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干燥裝置及干燥處理方法

文檔序號(hào):7044162閱讀:210來源:國(guó)知局
干燥裝置及干燥處理方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種更夠高效地且在短時(shí)間除去被涂敷在基板上的有機(jī)材料膜中的溶劑、并且容易對(duì)用于收集溶劑的構(gòu)件進(jìn)行更新的干燥裝置和干燥處理方法。干燥裝置(100)包括能夠抽成真空的處理容器(1)、用于在處理容器(1)內(nèi)支承基板(S)的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)(3)、與支承在載置臺(tái)(3)上的基板(S)相對(duì)地設(shè)置且用于收集自有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑的溶劑收集部(5)、以及控制部(6)。溶劑收集部(5)還包括用于使收集的溶劑脫離的作為溶劑脫離裝置的溫度調(diào)節(jié)裝置(7)。溶劑收集部(5)包括與載置在載置臺(tái)(3)上的基板(S)相對(duì)且與該基板(S)的表面大致平行地配置的1張或者多張金屬板的收集板(50)。在收集板(50)中形成有多個(gè)貫通開口(50a)。
【專利說明】干燥裝置及干燥處理方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明例如涉及在有機(jī)EL元件的制造過程中能夠用來使有機(jī)材料膜干燥的干燥裝置及干燥處理方法。

【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)EL (Electro Luminescence)元件是通過通入電流而利用產(chǎn)生的有機(jī)化合物發(fā)光的發(fā)光兀件,成為在一對(duì)電極之間夾有多個(gè)有機(jī)功能膜的層疊體(以下將該層疊體統(tǒng)稱作“EL層”)的構(gòu)造。在此,EL層例如具有從陽極側(cè)起按照[正穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]、[正穴注入層/正穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]、或者[正穴注入層/正穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層/電子注入層]等的順序?qū)盈B而成的構(gòu)造。
[0003]通過針對(duì)各層分別在基板上蒸鍍或者涂敷有機(jī)材料而形成EL層。在形成高精度的微細(xì)圖案的情況下,作為涂敷方法,一般認(rèn)為利用噴墨印刷法是有利的。
[0004]由于在利用噴墨印刷法印刷在基板上的有機(jī)材料膜中含有大量的溶劑,因此,為了除去該溶劑而進(jìn)行減壓干燥(例如專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2)。進(jìn)而在缺氧氣氛中對(duì)干燥后的有機(jī)材料膜進(jìn)行烘焙處理。利用該烘焙處理使有機(jī)材料膜變化為構(gòu)成EL層的有機(jī)功能膜(例如專利文獻(xiàn)3)。
[0005]作為除去利用噴墨印刷法涂敷的有機(jī)材料膜中的溶劑的干燥裝置,提出了這樣的干燥裝置:包括在收納有基板的腔室內(nèi)與基板相對(duì)地設(shè)置且用于吸附溶劑的無機(jī)多孔質(zhì)的吸附構(gòu)件(例如專利文獻(xiàn)4)。在該專利文獻(xiàn)4中記載有這樣的內(nèi)容:為了校正基板上的蒸汽濃度的差異,將吸附構(gòu)件的中央部的開口率設(shè)定得大于其外周部的開口率。此外,在專利文獻(xiàn)4中也記載有這樣的內(nèi)容:在減壓條件下對(duì)基板進(jìn)行干燥處理;通過將吸附構(gòu)件移送到另一個(gè)腔室進(jìn)行加熱而使其再生。
[0006]在干燥處理時(shí),溶劑、水分等自基板上的有機(jī)材料膜大量地?fù)]發(fā)。因此,若不自干燥裝置的處理容器內(nèi)迅速地除去這些揮發(fā)成分,則干燥效率降低。干燥后的有機(jī)材料膜的狀態(tài)會(huì)對(duì)EL層的特性產(chǎn)生影響是眾所周知的。例如在干燥處理時(shí),若在基板的面內(nèi)產(chǎn)生有機(jī)材料膜中的溶劑濃度不均勻,則基板面內(nèi)的有機(jī)EL元件的特性產(chǎn)生偏差。例如,若干燥狀態(tài)在基板的面內(nèi)不均勻,在用作有機(jī)EL顯示器時(shí),會(huì)成為引起顯示不均勻等不良的原因。
[0007]若使干燥裝置的腔室內(nèi)減壓,則隨著壓力的降低而排氣量減少,因此,在高真空狀態(tài)下排氣量變少。此外,在高真空狀態(tài)下,自有機(jī)材料膜中揮發(fā)的溶劑在處理容器內(nèi)形成分子流,因此,產(chǎn)生溶劑滯留在腔室內(nèi)這樣的問題。為了解決該問題,像上述專利文獻(xiàn)4所公開的那樣,吸附收集在腔室內(nèi)氣化的溶劑的方法是有效的。
[0008]但是,專利文獻(xiàn)4所公開的干燥裝置使用多孔質(zhì)的吸附構(gòu)件,由于收集溶劑時(shí)的收集效率主要依賴于多孔質(zhì)的吸附構(gòu)件的表面積,因此,為了謀求提高收集效率,需要使細(xì)孔微細(xì)化。但是,存在細(xì)孔的微細(xì)化存在極限、收集效率受到制約這樣的問題。此外,在重復(fù)利用收集溶劑所使用的吸附構(gòu)件時(shí),需要進(jìn)行除去吸附的溶劑的再生處理(更新),但細(xì)孔越微細(xì),溶劑越難以除去,更新花費(fèi)時(shí)間。此外,由于專利文獻(xiàn)4的干燥裝置將吸附構(gòu)件移送到再生處理專用的腔室使其加熱再生,因此再生處理用的步驟、設(shè)備復(fù)雜,在實(shí)用性這一點(diǎn)上存在問題。
[0009]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0010]專利文獻(xiàn)
[0011]專利文獻(xiàn)1:日本專利第3951162號(hào)公報(bào)(段落0023等)
[0012]專利文獻(xiàn)2:日本專利第4168968號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求2等)
[0013]專利文獻(xiàn)3:日本專利第4148933號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求1等)
[0014]專利文獻(xiàn)4:日本特開2010 - 169308號(hào)公報(bào)(圖1等)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0015]發(fā)明要解決的問題
[0016]本發(fā)明的目的在于,提供一種能夠高效地且在短時(shí)間內(nèi)除去被涂敷在基板上的有機(jī)材料膜中的溶劑、并且用于收集溶劑的構(gòu)件容易更新的干燥裝置。
[0017]用于解決問題的方案
[0018]本發(fā)明的干燥裝置是除去被涂敷在基板的表面上的有機(jī)材料膜中的溶劑而使有機(jī)材料膜干燥的干燥裝置。本發(fā)明的干燥裝置包括能夠抽成真空的處理容器、用于排出上述處理容器內(nèi)的氣體的排氣口、用于在上述處理容器內(nèi)支承上述基板的支承構(gòu)件、以及用于收集自上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑的溶劑收集部。
[0019]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述溶劑收集部包括與支承在上述支承構(gòu)件上的上述基板相對(duì)地設(shè)置的、具有多個(gè)貫通開口的一張或者多張金屬板。
[0020]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,在上述溶劑收集部中,上述多張金屬板以互相分開的狀態(tài)與支承在上述支承構(gòu)件上的上述基板平行地層疊配置。在這種情況下,上述多張金屬板中的至少兩張上述金屬板以上述貫通開口整體在層疊方向上不重合的方式錯(cuò)位地配置。
[0021]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述金屬板的上述貫通開口的開口率在20%~80%的范圍內(nèi)。
[0022]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述金屬板的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra在0.3 μ m ~ 13μηι的范圍內(nèi)。
[0023]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述金屬板的厚度在0.2mm~2_的范圍內(nèi)。
[0024]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,在上述金屬板的面內(nèi),上述貫通開口以不均勻的分布方式形成。
