一種多片環(huán)形晶舟清洗治具的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，它包括上端板承載座、下端板承載座和底板；上端板承載座和下端板承載座固定在底板上，底板上均勻設(shè)置有通孔，上端板承載座上設(shè)有托臺(tái)一和側(cè)板一，下端板承載座上設(shè)有托臺(tái)二和側(cè)板二，托臺(tái)一和托臺(tái)二均包括一承載面和一連接面，承載面具有一兩側(cè)帶平表面的圓弧形凹面構(gòu)型，側(cè)板一與托臺(tái)一的連接面緊貼，側(cè)板二和托臺(tái)二的連接面緊貼，側(cè)板一高度高于托臺(tái)一高度，側(cè)板二高度高于托臺(tái)二高度；通過(guò)在水平清洗槽中裝配本實(shí)用新型對(duì)多片環(huán)形晶舟進(jìn)行水平清洗，大大改善了多片環(huán)形晶舟的清洗效果，減少了由于多片環(huán)形晶舟清洗問題帶來(lái)的產(chǎn)品影響，可以滿足生產(chǎn)要求。
【專利說(shuō)明】一種多片環(huán)形晶舟清洗治具
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，用于半導(dǎo)體清洗設(shè)備中。
【背景技術(shù)】
[0002]12英寸爐管設(shè)備使用沈陽(yáng)西科石英有限公司提供的型號(hào)D5CP18818-1多片環(huán)形晶舟來(lái)運(yùn)行硅烷基低壓高溫氧化制程，來(lái)滿足較高的均勻度要求，在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中存在由于該晶舟清洗問題而帶來(lái)的產(chǎn)品影響。如圖2所示，附圖2為多片環(huán)形晶舟的結(jié)構(gòu)示意圖，所述多片環(huán)形晶舟包括4個(gè)支撐桿12，對(duì)稱的每邊各兩個(gè)，上端板10，下端板11和66片環(huán)形托板13，環(huán)形托板13設(shè)于支撐桿12內(nèi)側(cè)，每片環(huán)形托板13上有三個(gè)石英頂針14，每個(gè)晶圓通過(guò)三個(gè)石英頂針14支撐，環(huán)形托板13為石英薄片；普通的晶舟通常包括三個(gè)支撐桿和上端板，下端板，三根支撐桿內(nèi)側(cè)對(duì)應(yīng)設(shè)有支撐晶圓的凹槽，每個(gè)晶圓通過(guò)三塊對(duì)應(yīng)的凹槽支撐。多片環(huán)形晶舟有66片易碎的石英薄片環(huán)形托板13，不能同普通晶舟一樣水平清洗，容易造成多片環(huán)形晶舟的環(huán)形托板13損傷；多片環(huán)形晶舟可以采用立式洗管機(jī)來(lái)清洗，但是清洗效果很不好:采用立式清洗，多片環(huán)形晶舟不能完全浸泡在清洗液中，清洗液是從下面向上噴射清洗，會(huì)導(dǎo)致下面清洗過(guò)了但是上面還是沒有清洗干凈。從實(shí)際的晶舟使用情況看，多片環(huán)形晶舟還是只有完全浸泡在清洗液中的清洗效果才可以滿足實(shí)際生產(chǎn)要求。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制作方便的多片環(huán)形晶舟清洗治具，實(shí)現(xiàn)采用水平清洗方式清洗多片環(huán)形晶舟而不會(huì)造成損傷。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，包括:上端板承載座、下端板承載座和底板，上端板承載座和下端板承載座固定在底板上，底板上均勻設(shè)置有通孔，上端板承載座上設(shè)有托臺(tái)一和側(cè)板一，下端板承載座上設(shè)有托臺(tái)二和側(cè)板二，托臺(tái)一和托臺(tái)二均包括一承載面和一連接面，承載面具有一兩側(cè)帶平表面的圓弧形凹面構(gòu)型，側(cè)板一與托臺(tái)一的連接面緊貼，側(cè)板二和托臺(tái)二的連接面緊貼，側(cè)板一高度高于托臺(tái)一高度，側(cè)板二高度高于托臺(tái)二高度。
[0005]進(jìn)一步的，上端板承載座的承載面上圓弧形凹面的圓弧半徑大于或等于晶舟上端板半徑，下端板承載座的承載面上圓弧形凹面的圓弧半徑大于或等于晶舟下端板半徑，保證晶舟可以完全放置在凹面圓弧內(nèi)。
[0006]承載面采用凹向弧形結(jié)構(gòu)，更密切的配合晶舟兩端圓環(huán)結(jié)構(gòu)，減掉一個(gè)自由度。側(cè)板的高度高于托臺(tái)高度，消除晶舟左右移動(dòng)的自由度。
