欧美在线观看视频网站,亚洲熟妇色自偷自拍另类,啪啪伊人网,中文字幕第13亚洲另类,中文成人久久久久影院免费观看 ,精品人妻人人做人人爽,亚洲a视频

有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法

文檔序號:7047337閱讀:140來源:國知局
有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法
【專利摘要】提供了一種有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法。該顯示裝置包括:像素限定層,設(shè)置在基板上,其中,像素限定層限定發(fā)射區(qū)域和非發(fā)射區(qū)域;有機發(fā)光器件,設(shè)置在發(fā)射區(qū)域中;突出部分,設(shè)置在非發(fā)射區(qū)域中的像素限定層的一部分上。該顯示裝置還包括設(shè)置在基板上用于密封有機發(fā)光器件和突出部分薄膜包封層,薄膜包封層包括至少一個有機膜和至少一個無機膜,其中,至少一個有機膜對應(yīng)于功能有機膜,功能有機膜的設(shè)置得遠離突出部分的第一上表面的高度比功能有機膜的設(shè)置得靠近突出部分的頂部的第二上表面的高度低。
【專利說明】有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法
[0001] 本申請要求于2013年7月12日提交的第10-2013-0082439號韓國專利申請的權(quán) 益,該申請的全部內(nèi)容通過引用被包含于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002] 本公開涉及一種有機發(fā)光顯示裝置以及一種制造該有機發(fā)光顯示裝置的方法。

【背景技術(shù)】
[0003] 有機發(fā)光顯示裝置包括有機發(fā)光器件(0LED)。0LED通常包括空穴注入電極、電子 注入電極以及設(shè)置在空穴注入電極和電子注入電極之間的有機發(fā)射層。有機發(fā)光顯示裝置 是當激子(當來自空穴注入電極的空穴和來自電子注入電極的電子在有機發(fā)射層中復(fù)合 時產(chǎn)生的)從激發(fā)態(tài)下降到基態(tài)時產(chǎn)生光的自發(fā)射顯示裝置。
[0004] 作為自發(fā)射顯示裝置,有機發(fā)光顯示裝置不需要額外的光源,可以使用低電壓驅(qū) 動,并且可以被構(gòu)造為具有薄且輕的設(shè)計。另外,有機發(fā)光顯示裝置擁有諸如寬視角、高對 比度和快速的響應(yīng)時間的優(yōu)異特性。由于它們的優(yōu)異特性,有機發(fā)光顯示裝置已經(jīng)被認為 是下一代顯示裝置。
[0005] 在傳統(tǒng)有機發(fā)光顯示裝置中,可形成包括有機膜的包封層,以密封設(shè)置在像素限 定層上的突出部分。然而,在傳統(tǒng)發(fā)光顯示裝置中使用的有機膜通常粘度低并且當有機膜 鋪展(spread)時會使突出部分的頂部暴露。在傳統(tǒng)發(fā)光顯示裝置中,為了確保突出部分被 覆蓋/密封,薄膜包封層的厚度可能需要增加。因此,這會導(dǎo)致傳統(tǒng)有機發(fā)光顯示裝置的厚 度增加(即,增厚形成因素)。此外,有機膜材料的加工時間和成本也會增加。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本公開針對于至少解決上述與在像素限定層上具有突出部分的有機發(fā)光器件 (0LED)的包封相關(guān)的問題。
[0007] 根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一些實施例,提供了一種有機發(fā)光顯示裝置。該有機發(fā)光顯示 裝置包括:像素限定層,設(shè)置在基板上,其中,像素限定層限定發(fā)射區(qū)域和非發(fā)射區(qū)域;有 機發(fā)光器件,設(shè)置在發(fā)射區(qū)域中;突出部分,設(shè)置在非發(fā)射區(qū)域中的像素限定層的一部分 上;以及薄膜包封層,設(shè)置在基板上,用于密封有機發(fā)光器件和突出部分,薄膜包封層包括 至少一個有機膜和至少一個無機膜,其中,至少一個有機膜對應(yīng)于功能有機膜,功能有機膜 的設(shè)置得遠離突出部分的第一上表面的高度比功能有機膜的設(shè)置得靠近突出部分的頂部 的第二上表面的高度低。