[0025]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述溶劑收集部具有用于使收集的溶劑脫離的溶劑脫離裝置。在這種情況下,上述溶劑脫離裝置既可以是用于加熱上述金屬板的加熱裝置,或者也可以是用于向上述金屬板噴射氣體的氣體噴射裝置。
[0026]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述溶劑收集部還具有用于促進(jìn)溶劑的收集的收集促進(jìn)裝置。在這種情況下,上述收集促進(jìn)裝置也可以是用于對(duì)上述金屬板進(jìn)行冷卻的冷卻
>J-U ρ?α裝直。
[0027]本發(fā)明的干燥裝置也可以在上述溶劑收集部和上述排氣口之間還包括整流構(gòu)件。
[0028]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述溶劑收集部具有溶劑收集構(gòu)件,該溶劑收集構(gòu)件在其內(nèi)部具有供熱介質(zhì)流通的流路。在這種情況下,在上述流路上既可以連接有加熱用熱介質(zhì)供給源,或者也可以連接有冷卻用熱介質(zhì)供給源。此外,上述流路也可以被劃分為分別獨(dú)立地供熱介質(zhì)流通的多個(gè)部分。在這種情況下,上述流路也可以具有連接有加熱用熱介質(zhì)供給源的第I流路和連接有冷卻用熱介質(zhì)供給源的第2流路。
[0029]作為上述排氣口,本發(fā)明的干燥裝置也可以是具有與上述溶劑收集部接近地設(shè)置的第I排氣口和與上述第I排氣口相對(duì)地設(shè)置的第2排氣口。
[0030]本發(fā)明的干燥裝置也可以還包括用于測(cè)量上述處理容器內(nèi)的溶劑蒸汽的濃度的傳感器。
[0031 ] 本發(fā)明的干燥裝置也可以在構(gòu)成上述處理容器的壁內(nèi)具有供熱介質(zhì)流通的流路。
[0032]本發(fā)明的干燥裝置也可以是,上述支承構(gòu)件具有加熱器。
[0033]本發(fā)明的干燥處理方法在上述任一個(gè)干燥裝置的上述處理容器內(nèi)對(duì)涂敷在上述基板的表面上的有機(jī)材料膜進(jìn)行干燥處理。
[0034]本發(fā)明的干燥處理方法也可以是,上述有機(jī)材料膜在制造有機(jī)EL元件的過程中利用噴墨印刷法涂敷在上述基板上。
[0035]發(fā)明的效果
[0036]采用本發(fā)明的干燥裝置及干燥處理方法,能夠高效地且在短時(shí)間內(nèi)除去被涂敷在基板上的有機(jī)材料膜中的溶劑。此外,也能夠在短時(shí)間內(nèi)容易地更新用于收集溶劑的構(gòu)件。因而,采用本發(fā)明,例如能夠提高有機(jī)EL元件的制造工藝的生產(chǎn)率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0037]圖1是表示本發(fā)明的第I實(shí)施方式的干燥裝置的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0038]圖2是表示圖1中的溶劑收集部的主要部分剖視圖。
[0039]圖3是收集板的俯視圖。
[0040]圖4是收集板的另一例子的俯視圖。
[0041]圖5是表示有機(jī)EL元件的制造工序的概略的流程圖。
[0042]圖6是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的干燥裝置的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0043]圖7是表示圖6中的溶劑收集部的主要部分剖視圖。
[0044]圖8是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的干燥裝置的變形例的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0045]圖9是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的干燥裝置的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0046]圖10是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的干燥裝置中的溶劑收集構(gòu)件的流路的結(jié)構(gòu)例的圖。
[0047]圖11是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的干燥裝置中的溶劑收集構(gòu)件的流路的另一結(jié)構(gòu)例的圖。
[0048]圖12是表示在干燥裝置中進(jìn)行的干燥處理的步驟的一例子的時(shí)序圖。

【具體實(shí)施方式】
[0049]下面,參照【專利附圖】
附圖
【附圖說明】本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0050]第I實(shí)施方式
[0051]圖1是表示本發(fā)明的第I實(shí)施方式的單片式的干燥裝置的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖2是表示圖1中的溶劑收集部的主要部分的剖視圖。圖3及圖4是表示收集板的優(yōu)選例子的俯視圖。本實(shí)施方式的干燥裝置100可用于對(duì)作為被處理體的例如有機(jī)EL顯示器用的玻璃基板(以下簡(jiǎn)記作“基板”)S除去被涂敷在其表面的有機(jī)材料膜中的溶劑使有機(jī)材料膜干燥的干燥處理。
[0052]本實(shí)施方式的干燥裝置100包括能夠抽成真空的處理容器1、用于在處理容器I內(nèi)支承基板S的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3、與支承在載置臺(tái)3上的基板S相對(duì)地設(shè)置且用于收集自有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑的溶劑收集部5、以及控制部6。此外,溶劑收集部5還包括用于使收集的溶劑脫離的作為溶劑脫離裝置的溫度調(diào)節(jié)裝置7。
[0053]處理容器
[0054]處理容器I是能夠抽成真空的耐壓容器。處理容器I利用金屬材料形成。作為形成處理容器I的材料,例如能夠使用鋁、鋁合金、不銹鋼等。處理容器I包括底壁11、方筒狀的4個(gè)側(cè)壁13、以及頂部15。
[0055]在側(cè)壁13中設(shè)有用于向裝置內(nèi)搬入基板S或者自該裝置搬出基板S的搬入搬出口 13a。搬入搬出口 13a用于在處理容器I與外部之間搬入或搬出基板S。在搬入搬出口13a中設(shè)有閘閥GV。閘閥GV具有打開或關(guān)閉搬入搬出口 13a的功能,其在關(guān)閉狀態(tài)下以氣密的方式密封處理容器1,并且在打開狀態(tài)下能夠在處理容器I和外部之間移送基板S。
[0056]在頂部15中設(shè)有排氣口 15a。排氣口 15a經(jīng)由排氣管17連接于外部的排氣裝置
19。構(gòu)成為通過使該排氣裝置19工作,能夠?qū)μ幚砣萜鱅內(nèi)進(jìn)行減壓排氣至規(guī)定的真空度、例如0.1Pa左右的壓力。
[0057]載置臺(tái)
[0058]在處理容器I的內(nèi)部配備有作為支承裝置的載置臺(tái)3。載置臺(tái)3被支柱21支承。支柱21固定在底壁11上。載置臺(tái)3雖省略圖示,但載置臺(tái)3具有用于使基板S升降移位的機(jī)構(gòu)、例如升降銷等,能夠在交接基板S的交接位置和將基板S載置在載置臺(tái)3上進(jìn)行干燥處理的處理位置之間調(diào)整基板S的高度位置。
[0059]壓力控制機(jī)構(gòu)
[0060]本實(shí)施方式的干燥裝置100還包括排氣裝置19。另外,排氣裝置19既可以是干燥裝置100的一個(gè)構(gòu)成部分,也可以是與干燥裝置100分開的外部裝置。排氣裝置19例如具有渦輪分子泵、干泵等真空泵。干燥裝置100還包括連接排氣口 15a和排氣裝置19的排氣管17、設(shè)于排氣管17的中途的APC (Adaptive Pressure Control)閥23、以及未圖示的開閉閥。通過使排氣裝置19的真空泵工作,并且調(diào)節(jié)APC閥23的開度,能夠?qū)⑻幚砣萜?的內(nèi)部空間減壓排氣到規(guī)定的真空度。
[0061]此外,本實(shí)施方式的干燥裝置100還包括用于監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力的壓力計(jì)
25。壓力計(jì)25將處理容器I內(nèi)的測(cè)量壓力作為電信號(hào)發(fā)送到APC閥23。
[0062]在本實(shí)施方式中,由排氣裝置19、排氣管17、APC閥23以及壓力計(jì)25構(gòu)成對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣并調(diào)節(jié)到規(guī)定壓力的壓力控制機(jī)構(gòu)。
[0063]擋板
