薄膜成型設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型揭露一種薄膜成型設(shè)備，其包括一脫模機(jī)構(gòu)及一承載機(jī)構(gòu)。該脫模機(jī)構(gòu)包括一壓印平臺(tái)及一脫模環(huán)。該壓印平臺(tái)具有多個(gè)氣體通道，用以注入氣體。該脫模環(huán)設(shè)于該壓印平臺(tái)上，且正對(duì)該氣體通道。其中，該承載機(jī)構(gòu)用以吸住一基板的頂面。其中，該基板的底面抵靠該脫模機(jī)構(gòu)。在該數(shù)個(gè)氣體通道被注入氣體時(shí)，該脫模環(huán)、該基板及該承載機(jī)構(gòu)相對(duì)該壓印平臺(tái)被頂起。如此，即可藉由該脫模環(huán)來(lái)達(dá)到使該基板與該壓印平臺(tái)分離的目的。
【專(zhuān)利說(shuō)明】薄膜成型設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是與半導(dǎo)體制程設(shè)備有關(guān)，特別是指一種薄膜成型設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]中國(guó)臺(tái)灣第M380228號(hào)新型專(zhuān)利揭露一種薄膜成型裝置，其揭露一?？蚣耙幻撃Ｍ瓿裳b置，該?？蛴靡猿休d一基板，該模框的底部具有多個(gè)孔洞，該脫膜完成裝置用以對(duì)該模框的孔洞注入空氣，以使該基板脫離該模框。
[0003]由于該脫膜完成裝置注入的空氣直接對(duì)該基板產(chǎn)生向上的力量，才使基板脫離該模框，所以，若注入的空氣壓力不均時(shí)，將使得該基板上的薄膜產(chǎn)生變形，甚至損壞。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型揭露一種薄膜成型設(shè)備，其包括一脫模機(jī)構(gòu)及一承載機(jī)構(gòu)。該脫模機(jī)構(gòu)包括一壓印平臺(tái)及一脫模環(huán)。該壓印平臺(tái)具有多個(gè)氣體通道，用以注入氣體。該脫模環(huán)設(shè)于該壓印平臺(tái)上，且正對(duì)該氣體通道。其中，該承載機(jī)構(gòu)用以吸住一基板的頂面。其中，該基板的底面抵靠該脫模機(jī)構(gòu)。在該數(shù)個(gè)氣體通道被注入氣體時(shí)，該脫模環(huán)、該基板及該承載機(jī)構(gòu)相對(duì)該壓印平臺(tái)被頂起。如此，即可藉由該脫模環(huán)來(lái)達(dá)到使該基板與該壓印平臺(tái)分離的目的。
[0005]較佳地，該壓印平臺(tái)還具有一環(huán)槽及一擋片。該環(huán)槽接收該脫模環(huán)。其中，該脫模環(huán)的底部的內(nèi)、外兩側(cè)面分別抵靠該環(huán)槽的兩相對(duì)側(cè)壁。該數(shù)個(gè)氣體通道位于該環(huán)槽的底部，且連通該環(huán)槽。該擋片用以止擋該脫模環(huán)脫離該環(huán)槽。如此，該脫模環(huán)就不會(huì)脫離該脫模機(jī)構(gòu)。
[0006]較佳地，該脫模環(huán)具有兩彈性環(huán)。該兩彈性環(huán)分別連接該脫模環(huán)的底部，且位于該脫模環(huán)的內(nèi)、外兩側(cè)面，并抵緊該環(huán)槽的兩相對(duì)側(cè)壁，以避免該環(huán)槽內(nèi)的氣體外漏。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0007]圖1繪示應(yīng)用本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的薄膜成型設(shè)備的立體圖。
[0008]圖2繪示圖1中薄膜成型設(shè)備的爆炸圖。
[0009]圖3繪示圖1中脫模機(jī)構(gòu)的立體圖。
[0010]圖4繪示圖3中脫模機(jī)構(gòu)的爆炸示意圖。
[0011]圖5及圖6分別繪示圖3中脫模機(jī)構(gòu)的A-A剖視示意圖。
[0012]圖7繪示圖5中脫模機(jī)構(gòu)的局部放大示意圖。
[0013]圖8繪示圖6中脫模機(jī)構(gòu)的局部放大示意圖。
[0014]圖9繪示圖1的承載機(jī)構(gòu)及晶圓的爆炸圖。
[0015]圖10繪示圖1中的薄膜成型設(shè)備的示意圖。
[0016]圖11及圖12繪示圖1的B-B剖視示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0017]如圖1及2所示，薄膜成型設(shè)備10包括一脫模機(jī)構(gòu)20及一承載機(jī)構(gòu)(hOlder)30，該承載機(jī)構(gòu)30用以吸住一晶圓(wafer) 40,該脫模機(jī)構(gòu)20用以壓于該承載機(jī)構(gòu)30上。
