一種新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括環(huán)形支撐平臺(tái)和與環(huán)形支撐平臺(tái)的形狀大小一樣的環(huán)形壓塊，所述環(huán)形支撐平臺(tái)的內(nèi)腔用于容納盤式絕緣子的導(dǎo)體嵌件的下端，所述環(huán)形壓塊的內(nèi)腔用于容納盤式絕緣子的導(dǎo)體嵌件的上端，所述環(huán)形支撐平臺(tái)的外徑和環(huán)形壓塊的外徑等于或稍大于盤式絕緣子的外徑，所述支撐平臺(tái)的上端為法蘭面，所述壓塊的下端為法蘭面，所述的環(huán)形壓塊為至少兩層，所述環(huán)形壓塊的外壁上對稱設(shè)置有兩個(gè)把手，在壓塊上設(shè)置有把手可方便的將壓塊搬運(yùn)到盤式絕緣子上，既保證了不用降低壓塊的自身的重量，就能讓盤式絕緣子得到定位，又解決了壓塊過重?zé)o法搬運(yùn)，且搬運(yùn)后無法精準(zhǔn)的將壓塊與盤式絕緣子相配合的問題。
【專利說明】一種新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及的是一種盤式絕緣子的校正工具，尤其是一種新型高壓盤式絕緣子的法蘭面平行度的校正工具。
【背景技術(shù)】
[0002]盤式絕緣子是通過環(huán)氧樹脂、添加物、在模具中進(jìn)行澆注后送入固化爐中，然后在一定時(shí)間的溫度和壓力下固化成型。其制造過程復(fù)雜，影響質(zhì)量的因素也很多，其中，在較高溫度固化成型后，從固化爐中取出來在自然環(huán)境下冷卻的過程中，內(nèi)部應(yīng)力會(huì)逐漸釋放，由于環(huán)氧樹脂配料攪拌的均勻性和盤式絕緣子中導(dǎo)電嵌件的熱膨脹系數(shù)的差別，絕緣子內(nèi)部應(yīng)力釋放會(huì)出現(xiàn)不均勻的問題，有可能會(huì)導(dǎo)致盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面的不平行的問題。而本公司之前申請的專利號為:201320010850.0的專利雖然解決了上述的技術(shù)問題，但是在實(shí)際操作中又發(fā)現(xiàn)了另外急需解決的技術(shù)問題，由于將盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面設(shè)置在了平臺(tái)和壓塊之間，但是因?yàn)閴簤K重量比較大，在實(shí)際操作過程中很難將過重的壓塊搬運(yùn)到盤式絕緣子上，而壓塊的自重又不能降低，需要依靠壓塊的自身的重量使盤式絕緣子得到定位，如果自身重量不夠就無法達(dá)到上述效果。而且壓塊重量過大，無法進(jìn)行人工搬用，只能通過起重機(jī)進(jìn)行搬運(yùn)，但是需要將壓塊搬運(yùn)到盤式絕緣子上，由于起重器放置壓塊時(shí)的精確度不高，無法與盤式絕緣子上相配合，給實(shí)際操作過程中帶來諸多不便，無法保證盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面的平行度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決將盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面設(shè)置在平臺(tái)和壓塊之間，但是因?yàn)閴簤K重量比較大，在實(shí)際操作過程中很難將過重的壓塊搬運(yùn)到盤式絕緣子上，并且無法精準(zhǔn)的將壓塊與盤式絕緣子相配合的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種新型高壓盤式絕緣子的法蘭面平行度的校正工具。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn):
[0005]一種新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括環(huán)形支撐平臺(tái)和一個(gè)與環(huán)形支撐平臺(tái)的形狀大小一樣的環(huán)形壓塊，所述環(huán)形支撐平臺(tái)的第一內(nèi)腔用于容納盤式絕緣子的導(dǎo)體嵌件的下端，所述環(huán)形壓塊的第二內(nèi)腔用于容納盤式絕緣子的導(dǎo)體嵌件的上端，所述環(huán)形支撐平臺(tái)的外徑和環(huán)形壓塊的外徑不小于盤式絕緣子的外徑，所述支撐平臺(tái)的上端為法蘭面，所述壓塊的下端為法蘭面，所述的環(huán)形壓塊為至少兩層，所述環(huán)形壓塊的外壁上對稱設(shè)置有兩個(gè)把手。
[0006]進(jìn)一步，所述的環(huán)形壓塊為三層。