[0007]進(jìn)一步的，側(cè)板一和側(cè)板二上方均呈圓弧形。
[0008]實(shí)際操作中，晶舟是從上往下方，側(cè)板采用圓弧形結(jié)構(gòu)，可以避免一些摩擦或碰撞。[0009]進(jìn)一步的，托臺(tái)一的寬度大于晶舟上端板的厚度，小于晶舟上端板與最近一片環(huán)形托板之間的距離，托臺(tái)二的寬度大于晶舟下端板的厚度，小于晶舟下端板與最近一片環(huán)形托板之間的距離。
[0010]進(jìn)一步的，上端板承載座的擋板與下端板承載座的擋板之間的內(nèi)側(cè)距離比晶舟的長(zhǎng)度大5_，保證晶舟可以安全完全放置在治具內(nèi)。
[0011]進(jìn)一步的，底板的長(zhǎng)度小于水平清洗槽底部的長(zhǎng)度，保證治具可以放置于水平清洗槽的底部。
[0012]進(jìn)一步的，所述通孔為垂直設(shè)置的圓形通孔，所述圓形通孔等距分布在底板上。所述通孔可以保證清洗槽底部上來(lái)的化學(xué)品可以迅速均勻浸泡晶舟，同時(shí)為了保證該治具的剛度不易被折斷等，開孔不能太多。
[0013]進(jìn)一步的，上端板承載座、下端板承載座和底板的材質(zhì)為均聚氯乙烯材質(zhì)。
[0014]采用上述技術(shù)方案后，本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔，制作方便，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)多片環(huán)形晶舟進(jìn)行水平清洗，而不會(huì)損傷晶舟。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型一種多片環(huán)形晶舟清洗治具實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2為多片環(huán)形晶舟的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的部件列表如下:
[0018]1、上端板承載座，2、下端板承載座，3、底板，4、上端板托臺(tái)，5、上端板側(cè)板，6、承載面，7、連接面，8、下端板托臺(tái)，9、下端板側(cè)板，10、上端板，11、下端板，13、環(huán)形托板，14、石英頂針。
【具體實(shí)施方式】
[0019]為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0020]圖1為本實(shí)用新型一種多片環(huán)形晶舟清洗治具的實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，它包括:上端板承載座1、下端板承載座2和底板3 ;上端板承載座1、下端板承載座2和底板3的材質(zhì)均為聚氯乙烯材質(zhì)；上端板承載座I和下端板承載座2固定在底板3上，底板3上均勻設(shè)置有通孔，上端板承載座I上設(shè)有托臺(tái)一 4和側(cè)板一 5,下端板承載座2上設(shè)有托臺(tái)二 8和側(cè)板二 9,托臺(tái)一 4和托臺(tái)二 8均包括一承載面
6和一連接面7，承載面6具有一兩側(cè)帶平表面的圓弧形凹面構(gòu)型，側(cè)板一 5與托臺(tái)一 4的連接面7緊貼，側(cè)板二 9和托臺(tái)二 8的連接面7緊貼，側(cè)板一 5高度高于托臺(tái)一 4高度，側(cè)板二 9高度高于托臺(tái)二 8高度。側(cè)板一 5和側(cè)板二 9上方均呈圓弧形。
[0021]托臺(tái)一 4的寬度大于晶舟上端板的厚度，小于晶舟上端板與最近一片環(huán)形托板之間的距離，托臺(tái)二 8的寬度大于晶舟下端板的厚度，小于晶舟下端板與最近一片環(huán)形托板之間的距離。
[0022]上端板承載座I的承載面6上圓弧形凹面的圓弧半徑大于或等于晶舟上端板半徑，下端板承載座2的承載面6上圓弧形凹面的圓弧半徑大于或等于晶舟下端板半徑。
[0023]上端板承載座I的擋板5與下端板承載座2的擋板5之間的內(nèi)側(cè)距離比晶舟的長(zhǎng)度大5mmο
[0024]底板3的長(zhǎng)度小于水平清洗槽底部的長(zhǎng)度。
[0025]底板3上的通孔為垂直設(shè)置的圓形通孔，所述圓形通孔等距分布。
