晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器，包括滴管和吸嘴；所述吸嘴包括管體、棉頭、固定套、接真空的軟管，所述棉頭通過所述固定套安裝在所述管體一頭，且所述棉頭的端面外露于所述管體的端面，所述接真空的軟管安裝在所述管體另一頭。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單，可操作性強(qiáng)，清洗過程連續(xù)易控制，清洗效果提高，效率可以調(diào)高35%，且不會(huì)對(duì)晶粒造成刮傷，安全性好。
【專利說明】晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種晶圓電性測(cè)試的墨點(diǎn)清除裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中，晶圓電性測(cè)試是一個(gè)必不可少的重要組成部分。通常在晶圓測(cè)試完畢之后，為了避免下一個(gè)封裝環(huán)節(jié)出現(xiàn)錯(cuò)封誤封的現(xiàn)象，行業(yè)內(nèi)普遍的做法是在晶圓上用特殊的墨水將電性測(cè)試不正常的晶粒打上墨點(diǎn)標(biāo)識(shí)出來。這種技術(shù)被稱作“INK”。
[0003]在實(shí)際生產(chǎn)過程中，由于各種或人為、或機(jī)器、或資料的錯(cuò)誤，導(dǎo)致當(dāng)前的整個(gè)一片晶圓的墨點(diǎn)不是完全正確的打在電性測(cè)試不正常的晶粒上，而是一部分打在原本電性測(cè)試正常的晶粒上，這種情況下，就必須對(duì)錯(cuò)打的墨點(diǎn)進(jìn)行清洗。
[0004]由于“INK”技術(shù)經(jīng)過多年的發(fā)展，已經(jīng)解決了之前墨點(diǎn)打在晶圓上會(huì)脫落、會(huì)模糊、會(huì)污染其它晶粒等技術(shù)問題，使得當(dāng)出現(xiàn)錯(cuò)打等非正常的墨點(diǎn)時(shí)，清洗的難度加大。原因是:1、墨點(diǎn)無法被直接擦拭，用力不當(dāng)會(huì)刮傷晶粒；2、清洗過程很容易污染其它的晶粒，造成清洗范圍擴(kuò)大；3、清洗時(shí)使用的液體很難擦拭干凈，留下明顯的痕跡；4、目前行業(yè)內(nèi)的清洗方法比較復(fù)雜，需要經(jīng)過特殊溶劑浸泡、無塵棉簽擦拭、酒精浸泡、無塵布簽擦拭、純水沖洗、風(fēng)干等多個(gè)步驟，即使嚴(yán)格按照以上步驟清洗墨點(diǎn)，也有30%的概率清洗失敗，造成當(dāng)前晶粒被破壞甚至波及周邊晶粒，而且清洗過程時(shí)間長，操作復(fù)雜。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]實(shí)用新型目的:針對(duì)上述問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種對(duì)晶圓電性測(cè)試的墨點(diǎn)進(jìn)行清除的裝置，操作簡單，成功率高。
[0006]技術(shù)方案:一種晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器，包括滴管和吸嘴；所述吸嘴包括管體、棉頭、固定套、接真空的軟管，所述棉頭通過所述固定套安裝在所述管體一頭，且所述棉頭的端面外露于所述管體的端面，所述接真空的軟管安裝在所述管體另一頭。
[0007]所述滴管的前端為錐體管口，尾端為橡膠擠頭，便于控制清洗液的流量、流速。
[0008]所述錐體管口的錐度為30°，可以提高清洗液滴于晶圓上墨點(diǎn)時(shí)的準(zhǔn)確性，便于瞄準(zhǔn)。
[0009]本實(shí)用新型的原理是利用滴管和吸嘴的配合使用，形成由滴管管口至待清除墨點(diǎn)至吸嘴的液體流，利用真空加強(qiáng)吸收能力，達(dá)到清洗清除墨點(diǎn)的目的。
[0010]有益效果:與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單，可操作性強(qiáng)，清洗過程連續(xù)易控制，清洗效果提高，效率可以調(diào)高35%，且不會(huì)對(duì)晶粒造成刮傷，安全性好。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為圖1的局部放大視圖1 ;[0013]圖3為本實(shí)用新型使用狀態(tài)示意圖，箭頭所示為液體流向。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型，應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍，在閱讀了本實(shí)用新型之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的各種等價(jià)形式的修改均落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定的范圍。
[0015]如附圖1所示，一種晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器，包括滴管100和吸嘴200。
[0016]吸嘴200包括管體201、棉頭202、固定套203、接真空的軟管204。如附圖2所示，棉頭202通過固定套203安裝在管體201的一頭，棉頭202在長度上，一部分位于管體201的管內(nèi)，一部分外露在管體201的端面外。接真空的軟管204安裝在管體201另一頭。
[0017]管體201上還可以安裝開關(guān)205，控制真空的打開和關(guān)閉。
[0018]滴管100的前端為錐體管口 101,錐度最佳為30°。滴管100的尾端為橡膠擠頭102。
[0019]如附圖3所示，本實(shí)用新型使用時(shí)，是將滴管和吸嘴配合使用，形成由滴管管口至待清除墨點(diǎn)至吸嘴的液體流，同時(shí)利用吸嘴外接的真空加強(qiáng)棉頭對(duì)清洗液的吸收能力，達(dá)到良好的清洗清除墨點(diǎn)的效果。
[0020]清除過程為:先用滴管吸入少許清洗液滴在待清除的墨點(diǎn)300上浸泡墨點(diǎn)，待墨點(diǎn)軟化后，將吸嘴真空打開，利用棉頭吸干凈墨點(diǎn)上的清洗液，再用滴管吸入一定的酒精，滴管的管口對(duì)準(zhǔn)墨點(diǎn)，一邊緩緩釋放酒精，一邊打開真空用棉頭吸入，最后用純水反復(fù)上述動(dòng)作，即可很干凈快捷的清除錯(cuò)誤的墨點(diǎn)。
【權(quán)利要求】
1.一種晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器，其特征在于:包括滴管(100)和吸嘴(200);所述吸嘴(200)包括管體(201)、棉頭(202)、固定套(203)、接真空的軟管(204)，所述棉頭(202)通過所述固定套(203 )安裝在所述管體(201) —頭，且所述棉頭(202 )的端面外露于所述管體(201)的端面，所述接真空的軟管(204)安裝在所述管體(201)另一頭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器，其特征在于:所述滴管(100)的前端為錐體管口(101)，尾端為橡膠擠頭(102)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓電性測(cè)試墨點(diǎn)清除器，其特征在于:所述錐體管口(101)的錐度為30°。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK203456427SQ201320576485
【公開日】2014年2月26日 申請(qǐng)日期:2013年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月18日
【發(fā)明者】王剛, 蔣忠 申請(qǐng)人:鎮(zhèn)江艾科半導(dǎo)體有限公司