[0008] 在一些實施例中,功能有機膜可以在靠近突出部分的頂部處具有第一厚度,第一 厚度的值可以等于或大于大約100 A。
[0009] 在一些實施例中,第一厚度可以小于或等于功能有機膜的靠近突出部分的頂部的 平坦部分的厚度。
[0010] 在一些實施例中,突出部分的頂部可以設(shè)置在功能有機膜的第一上表面的上方。 toon] 在一些實施例中,突出部分可以對應(yīng)于設(shè)置在非發(fā)射區(qū)域中的間隔件。
[0012] 在一些實施例中,功能有機膜可以包括光引發(fā)劑。
[0013] 在一些實施例中,功能有機膜可以包括粘度利用光或溫度可調(diào)節(jié)的材料。
[0014] 在一些實施例中,所述有機發(fā)光顯示裝置還可以包括介于有機發(fā)光器件和薄膜包 封層之間的保護層。
[0015] 在一些實施例中,突出部分可以包括外來材料。
[0016] 在一些實施例中,薄膜包封層的最上層可以被暴露,所述最上層可以包括無機膜。
[0017] 在一些實施例中,薄膜包封層的最上層可以被暴露,所述最上層可以包括有機膜。
[0018] 在一些實施例中,有機發(fā)光顯示裝置還可以包括多個功能有機膜,其中,功能有機 膜在靠近突出部分的頂部處具有不同的厚度。
[0019] 根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一些其它實施例,提供了一種制造有機發(fā)光顯示裝置的方法。 該方法包括:在基板上形成像素限定層,其中,像素限定層限定發(fā)射區(qū)域和非發(fā)射區(qū)域;在 發(fā)射區(qū)域中形成有機發(fā)光器件;在非發(fā)射區(qū)域中的像素限定層的部分上形成突出部分;在 基板上形成薄膜包封層,用于密封有機發(fā)光器件和突出部分,薄膜包封層包括至少一個有 機膜和至少一個無機膜,其中,至少一個有機膜對應(yīng)于功能有機膜,功能有機膜的設(shè)置得遠 離突出部分的第一上表面的高度比功能有機膜的設(shè)置得靠近突出部分的頂部的第二上表 面的高度低。
[0020] 在一些實施例中,所述方法還可以包括通過沉積或涂覆液體的預(yù)功能有機膜并且 調(diào)節(jié)液體的預(yù)功能有機膜的粘度來形成功能有機膜。
[0021] 在一些實施例中,調(diào)節(jié)液體的預(yù)功能有機膜的粘度可以包括通過調(diào)節(jié)基板的溫度 或通過將光照射到液體的預(yù)功能有機膜上來調(diào)節(jié)粘度。
[0022] 在一些實施例中,所述方法可以包括使用半色調(diào)掩模工藝形成突出部分和像素限 定層。
[0023] 在一些實施例中,功能有機膜可以包括光引發(fā)劑。
[0024] 在一些實施例中,所述方法可以包括使用閃蒸或噴印形成有機膜。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實施例的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。
[0026] 圖2是圖1中的有機發(fā)光顯示裝置的I部分的放大剖視圖。
[0027] 圖3A到圖3D是示出制造圖2中的有機發(fā)光顯示裝置的示例性方法的剖視圖。
[0028] 圖4是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的另一實施例的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。
[0029] 圖5是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的又一實施例的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。

【具體實施方式】
[0030] 將參照附圖更加全面地描述本發(fā)明構(gòu)思,在附圖中示出了不同的實施例。在附圖 中,相同的標號指示相同的元件,因此將省略對這些相似元件的重復(fù)描述。在附圖中,為了 清楚和描述的簡便,可夸大元件的長度和尺寸。