[0026]本實(shí)用新型的使用過(guò)程是這樣的:根據(jù)晶舟自身的尺寸和水平清洗槽的情況，在水平清洗槽中放置本實(shí)用新型提供的一種多片環(huán)形晶舟水平清洗治具，即上端板承載座1、下端板承載座2和底板3，將多片環(huán)形晶舟的上端板10放置在上端板承載座I的托臺(tái)一 4上，將多片環(huán)形晶舟的下端板11放置在多片環(huán)形晶舟的下端板承載座2的托臺(tái)二 8上，即可進(jìn)行后續(xù)的水平清洗工藝。多片環(huán)形晶舟進(jìn)行水平清洗過(guò)程中，上端板承載座I上的托臺(tái)一 4和下端板承載座2上的托臺(tái)二 8可以保證多片環(huán)形晶舟的石英薄片懸空，避免易碎的石英薄片與清洗槽的底部接觸，上端板承載座I上的側(cè)板一 5和下端板承載座2上的側(cè)板二 9可以固定多片環(huán)形晶舟，使多片環(huán)形晶舟不會(huì)左右移動(dòng)，從而保證不會(huì)損傷多片環(huán)形晶舟。清洗過(guò)程中，清洗所用的清洗液是從槽底部供應(yīng)上來(lái)，底板3上均勻分布的圓形通孔，可以保證清洗液可以迅速均勻浸泡晶舟。
[0027]通過(guò)在水平清洗槽中裝配采用本實(shí)用新型對(duì)多片環(huán)形晶舟進(jìn)行水平清洗，大大改善了多片環(huán)形晶舟的清洗效果，減少了由于多片環(huán)形晶舟清洗問題帶來(lái)的產(chǎn)品影響，可以滿足生產(chǎn)要求。
[0028]以上所述實(shí)施步驟和方法僅僅表達(dá)了本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。在不脫離本實(shí)用新型專利構(gòu)思的前提下，所作的變形和改進(jìn)應(yīng)當(dāng)都屬于本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，包括上端板承載座、下端板承載座和底板，其特征在于:所述上端板承載座和所述下端板承載座固定在所述底板上，所述底板上均勻設(shè)置有通孔，所述上端板承載座上設(shè)有托臺(tái)一和側(cè)板一，所述下端板承載座上設(shè)有托臺(tái)二和側(cè)板二，所述托臺(tái)一和托臺(tái)二均包括一承載面和一連接面，所述承載面具有一兩側(cè)帶平表面的圓弧形凹面構(gòu)型，所述側(cè)板一與所述托臺(tái)一的連接面緊貼，所述側(cè)板二與所述托臺(tái)二的連接面緊貼，所述側(cè)板一高度高于所述托臺(tái)一高度，所述側(cè)板二高度高于所述托臺(tái)二高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于:所述側(cè)板一和所述側(cè)板二上方均呈圓弧形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于所述托臺(tái)一的寬度大于晶舟上端板的厚度，小于晶舟上端板與最近一片環(huán)形托板之間的距離，所述托臺(tái)二的寬度大于晶舟下端板的厚度，小于晶舟下端板與最近一片環(huán)形托板之間的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于所述上端板承載座的承載面上圓弧形凹面的圓弧半徑大于或等于晶舟上端板半徑，所述下端板承載座的承載面上圓弧形凹面的圓弧半徑大于或等于晶舟下端板半徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于所述上端板承載座的擋板與所述下端板承載座的擋板之間的內(nèi)側(cè)距離比晶舟的長(zhǎng)度大5mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于所述底板的長(zhǎng)度小于水平清洗槽底部的長(zhǎng)度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于:所述通孔為垂直設(shè)置的圓形通孔，所述圓形通孔等距分布在所述底板上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種多片環(huán)形晶舟清洗治具，其特征在于:所述上端板承載座、所述下端板承載座和所述底板的材質(zhì)均為聚氯乙烯材質(zhì)。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK203417882SQ201320532757
【公開日】2014年2月5日 申請(qǐng)日期:2013年8月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月29日
【發(fā)明者】秦國(guó)強(qiáng), 王楊, 趙慶, 周詩(shī)鐸, 辛科 申請(qǐng)人:武漢新芯集成電路制造有限公司