[0064]本實(shí)施方式的干燥裝置100還包括作為整流構(gòu)件的擋板31。擋板31例如由鋁、不銹鋼等材質(zhì)形成。擋板31插入配備在溶劑收集部5和排氣口 15a之間。擋板31具有多個(gè)通孔31a。在本實(shí)施方式中,擋板31以懸吊在支承框33上的狀態(tài)固定。支承框33呈四邊形的框狀,其固定在處理容器I的頂部15。另外,擋板31和支承框33也可以一體地形成。此外,也可以不設(shè)置支承框33而將擋板31直接固定在處理容器I的側(cè)壁13或者頂部15。擋板31具有使從載置在載置臺(tái)3上的基板S側(cè)經(jīng)由溶劑收集部5朝向排氣口 15a的排氣流均等的功能。因而,通過在溶劑收集部5和排氣口 15a之間配備擋板31,能夠?qū)νㄟ^溶劑收集部5的含有溶劑的排氣流進(jìn)行整流,提高溶劑收集部5的溶劑收集效率。
[0065]溶劑收集部
[0066]溶劑收集部5用于收集自形成在基板S上的有機(jī)材料膜中揮發(fā)的溶劑。也就是說,溶劑收集部5通過使從有機(jī)材料膜中氣化的氣體狀的溶劑結(jié)露而將其收集,使處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑濃度降低。
[0067]圖2是表示溶劑收集部5的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的剖視圖。溶劑收集部5包括與載置在載置臺(tái)3上的基板S相對(duì)地配置的I張或者多張作為金屬板的收集板50。收集板50是呈矩形的板狀,形成有多個(gè)貫通開口 50a。此外,收集板50與基板S大致平行地設(shè)置。也就是說,收集板50的上下的表面和基板S的表面大致平行地配置。
[0068]收集板50以懸吊在固定于頂部15的支承框33上的狀態(tài)裝拆自由地支承。另外,也可以將收集板50直接固定在處理容器I的側(cè)壁13或者頂部15。
[0069]收集板50也可以是I張,但為了提高溶劑的收集效率,優(yōu)選在例如兩張?20張的范圍內(nèi)使用。通過增加或減少收集板50的設(shè)置張數(shù),能夠改變?nèi)軇┦占?中的收集板50的總計(jì)表面積,調(diào)節(jié)與溶劑蒸汽的接觸面積。
[0070]收集板50優(yōu)選由導(dǎo)熱性優(yōu)異的材質(zhì)、例如鋁、不銹鋼等構(gòu)成。為了增大溶劑收集部5整體的表面積而提高溶劑的收集效率,I張收集板50的厚度能夠設(shè)在例如0.2_?2_的范圍內(nèi)。此外,為了提高溶劑的收集效率,層疊多個(gè)收集板50的情況下的間隔能夠設(shè)在例如Imm?20mm的范圍內(nèi)。
[0071]在本實(shí)施方式中,如圖3所示,將大小相同的多個(gè)圓形的貫通開口 50a在收集板50的面內(nèi)以恒定的間隔均等地排列。收集板50的貫通開口 50a是例如俯視為圓形的孔。另夕卜,貫通開口 50a的形狀并不限定于圓形,也可以是例如橢圓形、長(zhǎng)方形等多邊形。貫通開口 50a的大小、形狀既可以全部相同,也可以在收集板50的面內(nèi)變化。此外,在收集板50的面內(nèi),貫通開口 50a能夠以任意的排列形成。
[0072]此外,也能夠在收集板50的面內(nèi)以不均勻的分布的方式形成多個(gè)貫通開口 50a。例如,如圖4所示,在收集板50的與基板S的面內(nèi)溶劑的揮發(fā)量較多的中央附近區(qū)域相對(duì)的中央?yún)^(qū)域中,以開口率變大的方式排列貫通開口 50a,在收集板50的與基板S的面內(nèi)溶劑的揮發(fā)量較少的周緣部區(qū)域相對(duì)的周緣部區(qū)域中,以開口率變小的方式排列貫通開口 50a等,能夠與來自基板S的溶劑揮發(fā)量的差異相對(duì)應(yīng)地在收集板50的面內(nèi)分布有貫通開口50a。此外,也可以與上述相反,減小收集板50的中央?yún)^(qū)域的開口率,周緣部區(qū)域的開口率變大。并且,也可以針對(duì)層疊的每個(gè)收集板50使貫通開口 50a的大小、形狀、它們的分布等都發(fā)生變化。作為貫通開口 50a的優(yōu)選的形狀和配置,例如優(yōu)選以鋸齒狀排列圓形的貫通開口 50a。
[0073]收集板50的面內(nèi)的貫通開口 50a的開口率也根據(jù)收集板50的設(shè)置張數(shù)的不同而不同,例如優(yōu)選在20%?80%的范圍內(nèi)。在此,開口率的意思是指,貫通開口 50a的總計(jì)開口面積占有假定為不存在貫通開口 50a的情況下的收集板50的單面面積。通過將收集板50的面內(nèi)的貫通開口 50a的開口率設(shè)在上述范圍內(nèi),能夠調(diào)節(jié)與溶劑蒸汽的接觸面積,并且能夠調(diào)節(jié)從基板S側(cè)到達(dá)排氣口 15a的揮發(fā)蒸汽的排氣傳導(dǎo)性。
[0074]就收集板50的表面而言,從促進(jìn)在處理容器I內(nèi)氣化了的溶劑的結(jié)露而使其易于附著在收集板50的表面的方面考慮,例如算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選在0.3 μ m?13 μ m的范圍內(nèi)。在收集板50的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra小于0.3 μ m時(shí),難以除去結(jié)露的溶劑,在該算術(shù)平均粗糙度Ra大于13 μ m時(shí),溶劑在收集板50的表面難以發(fā)生結(jié)露,收集效率降低。
[0075]在本實(shí)施方式中,如圖2所示,多張收集板50以互相分開的狀態(tài)與基板S平行地層疊配置。此外,對(duì)于多張收集板50中的至少兩張收集板50而言,優(yōu)選貫通開口 50a整體以不在層疊方向上重合的方式錯(cuò)位地配置,對(duì)于至少在層疊方向上鄰接的兩張收集板50而言,更優(yōu)選貫通開口 50a整體以不在層疊方向上重合的方式錯(cuò)位地配置。另外,對(duì)于層疊的多個(gè)收集板50而言,也可以是貫通開口 50a的一部分在層疊方向上重合的配置。
[0076]這樣,在本實(shí)施方式中,利用多張收集板50形成迷宮構(gòu)造。自基板S揮發(fā)出來的溶劑蒸汽的氣流AF被收集板50的迷路構(gòu)造阻擋了行進(jìn)方向。會(huì)蛇行運(yùn)動(dòng)地通過溶劑收集部5。這樣,通過在鄰接的收集板50之間錯(cuò)開貫通開口 50a的位置,能夠增加通過溶劑收集部5的溶劑蒸汽和收集板50表面的接觸機(jī)會(huì),提高收集效率。此外,通過增加或減少具有多個(gè)貫通開口 50a的收集板50的張數(shù),能夠容易地調(diào)節(jié)從基板S側(cè)到達(dá)排氣口 15a的排氣傳導(dǎo)性。
[0077]控制部
[0078]如圖1所示,干燥裝置100的各構(gòu)成部成為連接于控制部6而被控制的結(jié)構(gòu)??刂撇?包括具有CPU的控制器61、用戶接口 62以及存儲(chǔ)部63。控制器61具有計(jì)算機(jī)功能,在干燥裝置100中整體地控制各構(gòu)成部。用戶接口 62由為了供工序管理者管理干燥裝置100而進(jìn)行命令的輸入操作等的鍵盤、可視化地顯示干燥裝置100的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的顯示器等構(gòu)成。在存儲(chǔ)部63中保存有用于利用控制器61的控制來實(shí)現(xiàn)由干燥裝置100執(zhí)行的各種處理的控制程序(軟件)、記錄有處理?xiàng)l件數(shù)據(jù)等的制程程序。用戶接口 62和存儲(chǔ)部63連接于控制器61。
[0079]而且,通過根據(jù)需要利用來自用戶接口 62的指示等從存儲(chǔ)部63調(diào)出任意的制程程序并使控制器61執(zhí)行,能夠在控制器61的控制下在干燥裝置100中進(jìn)行期望的處理。上述控制程序、處理?xiàng)l件數(shù)據(jù)等的制程程序可以利用存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)能夠讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)、例如CD - ROM、硬盤、軟磁盤、閃存器等中的狀態(tài)的程序?;蛘?,也可以從其他裝置通過例如專用線路隨時(shí)傳送而在線利用。
_0]溶劑脫離裝置
[0081]在本實(shí)施方式的干燥裝置100中,溶劑收集部5作為用于使利用各收集板50收集的溶劑再次氣化而自收集板50脫離的溶劑脫離裝置,包括利用熱電轉(zhuǎn)換元件而調(diào)節(jié)收集板50的溫度的溫度調(diào)節(jié)裝置7。
[0082]溫度調(diào)節(jié)裝置7包括多個(gè)珀?duì)柼?1、用于向各珀?duì)柼?1供給直流電流的電源部73、以及將電源部73和各珀?duì)柼?1電連接且向各珀?duì)柼?1供電的多個(gè)供電線75 (圖1僅圖示兩根)。各珀?duì)柼?1構(gòu)成為能夠在例如-20°C?80°C的范圍內(nèi)控制溫度。圖1圖示了除珀?duì)柼?1之外的溫度調(diào)節(jié)裝置7的結(jié)構(gòu),圖2僅圖示了溫度調(diào)節(jié)裝置7的結(jié)構(gòu)中的珀?duì)柼?1。此外,圖3及圖4用虛擬線例示了珀?duì)柼?1的安裝位置。
