縱向磁場滅弧裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種縱向磁場滅弧裝置，包括銅環(huán)芯子、塑料環(huán)、繞組、抱箍、支架、墊圈，銅環(huán)芯子和塑料環(huán)同心連接在一起，銅環(huán)芯子上設(shè)置有導(dǎo)弧片，銅環(huán)芯子和塑料環(huán)的外側(cè)面分別向外延伸形成芯子擋圈和塑料擋圈，墊圈設(shè)置在芯子擋圈內(nèi)側(cè)，繞組圍繞銅環(huán)芯子和塑料環(huán)的外圓周面設(shè)置在墊圈和塑料擋圈之間，抱箍套設(shè)在繞組的外表面上，支架連接在抱箍上。本實用新型具有成本低廉、安全可靠、電壽命長和安裝使用方便等優(yōu)點，可廣泛用于以氣體為絕緣介質(zhì)的負(fù)荷開關(guān)。
【專利說明】縱向磁場滅弧裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于高壓電器【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種用于氣體絕緣負(fù)荷開關(guān)的縱向磁場滅弧裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前的中壓絕緣開關(guān)柜中，普遍使用SF6負(fù)荷開關(guān)，將負(fù)荷開關(guān)密封在一個充滿SF6氣體的箱體內(nèi)，主要利用SF6氣體優(yōu)異的絕緣、滅弧性能，滿足關(guān)合、隔離、接地三工位功能的開關(guān)設(shè)備，具有結(jié)構(gòu)簡單、聯(lián)鎖可靠、體積小、維修少、安全易安裝等優(yōu)點，適用于不同的應(yīng)用場合。
[0003]目前SF6負(fù)荷開關(guān)普遍采用兩種滅弧方式:一是滅弧柵片方式，在與負(fù)荷開關(guān)動刀運(yùn)動保持一定的距離和角度設(shè)置一個滅弧柵，在負(fù)荷開關(guān)分閘過程中電弧在動刀和滅弧柵之間產(chǎn)生，利用滅弧柵分割滅弧，這種滅弧方式對滅弧柵的安裝精度要求高，而且壽命短；二是采用壓氣吹弧方式，在開關(guān)動刀附近安裝一個壓氣筒，壓氣筒的噴嘴對著動刀與靜刀間的斷口，在負(fù)荷開關(guān)分閘過程中，壓氣筒的活塞與動刀聯(lián)動，將壓氣筒內(nèi)的冷SF6氣體從噴嘴噴向動刀與靜刀之間的電弧，拉長、打散并冷卻熄滅電弧。但因為需要采用聯(lián)動裝置，要求機(jī)構(gòu)的分閘功偏大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種成本低、性能良好的縱向磁場滅弧裝置。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用一種縱向磁場滅弧裝置，包括銅環(huán)芯子、塑料環(huán)、繞組、抱箍、支架、墊圈，銅環(huán)芯子和塑料環(huán)同心連接在一起，銅環(huán)芯子上設(shè)置有導(dǎo)弧片，銅環(huán)芯子和塑料環(huán)的外側(cè)面分別向外延伸形成芯子擋圈和塑料擋圈，墊圈設(shè)置在芯子擋圈內(nèi)側(cè)，繞組圍繞銅環(huán)芯子和塑料環(huán)的外圓周面設(shè)置在墊圈和塑料擋圈之間，抱箍套設(shè)在繞組的外表面上，支架連接在抱箍上。
[0006]本實用新型的有益效果是縱向磁場滅弧裝置采用獨特的結(jié)構(gòu)設(shè)計，負(fù)荷開關(guān)分閘時，動刀和靜刀之間的電弧，通過導(dǎo)弧片引導(dǎo)到滅弧裝置，電流通過線圈繞組產(chǎn)生一個與動刀方向一致的縱向磁場，在磁場的作用下使電弧旋轉(zhuǎn)，在電流過零時使電弧熄滅，具有成本低廉、安全可靠、電壽命長和安裝使用方便等優(yōu)點，可廣泛用于以氣體為絕緣介質(zhì)的負(fù)荷開關(guān)。而且本實用新型采用塑料環(huán)與銅制銅環(huán)芯子拼合，只需要在銅環(huán)芯子一側(cè)設(shè)置墊圈，降低了成本，提高了安全性能。
[0007]本實用新型進(jìn)一步設(shè)置為所述銅環(huán)芯子朝向塑料環(huán)的一面形成與塑料環(huán)的內(nèi)徑相適配的卡環(huán)。通過卡環(huán)可以使塑料環(huán)和銅環(huán)芯子的連接更加穩(wěn)定可靠。
[0008]本實用新型進(jìn)一步設(shè)置為所述支架與導(dǎo)弧片相對設(shè)置在塑料環(huán)的中心軸向方向上的兩側(cè)面。
[0009]本實用新型繞組的一種具體設(shè)置為所述繞組為銅帶和絕緣薄膜繞制而成，絕緣薄膜墊在各匝銅帶的匝間作為匝間絕緣。
[0010]上述繞組的具體繞制方向是所述銅帶和絕緣薄膜的起始端均連接在塑料環(huán)上，銅帶的起始端在絕緣薄膜的起始端沿繞制方向向前的1/4圈處。
