關的鍵距D減小。不過，本實用新型的突出部設置位置與數(shù)量并非限制于此，在其他實施例中，若兩排按鍵開關的鍵距D較大，框架130空間足夠，則突出部的設置位置與數(shù)量可依需求自由調整，例如可如圖4B所示，將回復裝置150 (包含第一磁性件151和第二磁性件152)和限制機構160 (包含突出部161和槽道162)均設置于鍵帽110的中線M上。請參照圖3A及圖3B，按鍵開關100包括開關組件170，位于底座120之下。為更加降低按鍵開關100的整體高度，可將圓球體切去底端后作為滑動部141，只要滑動部具有弧形側面，即可于 導槽內滑動。滑動部141的底部具有凸點111，當鍵帽110位于第二位置時(圖3B)，凸點111觸動開關組件170，進而送出訊號。本例中，除了鍵帽110四個角落的滑動部141具有凸點111之外，鍵帽110的中央亦設置凸塊112，用來觸動開關組件170 ;另外如圖1A所示，按鍵開關100上也設置有五個可被各自抵接觸發(fā)導通的開關組件170。如此一來，整個按鍵開關100具有五個開關組件170與對應的五個接觸點，即便使用者按壓鍵帽的力量不平均，只要至少一個凸點/凸塊接觸其所對應的開關組件170，就能送出按鍵開關100代表的電訊號。請參照圖5A至圖5D，圖5A繪示依據(jù)本實用新型另一實施例的按鍵開關的立體分解圖，圖5B繪示圖5A的按鍵開關的下視分解圖，圖5C繪示圖5A的按鍵開關按壓前的側視剖面圖，圖繪示圖5A的按鍵開關按壓后的剖面圖。按鍵開關200與前述按鍵開關100的主要差異在于，導引機構240的導槽242位于鍵帽210上，而滑動部241設置在底座220上，其余相同之處不再贅述。本例中，滑動部241例如是一鋼珠，并可與底座220分離，成為鍵帽-滑動部-底座的三件式設計，只要在底座220上設置對應的凹槽221即可。如此一來，滑動部241與導槽242是在接觸在線滾動接觸，更加降低摩擦力。此外，請參照圖5C及圖K)，可在鍵帽210的四個導槽242周圍分別加入凸點211，且于鍵帽210的中心也設置凸塊212 ;又類似圖1A所示開關組件170設計，按鍵開關200也設置有五個可被各自抵接觸發(fā)導通的開關組件270。如此一來，整個按鍵開關200具有五個開關組件270與對應的五個接觸點。當使用者按壓鍵帽時，即便使用者按壓鍵帽的力量不平均，只要使任一個凸點211/凸塊212接觸所對應的開關組件270 (圖OT)，便可導通開關組件270，送出按鍵開關200代表的電訊號。本實用新型上述實施例所揭露的按鍵開關及鍵盤，利用導引機構的滑動部與導槽，帶動鍵帽相對于框架移動，降低按鍵開關的高度。此外，由于鍵帽移動時滑動部與導槽僅為線接觸，摩擦力低且容易啟動。再者，鍵帽的動作路徑同時具有X、Y、Z三個方向的位移量，即使高度(Ζ軸)降低，仍可保持一定的行程，維持按壓手感。本實用新型已由上述相關實施例加以描 述，然而上述實施例僅為實施本實用新型的范例。必需指出的是，已揭露的實施例并未限制本實用新型的范圍。相反地，在不脫離本實用新型的精神和范圍內所作的更動與潤飾，均屬本實用新型的專利保護范圍。
權利要求1.一種按鍵開關，其特征在于包括: 鍵帽，用以供使用者按壓； 底座，位于該鍵帽之下； 框架，包括一容置空間以收納該鍵帽，該容置空間沿著X軸、Y軸與Z軸延伸，該X軸、該Y軸與該Z軸任意兩者之間彼此垂直； 導引機構，設置于該鍵帽和該框架之間，在該使用者按壓該鍵帽的過程中，該導引機構保持該鍵帽平行于該X軸和該Y軸所在的平面，且該導引機構引導該鍵帽沿著一路徑運動，該路徑讓該鍵帽在該X軸、該Y軸及該Z軸上均有位移量。
2.如權利要求1所述的按鍵開關，其特征在于該鍵帽具有參考點，該路徑具有起點和終點，該鍵帽可相對于該框架運動于第一位置和第二位置之間，當該鍵帽在該第一位置時，該參考點位于坐標(xl，yl，zl)處，當該鍵帽在該第二位置時，該參考點位于坐標(x2, y2, z2)處，xl不等于x2, yl不等于y2, zl不等于z2。
3.如權利要求2所述的按鍵開關，其特征在于該路徑為直線，該路徑的該起點到該終點之向量平行于該參考點從坐標(xl，yl，zl)運動到坐標(x2，y2，z2)之向量。
4.如權利要求2所述的按鍵開關，其特征在于該路徑為曲線。
5.如權利要求1所述的按鍵開關，其特征在于該導引機構包括復數(shù)個導槽以及復數(shù)個滑動部，該復數(shù)個導槽設置于該底座上，且具有相同的傾斜度，該復數(shù)個滑動部設置于該鍵帽上，在該使用者按壓該鍵帽過程中，該復數(shù)個滑動部分別在該復數(shù)個導槽中向下滑動實質相同的高度，以保持該鍵帽 平行于該X軸和該Y軸所在的平面。
6.如權利要求1所述的按鍵開關，其特征在于該導引機構包括導槽與滑動部，該導槽設置于該底座上且具有預設寬度，該滑動部設置于該鍵帽上，該滑動部的尺寸接近該預設寬度，在該使用者按壓該鍵帽的過程中，該滑動部在該導槽中向下滑動，以保持該鍵帽實質僅能沿著該路徑運動。