[0083]如圖2?圖4所示,珀?duì)柼?1固定在各收集板50的多處。各珀?duì)柼?1為了能夠在與收集板50之間進(jìn)行熱交換而與收集板50面接觸。溫度調(diào)節(jié)裝置7通過自電源部73向珀?duì)柼?1供電,能夠使珀?duì)柼?1的下表面?zhèn)劝l(fā)熱,利用導(dǎo)熱來將收集板50加熱。通過將收集板50加熱,能夠使利用各收集板50收集的溶劑再次氣化,并使其自收集板50迅速地脫離。因而,利用溫度調(diào)節(jié)裝置7能夠縮短溶劑收集部5的更新時(shí)間。
[0084]另外,作為溶劑脫離裝置,能夠使用例如電阻加熱型加熱器、熱泵等加熱裝置來替代采用珀?duì)柼?1的溫度調(diào)節(jié)裝置7。
[0085]收集促進(jìn)裝置
[0086]在本實(shí)施方式的干燥裝置100中,溶劑收集部5為了提高各收集板50的溶劑收集效率而包括用于促進(jìn)溶劑附著于收集板50的收集促進(jìn)裝置。在此,作為收集促進(jìn)裝置,能夠利用溫度調(diào)節(jié)裝置7。像上述那樣,溫度調(diào)節(jié)裝置7具有作為熱電轉(zhuǎn)換元件的珀?duì)柼?1。通過使從電源部73向各珀?duì)柼?1供給的電流的極性逆轉(zhuǎn),能夠使珀?duì)柼?1的下表面?zhèn)任鼰?,將面接觸的收集板50冷卻。通過將收集板50冷卻,處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑在收集板50的表面易于結(jié)露,因此,能夠提高溶劑收集部5的溶劑收集效率。
[0087]另外,也可以相對(duì)于作為溶劑脫離裝置的加熱用的珀?duì)柼?1另外設(shè)置冷卻專用的珀?duì)柼碜鳛槭占龠M(jìn)裝置,并且,也可以配備例如冷風(fēng)裝置、熱泵等冷卻裝置來替代珀?duì)柼?br> [0088]干燥處理的步驟
[0089]接著,說明利用像以上那樣構(gòu)成的干燥裝置100進(jìn)行的干燥處理的步驟。首先,作為前階段,利用外部的噴墨印刷裝置(省略圖示)以規(guī)定的圖案在基板S上印刷有機(jī)材料膜。接著,打開閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)將印刷有有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置100的載置臺(tái)3。
[0090]接著,關(guān)閉干燥裝置100的閘閥GV,使排氣裝置19工作而對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣。然后,在利用壓力計(jì)25監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力的同時(shí),控制APC閥23的開度而減壓至規(guī)定的真空度。這樣,能夠?qū)嵤⑿纬稍诨錝上的有機(jī)材料膜中所含有的溶劑除去的干燥處理。在該干燥處理之前、或者干燥處理的期間內(nèi),例如通過利用作為收集促進(jìn)裝置的溫度調(diào)節(jié)裝置7將溶劑收集部5的收集板50冷卻,能夠高效地收集處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑。
[0091]接著,將排氣裝置19停止,使處理容器I內(nèi)升壓至規(guī)定壓力之后,打開干燥裝置100的閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)從處理容器I搬出基板S。利用以上的步驟,完成對(duì)I張基板S進(jìn)行的干燥處理。
[0092]完成了干燥處理之后,在使排氣裝置19工作的狀態(tài)下,利用作為溶劑脫離裝置的溫度調(diào)節(jié)裝置7將溶劑收集部5的收集板50加熱來進(jìn)行更新處理。利用該更新處理能夠使附著在收集板50上的溶劑氣化而迅速地從處理容器I內(nèi)排出。
[0093]應(yīng)用于有機(jī)EL元件的制造工藝的例子
[0094]就有機(jī)EL元件的制造而言,在陽極和陰極之間作為EL層形成多個(gè)有機(jī)功能膜。本實(shí)施方式的干燥裝置100能夠應(yīng)用于制造任何層疊構(gòu)造的有機(jī)EL元件。在此,列舉制造作為EL層從陽極側(cè)朝向陰極側(cè)具有正穴注入層/正穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層/電子注入層的有機(jī)EL元件的情況的例子來說明利用干燥裝置100進(jìn)行的具體的處理。
[0095]圖5表示有機(jī)EL元件的制造工序的概略。在本例子中,利用STEPl?STEP8的工序制造有機(jī)EL元件。在STEPl中,利用例如蒸鍍法等以規(guī)定的圖案在基板S上形成陽極(像素電極)。接著,在STEP2中,在陽極之間形成利用絕緣物形成的分隔壁(堤)。作為用于形成分隔壁的絕緣材料,例如能夠使用感光性聚酰亞胺樹脂等高分子材料。
[0096]接著,在STEP3中,在STEPl中形成的陽極上形成正穴注入層。首先,利用噴墨印刷法在被各分隔壁劃分的陽極上印刷成為正穴注入層的材料的有機(jī)材料。接著,使用干燥裝置100對(duì)這樣印刷而成的有機(jī)材料膜進(jìn)行用于除去溶劑的減壓干燥處理。接著,通過將干燥處理后的基板S移送到烘焙裝置而在大氣中進(jìn)行烘焙處理,形成正穴注入層。
[0097]接著,在STEP4中,在STEP3中形成的正穴注入層上形成正穴輸送層。首先,利用噴墨印刷法在正穴注入層上印刷成為正穴輸送層的材料的有機(jī)材料。使用干燥裝置100對(duì)這樣印刷而成的有機(jī)材料膜進(jìn)行用于除去溶劑的減壓干燥處理。接著,通過將干燥處理后的基板S移送到烘焙裝置而在大氣中進(jìn)行烘焙處理,形成正穴輸送層。
[0098]接著,在STEP5中,在STEP4中形成的正穴輸送層上形成發(fā)光層。首先,利用噴墨印刷法在正穴輸送層上印刷成為發(fā)光層的材料的有機(jī)材料。使用干燥裝置100對(duì)這樣印刷而成的有機(jī)材料膜進(jìn)行用于除去溶劑的減壓干燥處理。接著,通過將干燥處理后的基板S移送到烘焙裝置在大氣中進(jìn)行烘焙處理,形成發(fā)光層。另外,在發(fā)光層由多層構(gòu)成的情況下,重復(fù)上述處理。
[0099]接著,通過利用例如蒸鍍法在發(fā)光層上依次形成電子輸送層(STEP6)、電子注入層(STEP7)以及陰極(STEP8),從而能夠得到有機(jī)EL元件。
[0100]在這樣的有機(jī)EL元件的制造工藝中,干燥裝置100能夠優(yōu)選地應(yīng)用于STEP3 (形成正穴注入層)、STEP4 (形成正穴輸送層)及STEP5 (形成發(fā)光層)。即,在利用噴墨印刷法印刷了作為各層的前階段的有機(jī)材料膜之后,能夠使用干燥裝置100對(duì)有機(jī)材料膜進(jìn)行減壓干燥處理。在這種情況下,由于干燥裝置100包括溶劑收集部5,能夠使處理容器I內(nèi)的溶劑液化而將其收集,因此,即使在高真空狀態(tài)下也能夠在短時(shí)間內(nèi)獲得優(yōu)異的溶劑收集效率。此外,干燥裝置100通過利用溫度調(diào)節(jié)裝置7作為收集促進(jìn)裝置,能夠進(jìn)一步提高溶劑的收集效率,進(jìn)一步縮短干燥處理時(shí)間。
[0101]此外,由于干燥裝置100包括作為溶劑脫離裝置的溫度調(diào)節(jié)裝置7,因此,通過將溶劑收集部5的收集板50加熱,能夠在短時(shí)間內(nèi)將附著的溶劑除去(進(jìn)行更新處理)。
[0102]通過像以上那樣使用干燥裝置100,能夠以高生產(chǎn)率高效地進(jìn)行有機(jī)EL元件的制造工藝中的為了形成EL層所需要的干燥工序。
[0103]第2實(shí)施方式
[0104]接著,參照?qǐng)D6?圖8說明本發(fā)明的第2實(shí)施方式的干燥裝置。圖6是表示第2實(shí)施方式的干燥裝置101的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖7是表示圖6中的溶劑收集部的主要部分剖視圖。作為與第I實(shí)施方式的干燥裝置100的主要的不同點(diǎn),在本實(shí)施方式的干燥裝置101中,在溶劑收集部中包括氣體噴射裝置8。下面,以與第I實(shí)施方式的干燥裝置100的不同點(diǎn)為中心進(jìn)行說明,在本實(shí)施方式的干燥裝置101中,對(duì)與第I實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說明。
[0105]本實(shí)施方式的干燥裝置101包括能夠抽成真空的處理容器1、用于在處理容器I內(nèi)支承基板S的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3、以及與支承在載置臺(tái)3上的基板S相對(duì)地設(shè)置且用于收集自有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑的溶劑收集部5A。此外,溶劑收集部5A還包括用于使收集的溶劑脫離的作為溶劑脫離裝置的氣體噴射裝置8。
[0106]在本實(shí)施方式的干燥裝置101中,處理容器1、載置臺(tái)3、壓力控制機(jī)構(gòu)、擋板31以及控制部6的結(jié)構(gòu)與第I實(shí)施方式的干燥裝置100是同樣的。