[0018]如圖3及圖4所示,該脫模機(jī)構(gòu)20包括一壓印平臺(tái)(stage) 22及一脫模環(huán)24。該壓印平臺(tái)22還具有一環(huán)槽222及一擋片224。該環(huán)槽222接收該脫模環(huán)24。該擋片224止擋該脫模環(huán)24脫離該環(huán)槽222。此外，該壓印平臺(tái)22還有由該環(huán)槽222界定出的一工作區(qū)221，該工作區(qū)221可以是一平面或特定圖案構(gòu)成的凹槽。
[0019]如圖5所示，該壓印平臺(tái)22具有多個(gè)氣體通道226，用以注入正壓氣體，每一氣體通道226位于該環(huán)槽222的底部，且連通該環(huán)槽222。其中，正壓氣體由一供氣裝置(未繪示于圖中)提供，在圖5中，該供氣裝置系沒(méi)有對(duì)該數(shù)個(gè)氣體通道226注入正壓氣體，所以，該脫模環(huán)24的底部抵靠在該環(huán)槽的底部。需要注意的是，該脫模環(huán)24的底部的內(nèi)、外兩側(cè)面分別抵靠該環(huán)槽222的兩相對(duì)側(cè)壁，以避免正壓氣體外漏。
[0020]特別地，請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4及圖5，該脫模環(huán)24還有兩彈性環(huán)246，該兩彈性環(huán)246分別連接該脫模環(huán)24的底部，且位于該脫模環(huán)24的內(nèi)、外兩側(cè)面，并抵緊該環(huán)槽222的兩相對(duì)側(cè)壁，該兩彈性環(huán)246較佳地選用橡膠或具有彈性的塑膠制成。如此，就可利用該兩彈性環(huán)246使該環(huán)槽222內(nèi)的正壓氣體更均勻。然而，若該脫模環(huán)24的底部與該環(huán)槽222已經(jīng)可以達(dá)到避免正壓氣體外漏的目的時(shí)，該兩彈性環(huán)246也可以被省略不用。
[0021]如圖6所示，該供氣裝置對(duì)該數(shù)個(gè)氣體通道226注入正壓氣體，以使該環(huán)槽222內(nèi)充滿(mǎn)正壓氣體，來(lái)頂起該脫模環(huán)24。需要注意的是，當(dāng)該脫模環(huán)24被正壓氣體頂起時(shí)，該擋片224擋住該脫模環(huán)24。于此實(shí)施例中，該脫模環(huán)24從圖6的狀態(tài)回復(fù)至圖5的狀態(tài)是利用該供氣裝置也可以提供負(fù)壓氣體，以使該脫模環(huán)24被向下吸，而快速回復(fù)至圖5的狀態(tài)。但實(shí)際上，也可以直接停止提供正壓氣體，而使該脫模環(huán)24自然落下。
[0022]如圖7及圖8所示，該擋片224的內(nèi)緣位于該環(huán)槽222的內(nèi)部。該脫模環(huán)24具有一凸部242及一氣體槽道244。該凸部242位于該脫模環(huán)24的外側(cè)面，該凸部242正對(duì)該擋片224的內(nèi)緣。該氣體槽道244形成于該脫模環(huán)24的底部，該氣體槽道244的槽口正對(duì)該氣體通道226。
[0023]由于，本實(shí)用新型的脫模機(jī)構(gòu)20具有上述的結(jié)構(gòu)，所以，當(dāng)正壓氣體被注入該數(shù)個(gè)氣體通道226內(nèi)時(shí)，正壓氣體可均勻分布在該脫模環(huán)24的氣體槽道244內(nèi)，并向上頂起該脫模環(huán)24。
[0024]如圖1及圖9所示，該承載機(jī)構(gòu)30具有一平面32及多個(gè)吸氣通道34。該平面32供抵靠該晶圓40的頂面。該數(shù)個(gè)吸氣通道34的開(kāi)口形成于該平面32上，實(shí)際上，該數(shù)個(gè)氣體通道34是以特定圖案形成于該平面32上，但該特定圖案不以圖9所繪為限。其中，當(dāng)該數(shù)個(gè)吸氣通道34被內(nèi)存在負(fù)壓氣體時(shí)，該晶圓40就會(huì)受到負(fù)壓氣體影響，而被吸住，以使該晶圓40的頂面完全抵靠在該承載機(jī)構(gòu)30的平面32上。實(shí)際上，該數(shù)個(gè)吸氣通道34連接一吸氣裝置(未繪示于圖中)，該吸氣裝置用以對(duì)該數(shù)個(gè)吸氣通道34吸氣，以使該數(shù)個(gè)吸氣通道34的開(kāi)口對(duì)該晶圓40產(chǎn)生吸力。
[0025]由于，本實(shí)用新型的薄膜成型設(shè)備10具有上述的結(jié)構(gòu)，所以，在脫模時(shí)，本實(shí)用新型的薄膜成型設(shè)備10可確保該晶圓40在脫模時(shí)能完整的取出，以提高產(chǎn)品良率。隨后詳述本實(shí)用新型的薄膜成型設(shè)備10的壓合程序及脫模程序。該壓合程序先于該脫模機(jī)構(gòu)20上提供一膠液50，如圖10及圖11所示，將吸住該晶圓40的該承載機(jī)構(gòu)30往下移動(dòng)至使該晶圓40被壓于該承載機(jī)構(gòu)30及該脫模機(jī)構(gòu)20之間，或?qū)⒚撃C(jī)構(gòu)20升起使該晶圓40被壓合于該承載機(jī)構(gòu)30及該脫模機(jī)構(gòu)20之間，如此，該膠液50就會(huì)因?yàn)閿D壓而自然地?cái)U(kuò)散至該晶圓40的底面；然后，待該晶圓40上的膠液50固化(即該晶圓40上以形成薄膜)后，進(jìn)行該脫模程序。需要注意的是，若該壓印平臺(tái)22的工作區(qū)221上有前述特定圖案構(gòu)成的凹槽，因此，該固化的膠液就會(huì)在該晶圓40的底部順勢(shì)形成該特定圖案。