7.如權利要求1所述的按鍵開關，其特征在于該導引機構包括復數(shù)個導槽以及復數(shù)個滑動部，該復數(shù)個導槽設置于該鍵帽上且具有相同的傾斜度，該復數(shù)個滑動部固定于該底座上，在該使用者按壓該鍵帽過程中，該復數(shù)個滑動部分別在該復數(shù)個導槽中滑動實質相同的高度差，以保持該鍵帽平行于該X軸和該Y軸所在的平面。
8.如權利要求1所述的按鍵開關，其特征在于該導引機構包括導槽與滑動部，該導槽設置于該鍵帽上且具有預設寬度，該滑動部固定于該底座上，該滑動部的尺寸接近該預設寬度，在該使用者按壓該鍵帽的過程中，該滑動部在該導槽中滑動，以保持該鍵帽實質僅能沿著該路徑運動。
9.一種按鍵開關，其特征在于包括: 底座； 鍵帽，設置于該底座之上，該鍵帽相對于該底座可于第一位置與第二位置之間移動；及 導引機構，由至少一導槽與至少一凸塊所構成，其中該凸塊具有一弧形側面； 其中，該鍵帽在被使用者按壓時利用該導引機構由該第一位置移動到該第二位置，且該凸塊的該弧形側面與該導槽保持線接觸。
10.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于該凸塊的該弧形側面在該鍵帽被該使用者按壓時與該導槽的接觸線為圓弧。
11.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于該凸塊設置于該鍵帽，該導槽設置于該底座；或者，該導槽設置于該鍵帽，該凸塊設置于該底座。
12.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于該弧形側面為球面。
13.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于更包括背光模塊，設置于該底座之下，其中該鍵帽包括透光區(qū)，該背光模塊的光源穿透該透光區(qū)。
14.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于更包括回復裝置，該鍵帽在被該使用者釋放時利用該回復裝置由該第二位置回復到該第一位置。
15.如權利要求14所述的按鍵開關，其特征在于該回復裝置由第一磁性件及第二磁性件所組成，且該按鍵更包括框架，設置于該鍵帽的外側，其中該第一磁性件設置于該鍵帽，該第二磁性件對應該第一磁性件設置于該框架。
16.如權利要求15所述的按鍵開關，其特征在于該第一磁性件及該第二磁性件分別由二相反極性磁鐵所構成；或者，該第一磁性件及該第二磁性件分別由鐵件及磁鐵所構成。
17.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于更包括開關組件，設置于該鍵帽下方。
18.如權利要求9所述的按鍵開關，其特征在于更包括限制機構及框架，該框架設置于該鍵帽的外側，該限制機構用以避免該鍵帽脫落。
19.如權利要求18所述的按鍵開關，其特征在于該限制機構由至少一突出部與至少一槽道所構成。
20.如權利要求19所述的按鍵開關，其特征在于該突出部設置于該鍵帽的角落，該槽道設置于該框架對應該突出部的位置。
21.一種 鍵盤，具有第一按鍵開關和第二按鍵開關，其特征在于，該第一按鍵開關和該第二按鍵開關分別包括: 底座； 鍵帽，設置于該底座之上，該鍵帽相對于該底座可于第一位置與第二位置之間移動； 框架，該框架設置于該鍵帽的外側； 導引機構，由至少一導槽與至少一凸塊所構成，其中該凸塊具有一弧形側面，該鍵帽在被使用者按壓時利用該導引機構由該第一位置移動到該第二位置，且該凸塊的該弧形側面與該導槽保持線接觸； 限制機構，設置于鄰近該鍵帽角落處，用以避免該鍵帽自該框架脫落；及 回復裝置，設置于該鍵帽的中線附近，該鍵帽在被使用者釋放時利用該回復裝置由該第二位置回復到該第一位置； 其中該第一按鍵開關和該第二按鍵開關彼此鄰近排列，且該第一按鍵開關的限制機構和該第二按鍵開關的回復裝置在該框架內的位置錯開。
專利摘要本實用新型提供一種按鍵開關，包括鍵帽、底座以及導引機構。鍵帽用以供使用者按壓。底座包括容置空間以收納鍵帽。容置空間沿著X軸、Y軸與Z軸延伸，其中X軸、Y軸與Z軸任意兩者之間彼此垂直。導引機構可動地連結于鍵帽，在使用者按壓鍵帽的過程中，導引機構保持鍵帽在實質水平的空間，且導引機構引導鍵帽沿著一路徑運動，此路徑讓鍵帽在X軸、Y軸、Z軸上均有位移量。
文檔編號H01H13/705GK203118832SQ20132007258
公開日2013年8月7日 申請日期2013年2月8日 優(yōu)先權日2013年2月8日
發(fā)明者陳飛雅, 高黃曉 申請人:蘇州達方電子有限公司, 達方電子股份有限公司