[0107]溶劑收集部
[0108]溶劑收集部5A用于收集自形成在基板S上的有機(jī)材料膜中揮發(fā)的溶劑。也就是說,溶劑收集部5A通過使從有機(jī)材料膜中氣化的氣體狀的溶劑結(jié)露而將其收集,使處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑濃度降低。溶劑收集部5A包括與載置在載置臺(tái)3上的基板S相對(duì)且與該基板S的表面大致平行地配置的I張或者多張金屬制的收集板50。收集板50的結(jié)構(gòu)與第I實(shí)施方式是同樣的。
[0109]溶劑脫離裝置
[0110]如圖7所示,在本實(shí)施方式的干燥裝置101中,溶劑收集部5A作為用于使利用各收集板50收集的溶劑再次氣化而自收集板50脫離的溶劑脫離裝置包括氣體噴射裝置8。
[0111]氣體噴射裝置8包括多個(gè)氣體噴出部81 (僅圖示兩個(gè))、向各氣體噴出部81供給氣體的氣體供給源83、以及連接氣體供給源83和各氣體噴出部81且用于向各氣體噴出部81供給氣體的多個(gè)配管85。在氣體噴出部81中設(shè)有多個(gè)噴嘴81a。此外,氣體噴射裝置8在配管85的中途還包括用于控制氣體流量的質(zhì)量流量控制器(MFC)87、以及一個(gè)或多個(gè)開閉閥89 (僅圖示一個(gè))。利用質(zhì)量流量控制器87和開閉閥89能夠控制從氣體噴出部81的噴射的氣體的流量、噴射速度等。
[0112]多個(gè)氣體噴出部81設(shè)置在能夠朝向各收集板50噴射氣體的位置。例如,氣體噴出部81以包圍呈矩形的收集板50的方式設(shè)在側(cè)方4處。
[0113]作為從氣體供給源83供給的氣體,例如優(yōu)選采用氮?dú)?、氦氣等非活性氣體、干燥空氣等。通過從氣體噴出部81的噴嘴81a朝向收集板50噴射氣體,能夠使利用各收集板50收集的溶劑再次氣化,使其自收集板50迅速地脫離。因而,利用氣體噴射裝置8能夠縮短溶劑收集部5A的更新時(shí)間。此外,通過使用氣體噴射裝置8向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入氣體,在處理容器I內(nèi)產(chǎn)生氣流,因此,能夠促進(jìn)將滯留在處理容器I內(nèi)的溶劑排出。
[0114]奪形例
[0115]接著,參照?qǐng)D8說明第2實(shí)施方式的干燥裝置101的變形例。本變形例的干燥裝置1lA在氣體噴射裝置8A的配管85的中途包括換熱器90。利用換熱器90能夠在例如(TC?50°C的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)從氣體供給源83供給來的氣體的溫度。
[0116]在本變形例的干燥裝置1lA中,例如利用換熱器90能夠使從氣體噴出部81噴射的氣體的溫度高于室溫(25°C)。通過從氣體噴出部81的噴嘴81a噴射加熱了的氣體,能夠?qū)⑹占?0加熱,能夠提高溶劑自收集板50的脫離效率。即,能夠獲得通過噴射氣體而得到的氣化促進(jìn)效果以及通過加熱收集板50而得到的氣化促進(jìn)效果。在這種情況下,能夠使氣體噴射裝置8A作為將收集板50加熱的加熱裝置發(fā)揮功能。
[0117]此外,在本變形例的干燥裝置1lA中,除了氣體噴射裝置8A的氣體噴出部81之外還包括多個(gè)輔助噴出部91。輔助噴出部91具有未圖示的多個(gè)噴嘴。多個(gè)輔助噴出部91分別利用配管85與氣體供給源83相連接,在各配管85的中途包括用于控制氣體流量的質(zhì)量流量控制器(MFC)87、以及一個(gè)或多個(gè)開閉閥89。輔助噴出部91構(gòu)成為能夠朝向在處理容器I內(nèi)溶劑易于發(fā)生結(jié)露的部位、例如處理容器I的8個(gè)角部、頂部15、側(cè)壁13、底壁11的內(nèi)側(cè)、閘閥GV的內(nèi)側(cè)、波紋管(省略圖示)等局部地噴射氣體。利用輔助噴出部91能夠使附著在除溶劑收集部5A之外的部位的溶劑迅速地氣化,促進(jìn)將其排出到處理容器I之外。因而,能夠在短時(shí)間內(nèi)降低處理容器I內(nèi)的溶劑量,提高基板S的干燥處理的生產(chǎn)率。
[0118]此外,在本變形例的干燥裝置1lA中,利用換熱器90能夠?qū)臍怏w供給源83供給來的氣體的溫度調(diào)節(jié)得低于室溫(25°C)。因此,在本變形例中,能夠利用氣體供給裝置8A作為收集促進(jìn)裝置。在這種情況下,能夠使氣體噴射裝置8A作為將收集板50冷卻的冷卻裝置發(fā)揮功能。即,為了提高溶劑收集部5A的各收集板50的溶劑收集效率,從氣體噴出部81向收集板50噴射冷卻氣體,能夠?qū)⑹占?0冷卻。例如,通過在干燥處理之前從氣體噴出部81的噴嘴81a噴射冷卻氣體,預(yù)先將收集板50冷卻,在干燥處理時(shí),處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑在收集板50的表面易于結(jié)露。因而,能夠提高溶劑收集部5A的溶劑收集效率。
[0119]干燥處理的步驟
[0120]接著,說明利用像以上那樣構(gòu)成的干燥裝置101U01A進(jìn)行的干燥處理的步驟。首先,作為前階段,利用外部的噴墨印刷裝置(省略圖示)以規(guī)定的圖案在基板S上印刷有機(jī)材料膜。接著,打開閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)將印刷有有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置101、1lA的載置臺(tái)3。
[0121]在使用變形例的干燥裝置1lA的情況下,優(yōu)選在將基板S搬入到處理容器I內(nèi)之前,從作為收集促進(jìn)裝置的氣體噴射裝置8A的氣體噴出部81向溶劑收集部5A噴射冷卻氣體,預(yù)先將溶劑收集部5A冷卻。通過預(yù)先將溶劑收集部5A冷卻,在下一個(gè)減壓干燥處理過程中能夠高效地收集處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑。
[0122]接著,關(guān)閉干燥裝置101、1lA的閘閥GV,使排氣裝置19工作而對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣。然后,在利用壓力計(jì)25監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力的同時(shí),控制APC閥23的開度而減壓至規(guī)定的真空度。這樣,能夠?qū)嵤⑿纬稍诨錝上的有機(jī)材料膜中所含有的溶劑除去的干燥處理。另外,在使用變形例的干燥裝置1lA的情況下,也可以在干燥處理的期間內(nèi)從氣體噴射裝置8A的氣體噴出部81向溶劑收集部5A繼續(xù)噴射冷卻氣體。
[0123]接著,將排氣裝置19停止,使處理容器I內(nèi)升壓至規(guī)定壓力之后,打開干燥裝置101U01A的閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)從處理容器I搬出基板S。利用以上的步驟,完成對(duì)I張基板S進(jìn)行的干燥處理。
[0124]完成了干燥處理之后,在使排氣裝置19工作的狀態(tài)下,通過從作為溶劑脫離裝置的氣體噴射裝置8、8A的氣體噴出部81向收集板50噴射氣體來進(jìn)行更新處理。利用該更新處理能夠使附著在收集板50上的溶劑氣化而迅速地從處理容器I內(nèi)排出。在此,在使用變形例的干燥裝置1lA的情況下,通過利用換熱器90將從氣體噴出部81噴射的氣體加熱,能夠使收集板50的溫度上升,因此,能夠進(jìn)一步高效地使溶劑脫離。
[0125]本實(shí)施方式的其他的結(jié)構(gòu)和效果與第I實(shí)施方式是同樣的。此外,干燥裝置101、1lA與第I實(shí)施方式同樣能夠應(yīng)用于有機(jī)EL元件的制造工藝。
[0126]第3實(shí)施方式
[0127]接著,參照?qǐng)D9?圖11說明本發(fā)明的第3實(shí)施方式的干燥裝置。圖9是表示第3實(shí)施方式的干燥裝置102的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖10及圖11是表示本實(shí)施方式的干燥裝置102的溶劑收集部的結(jié)構(gòu)例的圖。下面,以與第I實(shí)施方式的干燥裝置100的不同點(diǎn)為中心進(jìn)行說明,在本實(shí)施方式的干燥裝置102中,對(duì)與第I實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說明。
[0128]本實(shí)施方式的干燥裝置102包括能夠抽成真空的處理容器1、用于在處理容器I內(nèi)支承基板S的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3、以及與支承在載置臺(tái)3上的基板S相對(duì)地設(shè)置且用于收集自有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑的溶劑收集部5B。
[0129]溶劑收集部