[0026]如圖12所示，當(dāng)該晶圓40上已形成薄膜后，該薄膜成型設(shè)備10就開(kāi)始執(zhí)行脫模程序，該脫模程序包括:首先，該數(shù)個(gè)氣體通道226會(huì)被注入正壓氣體，以使該脫模環(huán)24頂住該晶圓40 ;接著，該脫模環(huán)24被往上推以頂起該晶圓40及該承載機(jī)構(gòu)30，表示，該晶圓40及該承載機(jī)構(gòu)30相對(duì)該壓印平臺(tái)22被頂起，此時(shí)，該晶圓40的底面脫離該壓印平臺(tái)22，而該晶圓40的頂面仍抵靠該承載機(jī)構(gòu)30。最后，關(guān)掉對(duì)該承載機(jī)構(gòu)30提供的負(fù)壓氣體，就可以取出形成有薄膜的該晶圓40。所以，利用本實(shí)用新型的脫模機(jī)構(gòu)20來(lái)進(jìn)行脫模，可確保整個(gè)脫模過(guò)程中該晶圓40是受到均勻的向上推擠，來(lái)避免脫模過(guò)程中，該晶圓40破裂而損壞。
[0027]然而，該擋片的主要目的是用來(lái)止擋該脫模環(huán)脫離該壓印平臺(tái)的環(huán)槽，所以，該擋片也可以利用其他的結(jié)構(gòu)來(lái)達(dá)到這個(gè)目的，故不以此較佳實(shí)施例所繪為限。
[0028]此外，雖然本較佳實(shí)施例中基板是以晶圓為例來(lái)作說(shuō)明，但實(shí)際上，該基板也可以是玻璃基板、或其他半導(dǎo)體基板，故，本實(shí)用新型的脫模成型設(shè)備不以晶圓應(yīng)用為限。
【權(quán)利要求】
1.一種薄膜成型設(shè)備，其特征在于，包括: 一脫模機(jī)構(gòu)，包括一壓印平臺(tái)及一脫模環(huán)；該壓印平臺(tái)具有多個(gè)氣體通道，用以注入氣體；該脫模環(huán)設(shè)于該壓印平臺(tái)上，且正對(duì)該多個(gè)氣體通道；及 一承載機(jī)構(gòu)，用以吸住一基板的頂面；其中，該基板的底面抵靠該脫模機(jī)構(gòu)，在該多個(gè)氣體通道被注入氣體時(shí)，該脫模環(huán)、該基板及該承載機(jī)構(gòu)相對(duì)該壓印平臺(tái)被頂起。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜成型設(shè)備，其特征在于，該承載裝置還具有一環(huán)槽及一擋片，該環(huán)槽接收該脫模環(huán)，其中，該脫模環(huán)的底部的內(nèi)、外兩側(cè)面分別抵靠該環(huán)槽的兩相對(duì)側(cè)壁，該多個(gè)氣體通道位于該環(huán)槽的底部，且連通該環(huán)槽，該擋片用以止擋該脫模環(huán)脫離該環(huán)槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜成型設(shè)備，其特征在于，該擋片的內(nèi)緣位于該環(huán)槽的內(nèi)部；該脫模環(huán)具有一凸部，該凸部位于該脫模環(huán)的外側(cè)面，且正對(duì)該擋片的內(nèi)緣。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜成型設(shè)備，其特征在于，該脫模環(huán)還有一氣體槽道，該氣體槽道位于該脫模環(huán)的底部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜成型設(shè)備，其特征在于，該脫模環(huán)具有兩彈性環(huán)，該兩彈性環(huán)分別連接該脫模環(huán)的底部，且位于該脫模環(huán)的內(nèi)、外兩側(cè)面，并抵緊該環(huán)槽的兩相對(duì)側(cè)壁。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜成型設(shè)備，其特征在于，該承載機(jī)構(gòu)具有一平面及至少一吸氣通道，該平面用以抵靠該基板的頂面，該吸氣通道的開(kāi)口形成于該平面上。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK203521380SQ201320403533
【公開(kāi)日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月8日
【發(fā)明者】邱建清, 陳贊仁 申請(qǐng)人:東捷科技股份有限公司