[0011]本實用新型繞組的另一種具體設(shè)置為所述繞組為銅漆包線繞制而成。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型實施例的剖視圖。
[0013]圖2是本實用新型實施例銅環(huán)芯子的立體圖。
[0014]圖3是本實用新型實施例中繞組的制作方法的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)行進(jìn)一步說明。
[0016]如圖1-2所示，本實用新型的具體實施例是一種縱向磁場滅弧裝置包括銅環(huán)芯子
1、塑料環(huán)2、繞組3、抱箍4、支架5、墊圈6，銅環(huán)芯子I和塑料環(huán)2通過螺釘7同心連接在一起，銅環(huán)芯子I朝向塑料環(huán)2的一面形成與塑料環(huán)2的內(nèi)徑相適配的卡環(huán)11，卡環(huán)11卡在塑料環(huán)2內(nèi)，銅環(huán)芯子I上設(shè)置有導(dǎo)弧片12，銅環(huán)芯子I和塑料環(huán)2的外側(cè)面分別向外延伸形成芯子擋圈13和塑料擋圈21，墊圈6設(shè)置在芯子擋圈13內(nèi)側(cè)，繞組3圍繞銅環(huán)芯子I和塑料環(huán)2的外圓周面設(shè)置在墊圈6和塑料擋圈21之間，抱箍4套設(shè)在繞組的外表面上，抱箍4兩端通過螺栓41緊固在一起，支架5焊接在抱箍4上，支架5與導(dǎo)弧片12相對設(shè)置在塑料環(huán)2的中心軸向方向上的兩側(cè)面。
[0017]如圖3所示，上述具體實施例的繞組3的一種實施方式是銅帶31和絕緣薄膜32繞制而成，銅帶31和絕緣薄膜32的起始端(33-34)均連接在塑料環(huán)上,銅帶的起始端33在絕緣薄膜的起始端34沿繞制方向向前的1/4圈處，絕緣薄膜32墊在各匝銅帶31的匝間作為匝間絕緣。銅帶31和絕緣薄膜32組成的線圈繞組3有效圈數(shù)為20圈，繞制后，繞組3內(nèi)側(cè)預(yù)留3/4圈銅帶31與銅環(huán)芯子I接觸；繞組3外側(cè)預(yù)留3/4圈銅帶31與抱箍4接觸。
[0018]上述具體實施例的繞組3的另一種實施方式是由銅漆包線繞制而成。
[0019]本實用新型的實施方案還可以在上述說明的基礎(chǔ)上做出其他不同形式的變化或變動，這些屬于本實用新型的實質(zhì)精神所引申出的顯而易見的變化或變動仍屬于本實用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種縱向磁場滅弧裝置，其特征在于:所述縱向磁場滅弧裝置包括銅環(huán)芯子、塑料環(huán)、繞組、抱箍、支架、墊圈，銅環(huán)芯子和塑料環(huán)同心連接在一起，銅環(huán)芯子上設(shè)置有導(dǎo)弧片，銅環(huán)芯子和塑料環(huán)的外側(cè)面分別向外延伸形成芯子擋圈和塑料擋圈，墊圈設(shè)置在芯子擋圈內(nèi)側(cè)，繞組圍繞銅環(huán)芯子和塑料環(huán)的外圓周面設(shè)置在墊圈和塑料擋圈之間，抱箍套設(shè)在繞組的外表面上，支架連接在抱箍上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的縱向磁場滅弧裝置，其特征在于:所述銅環(huán)芯子朝向塑料環(huán)的一面形成與塑料環(huán)的內(nèi)徑相適配的卡環(huán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的縱向磁場滅弧裝置，其特征在于:所述支架與導(dǎo)弧片相對設(shè)置在塑料環(huán)的中心軸向方向上的兩側(cè)面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的縱向磁場滅弧裝置，其特征在于:所述繞組為銅帶和絕緣薄膜繞制而成，絕緣薄膜墊在各匝銅帶的匝間作為匝間絕緣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的縱向磁場滅弧裝置，其特征在于:所述繞組為銅漆包線繞制而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的縱向磁場滅弧裝置，其特征在于:所述銅帶和絕緣薄膜的起始端均連接在塑料環(huán)上，銅帶的起始端在絕緣薄膜的起始端沿繞制方向向前的1/4圈處。
【文檔編號】H01H33/18GK203423117SQ201320576362
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年9月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月13日
【發(fā)明者】陳微琴, 梁楚欣 申請人:陳微琴