[0130]本實(shí)施方式的干燥裝置102的溶劑收集部5B用于收集自形成在基板S上的有機(jī)材料膜中揮發(fā)的溶劑。溶劑收集部5B通過使從有機(jī)材料膜中氣化的氣體狀的溶劑結(jié)露而將其收集,使處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑濃度降低。在本實(shí)施方式中,溶劑收集部5B具有溶劑收集構(gòu)件110。溶劑收集構(gòu)件110整體呈厚板狀,其與載置在載置臺(tái)3上的基板S相對(duì)且與該基板S的表面大致平行地配置。溶劑收集構(gòu)件110在其內(nèi)部具有供熱介質(zhì)流通的流路111。在本實(shí)施方式中,溶劑收集部5B還具有用于支承溶劑收集構(gòu)件110的支承部112。溶劑收集構(gòu)件110利用支承部112支承于處理容器I的頂部15。
[0131]溶劑收集構(gòu)件110的材質(zhì)優(yōu)選為例如以熱導(dǎo)率較大的鋁、不銹鋼等金屬為首的導(dǎo)熱性材料(例如25°C下的熱導(dǎo)率為1W / mK以上的材料)。溶劑收集構(gòu)件110也可以是例如在中空狀的較淺的箱內(nèi)內(nèi)置有成為流路111的配管的構(gòu)造。此外,溶劑收集構(gòu)件110也可以是層疊多張金屬板而構(gòu)成的,為通過在該金屬板中設(shè)置槽、開口而形成有流路111的構(gòu)造。
[0132]流路111連接于溫控(日文:子9 一)單元113。溫控單元113具有例如加熱用熱介質(zhì)供給源(HOT) 115、冷卻用熱介質(zhì)供給源(COOL) 117。溫控單元113經(jīng)由多個(gè)配管連接于溶劑收集構(gòu)件110的流路111。在圖9中,代表性地圖示了用于向流路111導(dǎo)入熱介質(zhì)的導(dǎo)入用配管119A和用于使來自流路111的熱介質(zhì)循環(huán)的循環(huán)用配管119B這兩根配管。雖省略圖示,但在這些配管的中途設(shè)有多個(gè)開閉閥。溫控單元113構(gòu)成為能夠從加熱用熱介質(zhì)供給源(H0T)115或者冷卻用熱介質(zhì)供給源(C00U117經(jīng)由導(dǎo)入用配管119A向溶劑收集構(gòu)件110的流路111供給加熱或者冷卻了的熱介質(zhì),經(jīng)由循環(huán)用配管119B再次使熱介質(zhì)向溫控單元113循環(huán)。作為熱介質(zhì),能夠使用例如Galden (注冊(cè)商標(biāo))等氟系熱介質(zhì)、水等。
[0133]圖10是表示形成在溶劑收集構(gòu)件110中的流路111的結(jié)構(gòu)例的俯視圖。在本結(jié)構(gòu)例中,在溶劑收集構(gòu)件110的內(nèi)部形成有I條蜿蜒曲折的流路111。在流路111的兩端設(shè)有連接于導(dǎo)入用配管119A的導(dǎo)入部121和連接于循環(huán)用配管119B的排出部123。在本結(jié)構(gòu)例中,通過在加熱用熱介質(zhì)供給源(HOT)115和冷卻用熱介質(zhì)供給源(COOL)117之間對(duì)從溫控單元113向?qū)氩?21供給熱介質(zhì)的情況進(jìn)行切換,能夠?qū)⑷軇┦占瘶?gòu)件110迅速地加熱或者冷卻。
[0134]在溶劑收集構(gòu)件110中,流路111并不限定為I條,也可以被劃分為多個(gè)部分。圖11表示形成在溶劑收集構(gòu)件I1中的流路111的另一個(gè)結(jié)構(gòu)例。在本結(jié)構(gòu)例中,形成為漩渦狀的兩條流路111A、11IB配設(shè)成內(nèi)外兩層。內(nèi)側(cè)的流路11IA是溶劑收集構(gòu)件110的中央部分,而且形成在與載置于載置臺(tái)3的基板S的中央部相對(duì)的區(qū)域中。在內(nèi)側(cè)的流路IllA的兩端設(shè)有連接于熱介質(zhì)的導(dǎo)入用配管的導(dǎo)入部121A和連接于熱介質(zhì)的循環(huán)用配管的排出部123A。外側(cè)的流路IllB是溶劑收集構(gòu)件110的周緣部分,而且形成在與載置于載置臺(tái)3的基板S的周緣部相對(duì)的區(qū)域中。在外側(cè)的流路IllB的兩端設(shè)有連接于熱介質(zhì)的導(dǎo)入用配管的導(dǎo)入部121B和連接于熱介質(zhì)的循環(huán)用配管的排出部123B。通過從溫控單元113的加熱用熱介質(zhì)供給源(HOT)115或者冷卻用熱介質(zhì)供給源(COOU117經(jīng)由導(dǎo)入部121A向流路11IA供給加熱或者冷卻了的熱介質(zhì),能夠控制溶劑收集構(gòu)件110的中央部分的溫度。此外,通過從溫控單元113的加熱用熱介質(zhì)供給源(ΗΟ?115或者冷卻用熱介質(zhì)供給源(COOL)117經(jīng)由導(dǎo)入部121B向流路IllB供給加熱或者冷卻了的熱介質(zhì),能夠控制溶劑收集構(gòu)件110的周緣部分的溫度。這樣,在圖11所示的結(jié)構(gòu)例中,通過從溫控單元113獨(dú)立地向形成為內(nèi)外兩層的流路111A、11IB供給進(jìn)行了溫度調(diào)節(jié)的熱介質(zhì),能夠獨(dú)立地控制溶劑收集構(gòu)件110的中央部分和周緣部分的溫度。
[0135]另外,流路111也可以被劃分為3個(gè)以上。此外,溶劑收集構(gòu)件110中的流路111的形狀、配置并不限定于圖10及圖11所例示的形態(tài)。
[0136]如圖9所示,本實(shí)施方式的干燥裝置102在處理容器I中具有與溶劑收集部5B接近地設(shè)置的作為第I排氣口的排氣口 15a、以及與該排氣口 15a相對(duì)地設(shè)置的作為第2排氣口的多個(gè)排氣口 11a。排氣口 15a形成在處理容器I的頂部15。排氣口 15a經(jīng)由排氣管17連接于外部的排氣裝置19。在排氣管17的中途設(shè)有APC閥23和未圖示的開閉閥。由于排氣口 15a與溶劑收集部5B接近地設(shè)置,因此,通過使排氣裝置19工作,能夠?qū)⑹占谌軇┦占?B的溶劑迅速地排出到處理容器I之外。
[0137]多個(gè)排氣口 Ila形成在處理容器I的底壁11。干燥裝置102還包括連接各排氣口 Ila和排氣裝置19的排氣管131、以及設(shè)于各排氣管131的中途的APC閥133和未圖示的開閉閥。在干燥裝置102中,多個(gè)排氣口 Ila經(jīng)由排氣管131連接于外部的排氣裝置19。而且,干燥裝置102構(gòu)成為通過使排氣裝置19工作,并且調(diào)節(jié)APC閥23、133的開度,能夠?qū)⑻幚砣萜鱅內(nèi)減壓排氣至規(guī)定的真空度、例如0.1Pa左右的壓力。
[0138]另外,排氣管17和排氣管131也可以分別連接于各個(gè)排氣裝置。
[0139]本實(shí)施方式的干燥裝置102在構(gòu)成處理容器I的底壁11、偵彳壁13以及頂部15的壁內(nèi)分別形成有供熱介質(zhì)流通的流路llb、13b、15b。各流路llb、13b、15b分別經(jīng)由多個(gè)配管連接于溫控單元113。在底壁11的流路Ilb上連接有用于導(dǎo)入來自溫控單元113的熱介質(zhì)的導(dǎo)入用配管135A、以及用于使流路Ilb內(nèi)的熱介質(zhì)向溫控單元113循環(huán)的循環(huán)用配管135B。在側(cè)壁13的流路13b上連接有用于導(dǎo)入來自溫控單元113的熱介質(zhì)的導(dǎo)入用配管137A、以及用于使流路13b內(nèi)的熱介質(zhì)向溫控單元113循環(huán)的循環(huán)用配管137B。在頂部15的流路15b上連接有用于導(dǎo)入來自溫控單元113的熱介質(zhì)的導(dǎo)入用配管139A、以及用于使流路15b內(nèi)的熱介質(zhì)向溫控單元113循環(huán)的循環(huán)用配管139B。
[0140] 這樣,在本實(shí)施方式的干燥裝置102中,構(gòu)成為能夠從溫控單元113向各流路lib、13b、15b內(nèi)獨(dú)立地供給加熱或者冷卻了的熱介質(zhì),能夠獨(dú)立地調(diào)節(jié)處理容器I的底壁11、側(cè)壁13以及頂部15的溫度。由此,能夠高效地對(duì)基板S的有機(jī)材料膜進(jìn)行干燥處理、以及自包含溶劑收集部5B的處理容器I內(nèi)除去溶劑(更新處理)。例如在對(duì)基板S的有機(jī)材料膜進(jìn)行干燥處理之前以及干燥處理的期間內(nèi),通過向流路llb、13b、15b內(nèi)供給冷卻了的熱介質(zhì),能夠?qū)⒌妆?1、側(cè)壁13以及頂部15冷卻而促進(jìn)溶劑附著于這些壁面。其結(jié)果,能夠降低處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑濃度,促進(jìn)溶劑自基板S的有機(jī)材料膜揮發(fā)。此外,在干燥處理之后進(jìn)行更新處理時(shí),通過向流路llb、13b、15b內(nèi)供給加熱了的熱介質(zhì),能夠?qū)⒌妆?br> 11、側(cè)壁13以及頂部15加熱,促進(jìn)附著在這些壁面上的溶劑脫離。其結(jié)果,能夠提高溶劑自包含溶劑收集部5B的處理容器I內(nèi)的排出效率,縮短更新處理的時(shí)間。