[0007]本發(fā)明具有如下的積極效果:將盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面設(shè)置在平臺(tái)和壓塊之間，由于壓塊重量比較大，在不減少壓塊自重的情況下，將壓塊分成多層壓塊，不需要起重機(jī)等大型工具，分為多層的壓塊由于每層壓塊的重量都不會(huì)太大，并且在壓塊上設(shè)置有把手可方便的將壓塊搬運(yùn)到盤式絕緣子上，普通的人工即可搬運(yùn)，搬運(yùn)后可以通過人工對壓塊的位置進(jìn)行校對，使壓塊能與盤式絕緣子相配合，既保證了不用降低壓塊的自身的重量，使壓塊的自身的重量就能讓盤式絕緣子得到定位，有力的保證了盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面的平行度，又解決了壓塊過重?zé)o法搬運(yùn)，且搬運(yùn)后無法精準(zhǔn)的將壓塊與盤式絕緣子相配合的問題。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖中:1、環(huán)形支撐平臺(tái)2、環(huán)形壓塊3、第一內(nèi)腔4、盤式絕緣子5、導(dǎo)體嵌件的下端
6、第二內(nèi)腔7、導(dǎo)體嵌件的上端8、把手
【具體實(shí)施方式】
[0010]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施方式進(jìn)一步詳細(xì)地描述。
[0011]如圖1所示，一種新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括環(huán)形支撐平臺(tái)I和一個(gè)與環(huán)形支撐平臺(tái)I的形狀大小一樣的環(huán)形壓塊2，所述環(huán)形支撐平臺(tái)I的第一內(nèi)腔3用于容納盤式絕緣子4的導(dǎo)體嵌件的下端5，所述環(huán)形壓塊2的第二內(nèi)腔6用于容納盤式絕緣子4的導(dǎo)體嵌件的上端7，所述環(huán)形支撐平臺(tái)I的外徑和環(huán)形壓塊2的外徑不小于盤式絕緣子4的外徑，所述支撐平臺(tái)I的上端為法蘭面，所述壓塊2的下端為法蘭面，所述的環(huán)形壓塊2為至少兩層，所述環(huán)形壓塊2的外壁上對稱設(shè)置有兩個(gè)把手8。
[0012]進(jìn)一步，所述的環(huán)形壓塊2為三層。
[0013]在具體操作過程中，由于壓塊重量比較大，在不減少壓塊自重的情況下，將壓塊分成多層壓塊，不需要起重機(jī)等大型工具，分為多層的壓塊由于每層壓塊的重量都不會(huì)太大，并且在壓塊上設(shè)置有把手可方便的將壓塊搬運(yùn)到盤式絕緣子上，普通的人工即可搬運(yùn)，搬運(yùn)后可以通過人工對壓塊的位置進(jìn)行校對，使壓塊能與盤式絕緣子相配合，既保證了不用降低壓塊的自身的重量，使壓塊的自身的重量就能讓盤式絕緣子得到定位，有力的保證了盤式絕緣子的兩個(gè)法蘭面的平行度，又解決了壓塊過重?zé)o法搬運(yùn)，且搬運(yùn)后無法精準(zhǔn)的將壓塊與盤式絕緣子相配合的問題。
[0014]需說明的是，以上所述的實(shí)施方式是對本發(fā)明技術(shù)方案的說明而非限制，所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員的等同替換或根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)而做的其它修改只要沒有超出本發(fā)明技術(shù)方案的思路和范圍，均應(yīng)包含在本發(fā)明所要求的權(quán)利和范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括環(huán)形支撐平臺(tái)(I)和一個(gè)與環(huán)形支撐平臺(tái)(I)的形狀大小一樣的環(huán)形壓塊(2)，所述環(huán)形支撐平臺(tái)(I)的第一內(nèi)腔(3)用于容納盤式絕緣子(4)的導(dǎo)體嵌件的下端(5)，所述環(huán)形壓塊(2)的第二內(nèi)腔(6)用于容納盤式絕緣子(4)的導(dǎo)體嵌件的上端(7)，所述環(huán)形支撐平臺(tái)(I)的外徑和環(huán)形壓塊(2)的外徑不小于盤式絕緣子(4)的外徑，所述支撐平臺(tái)(I)的上端為法蘭面，所述壓塊(2)的下端為法蘭面，其特征在于:所述的環(huán)形壓塊(2)為至少兩層，所述環(huán)形壓塊(2)的外壁上對稱設(shè)置有兩個(gè)把手(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，其特征在于:所述的環(huán)形壓塊(2)為三層。
【文檔編號】H01B19/00GK103700457SQ201410006458
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2014年1月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月7日
【發(fā)明者】邵世鵬, 董涵, 喬廣, 徐留前 申請人:平頂山市普匯電氣有限責(zé)任公司