[0031] 應(yīng)該注意到的是,本發(fā)明構(gòu)思可以以許多不同的形式實施,并且不應(yīng)該被理解為 限制于公開的實施例。另外,將理解的是,當層被稱為"在"另一層"之上"或"在"另一層 "的頂部"時,該層可以直接設(shè)置在另一層上,或者可以在存在一個或多個中間層的情況下 設(shè)置在另一層上。
[0032] 這里使用的術(shù)語是為了描述具體實施例,而不意圖限制本發(fā)明構(gòu)思。如這里所使 用的,除非上下文另外清楚地指出,否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還將理解的是,當 這里使用術(shù)語"包含"和/或"包括"時,說明存在所述步驟、操作和/或元件,但不排除存 在或添加一個或多個其它步驟、操作和/或元件。將理解的是,雖然這里可以使用術(shù)語"第 一"、"第二"等來描述各種元件,但這些元件不應(yīng)被這些術(shù)語限制。這些術(shù)語只是用于將一 個元件與另一個元件區(qū)分開。
[0033] 如這里所使用的,術(shù)語"和/或"包括一個或多個相關(guān)列出項目的任意和所有組 合。當諸如"......中的至少一個(種)"的表述放在一系列元件(要素)之后時,其修飾整 個系列的元件(要素),而不是修飾所述系列中的單個元件(要素)。
[0034] 圖1是根據(jù)實施例的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。
[0035] 參照圖1,有機發(fā)光顯示裝置100包括設(shè)置在基板21上的有機發(fā)射部分22和用于 密封有機發(fā)射部分22的薄膜包封層30。
[0036] 有機發(fā)射部分22包括能夠發(fā)射紅光、綠光、藍光或白光的多個有機發(fā)光器件。有 機發(fā)射部分22可以經(jīng)由有機發(fā)光器件顯示圖像。
[0037] 薄膜包封層30可以由使觀察者能從有機發(fā)射部分22觀看圖像的透明材料形成。 薄膜包封層30可以覆蓋有機發(fā)射部分22的上表面和側(cè)表面,從而防止空氣和水分達到有 機發(fā)射部分22。
[0038] 圖2是圖1中的有機發(fā)光顯示裝置100的I部分的放大剖視圖。
[0039] 參照圖2,有機發(fā)光顯示裝置100包括基板21、像素限定層219、有機發(fā)光器件 0LED,突出部分223和薄膜包封層30。有機發(fā)光顯示裝置100還可以包括緩沖膜211、薄膜 晶體管(TFT) TR和保護層225。
[0040] 基板21可以由透明玻璃材料(例如,具有作為主要成分的二氧化硅(Si02))形成。 然而,基板21不限于透明玻璃材料。在一些實施例中,基板21可以由其它材料形成,諸如 由陶瓷、透明塑料或金屬形成。在還有一些實施例中,基板21可以是可彎曲的柔性基板。
[0041] 緩沖膜211用作阻擋層,防止基板21中的雜質(zhì)離子擴散到設(shè)置在基板21的頂表 面上的層。緩沖膜211還保護基板21不受環(huán)境中的空氣和水分的影響。另外,緩沖膜211 提供能夠使接下來的層沉積于其上的平坦表面。在一些實施例中,緩沖膜211可以由諸如 氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氧化鋁、氮化鋁、氧化鈦或氮化鈦的無機材料形成。在其它實施 例中,緩沖膜211可以由有機材料形成,該有機材料諸如聚酰亞胺、聚酯或亞克力或者它們 的堆疊件。在一些具體實施例中,緩沖膜211可以被省略。可以使用諸如等離子體增強化學(xué) 氣相沉積(PECVD)、大氣壓CVD(APCVD)或者低壓CVD(LPCVD)的沉積方法形成緩沖膜211。
[0042] TFT TR包括有源層212、柵電極214、源電極216和漏電極217。如圖2中所示,柵 電極214和有源層212憑借介于柵電極214和有源層212之間的柵極絕緣膜213彼此絕緣。
[0043] 有源層212設(shè)置在緩沖膜211上。有源層212可以由無機半導(dǎo)體(諸如非晶硅或 多晶硅)或者有機半導(dǎo)體形成。在一些實施例中,有源層212可以由氧化物半導(dǎo)體形成。 氧化物半導(dǎo)體可以包括由一個或多個第12族、第13族和第14族中的金屬元素(諸如鋅 (Zn)、銦(In)、鎵(Ga)、錫(Sn)、鎘(Cd)、鍺(Ge)和鉿(Hf))形成的氧化物。
[0044] 柵極絕緣膜213設(shè)置在緩沖膜211上,用于覆蓋有源層212,而柵電極214設(shè)置在 柵極絕緣膜213上。