[0141]另外,也可以以從外側(cè)覆蓋處理容器I的方式在處理容器I的外部配備例如夾套式的換熱器,來替代向流路lib、13b、15b供給熱介質(zhì)。
[0142]此外,本實(shí)施方式的干燥裝置102還包括用于測(cè)量處理容器I內(nèi)的溫度和溶劑蒸汽的濃度的傳感器部141。傳感器部141具有用于測(cè)量處理容器I內(nèi)的氣氛的溫度的溫度傳感器、以及用于測(cè)量處理容器I內(nèi)的氣氛的溶劑濃度的濃度傳感器。濃度傳感器只要是能夠測(cè)量氣相中的溶劑濃度的傳感器即可,能夠利用例如電容型、電阻型等的傳感器。利用傳感器部141能夠監(jiān)視處理容器I內(nèi)的氣氛的溫度和溶劑濃度。例如通過在干燥處理的期間內(nèi)利用傳感器部141測(cè)量處理容器I內(nèi)的溫度和溶劑蒸汽的濃度,能夠間接地把握基板S表面的有機(jī)材料膜的干燥程度、溶劑收集部5B的溶劑的收集狀態(tài)等。此外,在干燥處理之后,通過利用傳感器部141測(cè)量處理容器I內(nèi)的溫度和溶劑蒸汽的濃度,能夠把握更新處理后的溶劑收集部5B中的溶劑的殘留量、處理容器I內(nèi)的溶劑的殘留量。此外,利用傳感器部141監(jiān)視處理容器I內(nèi)的溫度和溶劑蒸汽的濃度在干燥處理的前后將處理容器I內(nèi)維持在相同的條件的目的上是有效的。因而,通過在控制部6的控制下利用傳感器部141監(jiān)視處理容器I內(nèi)的氣氛的溫度和溶劑濃度,在向干燥裝置102的處理容器I內(nèi)依次替換多個(gè)基板S而進(jìn)行干燥處理的情況下,能夠謀求多個(gè)基板S之間的處理的均勻化。
[0143]此外,本實(shí)施方式的干燥裝置102在作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3中還具有加熱器143。加熱器143是例如電阻加熱型的加熱器,通過從處理容器I的外部的電源部145供電,能夠?qū)⑤d置臺(tái)3和載置在該載置臺(tái)3上的基板S加熱到規(guī)定溫度。在干燥處理的期間內(nèi),通過利用加熱器143將基板S加熱,能夠高效地使涂敷在基板S的表面上的有機(jī)材料膜中的溶劑蒸發(fā),并縮短干燥處理的時(shí)間。
[0144]在本實(shí)施方式的干燥裝置102中,控制部6的結(jié)構(gòu)與第I實(shí)施方式的干燥裝置100是同樣的。
[0145]干燥處理的步驟
[0146]接著,參照?qǐng)D12說明利用干燥裝置102進(jìn)行的干燥處理的步驟。圖12是表示在干燥裝置102中對(duì)多個(gè)基板S進(jìn)行的干燥處理的步驟的一例子的時(shí)序圖。在圖12中表示了將基板S依次替換到處理容器I內(nèi)而進(jìn)行的兩次干燥處理、以及在這些干燥處理的期間內(nèi)進(jìn)行的處理容器I和溶劑收集部5B的更新處理。在圖12中,橫軸的tl?t7表示時(shí)間,在從tl到t2的期間內(nèi)對(duì)第I張基板S進(jìn)行第I次干燥處理,在從t6到t7的期間內(nèi)對(duì)第2張基板S進(jìn)行第2次干燥處理。在完成了第I次干燥處理的從t2到t6的期間內(nèi)進(jìn)行更新處理。另外,在圖12中,“上部排氣”的意思是指從接近溶劑收集部5B的頂部15的排氣口 15a進(jìn)行排氣,“下部排氣”的意思是指從底壁11的多個(gè)排氣口 Ila進(jìn)行排氣。
[0147]首先,作為前階段,利用外部的噴墨印刷裝置(省略圖示)以規(guī)定的圖案在基板S上印刷有機(jī)材料膜。接著,打開閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)將印刷有有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置102的載置臺(tái)3。
[0148]接著,在tl時(shí),關(guān)閉干燥裝置102的閘閥GV,使排氣裝置19工作而對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣。然后,在利用壓力計(jì)25監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力的同時(shí),控制APC閥133的開度而減壓至規(guī)定的真空度。這樣,能夠?qū)嵤⑿纬稍诨錝上的有機(jī)材料膜中所含有的溶劑除去的干燥處理。在該干燥處理之前、或者干燥處理的期間內(nèi),例如通過向溶劑收集部5B的溶劑收集構(gòu)件110的流路111中流入冷卻用熱介質(zhì)來進(jìn)行冷卻,能夠高效地使處理容器I內(nèi)的氣氛中的溶劑附著于溶劑收集構(gòu)件110并進(jìn)行收集。此外,在從tl到t2的干燥處理的期間內(nèi),通過向載置臺(tái)3的加熱器143通電而將基板S加熱,能夠促進(jìn)有機(jī)材料膜中的溶劑蒸發(fā),并縮短干燥時(shí)間。另外,在從tl到t2的干燥處理的期間內(nèi),也可以通過從溫控單元113向處理容器I的底壁11、側(cè)壁13以及頂部15的流路I lb、13b、15b中流入冷卻了的熱介質(zhì)來進(jìn)行冷卻,促進(jìn)溶劑附著于處理容器I的壁。此外,在從tl到t2的干燥處理的期間內(nèi),也可以利用傳感器部141監(jiān)視處理容器I內(nèi)的氣氛中的溫度和溶劑濃度,基于該結(jié)果,從控制部6向排氣裝置19、APC閥133發(fā)送控制信號(hào),實(shí)時(shí)地控制來自處理容器I內(nèi)的排氣量、處理容器I內(nèi)的壓力。同樣,在從tl到t2的干燥處理的期間內(nèi),也可以基于傳感器部141的監(jiān)視結(jié)果,從控制部6向電源部145發(fā)送控制信號(hào),實(shí)時(shí)地控制利用加熱器143對(duì)基板S進(jìn)行加熱的溫度。
[0149]接著,在t2時(shí),將排氣裝置19停止,使處理容器I內(nèi)升壓至大氣壓之后,打開干燥裝置102的閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)從處理容器I搬出基板S。利用以上的步驟,完成對(duì)I張基板S進(jìn)行的干燥處理。
[0150]在完成了干燥處理之后,從t2開始一邊使排氣裝置19工作而從排氣口 15a進(jìn)行上部排氣一邊將溶劑收集部5B的溶劑收集構(gòu)件110和處理容器I加熱來進(jìn)行更新處理。利用該更新處理,能夠高效地使附著在溶劑收集構(gòu)件110、處理容器I的壁上的溶劑氣化而從處理容器I內(nèi)迅速地排出。具體地講,在從自t2稍稍延后的t3到t4的期間內(nèi),通過從溫控單元113向溶劑收集構(gòu)件110的流路111中流入加熱了的熱介質(zhì)并進(jìn)行加熱,促進(jìn)附著在溶劑收集構(gòu)件110上的溶劑的氣化而將其排出。此外,在從t3到t5的期間內(nèi),通過從溫控單元113向處理容器I的底壁11、側(cè)壁13以及頂部15的流路I lb、13b、15b中流入加熱了的熱介質(zhì)并進(jìn)行加熱,使附著在處理容器I的壁上的溶劑氣化而促進(jìn)排氣。在這種情況下,在完成了對(duì)溶劑收集構(gòu)件110的加熱的t4之后到t5的期間內(nèi),繼續(xù)加熱處理容器I。在該從t4到t5的期間內(nèi),一邊將處理容器I加熱一邊利用傳感器部141測(cè)量處理容器I內(nèi)的溫度和溶劑濃度,為了對(duì)第2張基板S進(jìn)行處理而調(diào)整處理容器I內(nèi)的條件。這樣,在從t2到t6的期間內(nèi),通過進(jìn)行包含處理容器I內(nèi)的條件調(diào)整的更新處理,能夠使在干燥裝置102中依次對(duì)多個(gè)基板S進(jìn)行干燥處理的情況下的條件一致為恒定,因此,能夠在多個(gè)基板S之間確保干燥狀態(tài)的均勻性。
[0151]在完成了更新處理之后,打開閘閥GV,利用外部的輸送裝置(省略圖示)將印刷有有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置102的載置臺(tái)3。然后,在從t6到t7時(shí),能夠與從tl到t2同樣地對(duì)第2張基板S進(jìn)行干燥處理。
[0152]像以上那樣,能夠在替換處理容器I內(nèi)的基板S的同時(shí),對(duì)規(guī)定張數(shù)的基板S依次進(jìn)行干燥處理。
[0153]本實(shí)施方式的其他的結(jié)構(gòu)和效果與第I實(shí)施方式是同樣的。此外,干燥裝置102與第I實(shí)施方式同樣能夠應(yīng)用于有機(jī)EL元件的制造工藝。
[0154]以上,出于例示的目的詳細(xì)地說明了本發(fā)明的實(shí)施方式,但本發(fā)明并不被限制為上述實(shí)施方式,能夠進(jìn)行各種變形。例如,有機(jī)EL元件的制造工序并不限定于圖5所例示的工序。即使在例如EL層具有從陽極側(cè)朝向陰極側(cè)按照[正穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]、[正穴注入層/正穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]等的順序?qū)盈B的構(gòu)造的有機(jī)EL元件的制造中,也能夠同樣地應(yīng)用本發(fā)明的干燥裝置100、101、101A、102。
[0155]此外,在第I實(shí)施方式的干燥裝置100、第2實(shí)施方式的干燥裝置101、1lA中,能夠與第3實(shí)施方式的干燥裝置102同樣在處理容器I中設(shè)置多個(gè)排氣口。此外,在第I實(shí)施方式的干燥裝置100、第2實(shí)施方式的干燥裝置101U01A中,能夠與第3實(shí)施方式的干燥裝置102同樣設(shè)置用于將處理容器I的底壁11、偵彳壁13以及頂部15加熱或者冷卻的機(jī)構(gòu)。并且,在第I實(shí)施方式的干燥裝置100、第2實(shí)施方式的干燥裝置101、1lA中,能夠與第3實(shí)施方式的干燥裝置102同樣設(shè)置用于測(cè)量處理容器I內(nèi)的溫度和溶劑蒸汽的濃度的傳感器部。并且,在第I實(shí)施方式的干燥裝置100、第2實(shí)施方式的干燥裝置101U01A中,能夠與第3實(shí)施方式的干燥裝置102同樣在作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3中設(shè)置加熱器。
[0156]附圖標(biāo)記說明
[0157]1、處理容器;3、載置臺(tái);5、5A、溶劑收集部;6、控制部;7、溫度調(diào)節(jié)裝置;8、氣體噴射裝置;11、底壁;13、側(cè)壁;15、頂部;15a、排氣口 ;17、排氣管;19、排氣裝置;21、支柱;23、APC閥;25、壓力計(jì);31、擋板;33、支承框;50、收集板;50a、貫通開口 ;61、控制器;62、用戶接口 ;63、存儲(chǔ)部;71、珀?duì)柼?3、電源部;75、供電線;81、氣體噴出部;81a、噴嘴;83、氣體供給源;85、配管;87、質(zhì)量流量控制器;90、換熱器;91、輔助噴出部;100、101、101A、102、干燥裝置;S、基板、GV、閘閥;AF、氣流。
【權(quán)利要求】
1.一種干燥裝置,其除去被涂敷在基板的表面上的有機(jī)材料膜中的溶劑而使有機(jī)材料膜干燥,其特征在于, 該干燥裝置包括能夠抽成真空的處理容器、用于排出上述處理容器內(nèi)的氣體的排氣口、用于在上述處理容器內(nèi)支承上述基板的支承構(gòu)件、以及用于收集自上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑的溶劑收集部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥裝置,其中, 上述溶劑收集部包括與支承在上述支承構(gòu)件上的上述基板相對(duì)地設(shè)置的、具有多個(gè)貫通開口的一張或者多張金屬板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干燥裝置,其中, 在上述溶劑收集部中,上述多張金屬板以互相分開的狀態(tài)與支承在上述支承構(gòu)件上的上述基板平行地層疊配置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干燥裝置,其中, 上述多張金屬板中的至少兩張上述金屬板以上述貫通開口整體在層疊方向上不重合的方式錯(cuò)位地配置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2~4中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 上述金屬板的上述貫通開口的開口率在20%~80%的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2~5中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 上述金屬板的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra在0.3 μ m~13 μ m的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2~6中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 上述金屬板的厚度在0.2mm~2mm的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求2~7中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 在上述金屬板的面內(nèi),上述貫通開口以不均勻的分布方式形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 上述溶劑收集部具有用于使收集的溶劑脫離的溶劑脫離裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的干燥裝置,其中, 上述溶劑脫離裝置是用于加熱上述金屬板的加熱裝置。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的干燥裝置,其中, 上述溶劑脫離裝置是用于向上述金屬板噴射氣體的氣體噴射裝置。
12.根據(jù)權(quán)利要求1~11中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 上述溶劑收集部還具有用于促進(jìn)溶劑的收集的收集促進(jìn)裝置。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的干燥裝置,其中, 上述收集促進(jìn)裝置是用于對(duì)上述金屬板進(jìn)行冷卻的冷卻裝置。
14.根據(jù)權(quán)利要求1~13中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 該干燥裝置在上述溶劑收集部和上述排氣口之間還包括整流構(gòu)件。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥裝置,其中, 上述溶劑收集部具有溶劑收集構(gòu)件,該溶劑收集構(gòu)件在其內(nèi)部具有供熱介質(zhì)流通的流路。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的干燥裝置,其中, 在上述流路上連接有加熱用熱介質(zhì)供給源。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的干燥裝置,其中, 在上述流路上連接有冷卻用熱介質(zhì)供給源。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的干燥裝置,其中, 上述流路被劃分為分別獨(dú)立地供熱介質(zhì)流通的多個(gè)部分。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的干燥裝置,其中, 上述流路具有連接有加熱用熱介質(zhì)供給源的第I流路和連接有冷卻用熱介質(zhì)供給源的第2流路。
20.根據(jù)權(quán)利要求15~19中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 作為上述排氣口,該干燥裝置具有與上述溶劑收集部接近地設(shè)置的第I排氣口和與上述第I排氣口相對(duì)地設(shè)置的第2排氣口。
21.根據(jù)權(quán)利要求15~20中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 該干燥裝置還包括用于測(cè)量上述處理容器內(nèi)的溶劑蒸汽的濃度的傳感器。
22.根據(jù)權(quán)利要求15~21中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 該干燥裝置在構(gòu)成上述處理容器的壁內(nèi)具有供熱介質(zhì)流通的流路。
23.根據(jù)權(quán)利要求15~22中任一項(xiàng)所述的干燥裝置,其中, 上述支承構(gòu)件具有加熱器。
24.一種干燥處理方法,其中, 在權(quán)利要求1~23中任一項(xiàng)所述的干燥裝置的上述處理容器內(nèi)對(duì)涂敷在上述基板的表面上的有機(jī)材料膜進(jìn)行干燥處理。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的干燥處理方法,其中, 上述有機(jī)材料膜在制造有機(jī)EL元件的過程中利用噴墨印刷法涂敷在上述基板上。
【文檔編號(hào)】H01L51/56GK104051674SQ201410097639
【公開日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年3月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月14日
【發(fā)明者】島村明典, 林輝幸, 今田雄, 佐田徹也, 西山淳, 齋藤?gòu)V美, 大田司, 田邊誠(chéng)一 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社, 精工愛普生株式會(huì)社
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