[0045] 層間絕緣膜215設(shè)置在柵極絕緣膜213上,用于覆蓋柵電極214。源電極216和漏 電極217設(shè)置在層間絕緣膜215上。此外,源電極216和漏電極217通過形成在層間絕緣 膜215和柵極絕緣膜213中的接觸孔接觸有源層212。
[0046] 應(yīng)該注意到的是,TFT TR不限于上述結(jié)構(gòu),并且可以包括其它類型的結(jié)構(gòu)。在圖2 中的實施例中,描述了具有頂部柵極結(jié)構(gòu)的TFT TR。在其它實施例中,TFT TR可以具有柵 電極214設(shè)置在有源層212下方的底部柵極結(jié)構(gòu)。
[0047] 在一些實施例中,包括電容器(未示出)的像素電路可以與TFT TR-起形成。
[0048] 平坦化膜218設(shè)置在層間絕緣膜215上,用于覆蓋TFT TR。平坦化膜218用于減 小因下面的層而引起的臺階部分,并且提供形成有機發(fā)光器件0LED的平坦表面。由于平坦 表面,可以提高0LED的發(fā)光效率。如圖2中所示,通孔208可以形成在平坦化膜218中,以 暴露漏電極217的一部分。
[0049] 平坦化膜218可以由絕緣材料形成。在一些實施例中,平坦化膜218可以形成為 包括無機材料、有機材料或有機/無機材料的組合的單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。在一些實施 例中,平坦化膜218可以包括下列樹脂中的至少一種:丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂、聚 酰胺類樹脂、聚酰亞胺類樹脂、不飽和聚酯類樹脂、聚亞苯基類樹脂、聚苯硫醚類樹脂和苯 并環(huán)丁烯(BCB)。
[0050] 在一些具體的實施例中,平坦化膜218和/或?qū)娱g絕緣膜215可以省略。
[0051] 像素限定層219包括(并且也限定)發(fā)射區(qū)域和非發(fā)射區(qū)域。有機發(fā)光器件0LED 設(shè)置在像素限定層219的發(fā)射區(qū)域中。有機發(fā)光器件0LED設(shè)置在平坦化膜218上,并且包 括第一電極221、有機發(fā)射層220和第二電極222。像素限定層219設(shè)置在有機發(fā)光器件 0LED的第一電極221上,并且包括暴露第一電極221的開口。開口可以對應(yīng)于像素限定層 219的發(fā)射區(qū)域。
[0052] 有機發(fā)射層220設(shè)置在像素限定層219的發(fā)射區(qū)域中。如圖2中所示,有機發(fā)射 層220設(shè)置在像素限定層219的開口中的第一電極221上,并且可以延伸到像素限定層219 的側(cè)部上。
[0053] 像素限定層219可以由有機材料(例如,光致抗蝕劑、聚丙烯酸樹脂、聚酰亞胺類 樹脂或丙烯酸樹脂)或者無機材料(例如,硅化合物)形成。
[0054] 在一些實施例中,有機發(fā)射層220可以由低分子量有機材料形成。在這些實施例 中,有機發(fā)射層220可以被形成為單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。多層層疊的結(jié)構(gòu)可包括空穴注 入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、電子傳輸層(ETL)、電子注入層(EIL)以及與作為中央層的 發(fā)射層(EML) -起堆疊的其它層??梢允褂谜婵粘练e來沉積低分子量有機材料。對于紅色 像素、綠色像素、藍色像素和白色像素中的每一者,可以獨立地形成EML。HIL、HTL、ETL和 EIL是設(shè)置在基板21上方的覆蓋層(blanket layer),因此對紅色像素、綠色像素、藍色像 素和白色像素是共用的。
[0055] 在一些實施例中,有機發(fā)射層220可以由高分子量有機材料形成。在這些實施例 中,有機發(fā)射層220可以包括設(shè)置在第一電極221上的HTL和EML??梢允褂脟娪》椒ɑ蛐?涂方法由聚(2,4)_乙烯-二羥基噻吩(PED0T)或聚苯胺(PANI)形成HTL。高分子量有機 材料的示例包括聚苯撐乙烯(PPV)類有機材料和聚芴類有機材料??梢允褂脟娪?、旋涂或 激光誘導(dǎo)熱成像形成有機發(fā)射層220中的顏色圖案。
[0056] HIL可以由酞菁化合物(諸如銅酞菁)或者星型(starburst-type)胺衍生物(諸 如 TCTA、m-MTDATA 或 m-MTDAPB)形成。
[0057] HTL 可以由 N,N' -二(3-甲基苯基)-N,N' -二苯基 _[1,1-聯(lián)苯基]_4,4' -二胺 (TPD)或 Ν,Ν' -二(萘-1-基)-N,Ν' -二苯基聯(lián)苯胺(a -NPD)形成。
[0058] EIL 可以由 LiF、NaCl、CsF、Li20、BaO 或 Liq 形成
[0059] ETL可以由Alq3形成。
[0060] EML可以包括主體材料和摻雜劑材料。
[0061] 主體材料的示例包括三(8-羥基-喹啉)鋁(Alq3)、9, 10-二(萘-2-基)蒽 (ADN)、3_ 叔丁基-9, 10-二(萘-2-基)蒽(TBADN)、4, 4' -雙(2, 2-二苯基-乙烯-1-基) 聯(lián)苯(DPVBi)、4, 4' -雙[2, 2-二(4-甲基苯基)-乙烯-1-基]聯(lián)苯(p-DMDPVBi)、三 (9, 9-二芳基芴)(TDAF)、2- (9, 9' -螺二芴-2-基)-9, 9' -螺二芴(BSDF)、2, 7-雙(9, 9' -螺 二芴-2-基)-9, 9' -螺二芴(TSDF)、雙(9, 9-二芳基芴)(BDAF)、4, 4' -二[2- (4-叔 丁基-苯-4-基)-乙烯-1-基]聯(lián)苯(p-TDPVBi)、1,3-雙(咔唑-9-基)苯(mCP)、 1,3, 5-三(咔唑-9-基)苯(tCP)、4, 4',4〃-三(咔唑-9-基)三苯胺(TcTa)、4, 4' -雙 (咔唑-9-基)聯(lián)苯(CBP)、4,4'_雙(9-咔唑基)-2,2'_二甲基-聯(lián)苯(CBDP)、2,7-雙(咔 唑-9-基)-9,9-二甲基-芴(DMFL-CBP)、2,7-雙(咔唑-9-基)-9,9-雙(9-苯基-9H-咔 唑)芴$1^-4〇8?)、2,7-雙(咔唑-9-基)-9,9-二甲苯基-芴(0?卩1^-〇8卩)或9,9-雙(9-苯 基-9H-咔唑)芴(FL-2CBP)。
[0062] 摻雜劑材料的示例包括4, 4'-雙[4_(二對甲苯基氨基)苯乙烯基]聯(lián)苯 (DPAVBi)、9, 10-二(2-萘基)蒽(ADN)或 2-叔丁基-9, 10-二(2' -萘基)蒽(TBADN)。
[0063] 第一電極221設(shè)置在平坦化膜218上。第一電極221可以經(jīng)由平坦化膜218中的 通孔208電連接到TFT TR的漏電極217。
[0064] 第二電極222設(shè)置在有機發(fā)射層220上,并且可以設(shè)置為覆蓋所有的像素。
[0065] 第一電極221可以用作陽極,第二電極222可以用作陰極。然而,本發(fā)明構(gòu)思不限 于上述構(gòu)造。在一些實施例中,第一電極221和第二電極222的極性可以顛倒,從而第一電 極221可以用作陰極,第二電極222可以用作陽極。
[0066] 當?shù)谝浑姌O221用作陽極時,第一電極221可以包括具有高逸出功的材料(例如, ΙΤ0、ΙΖ0、Ζη0或Ιη203)。當有機發(fā)光顯示裝置100是頂部發(fā)射型(遠離基板21形成圖像) 時,第一電極221還可以包括由諸如銀(Ag)、鎂(Mg)、鋁(A1)、鉬(Pt)、鈀(Pd)、金(Au)、鎳 (Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)、鋰(Li)、鐿(Yb)、鈣(Ca)或它們的組合的金屬形成的反射 膜。另外,第一電極221可形成為單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。在一些實施例中,第一電極221 可為具有IT0/Ag/IT0結(jié)構(gòu)的反射電極。
[0067] 當?shù)诙姌O222用作陰極時,第二電極222可以由諸如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、 制、11*、(>、1^、0&或它們的組合的金屬形成。當有機發(fā)光顯示裝置100是頂部發(fā)射型時,為 了透射光,第二電極222必須是透明的。因此,在一些實施例中,第二電極222可以包括諸 如ΙΤΟ、ΙΖΟ、ΖΤΟ、ZnO或Ιη 203的透明導(dǎo)電金屬氧化物??蛇x擇地,第二電極222可為包括 下述元素或化合物中的至少一種的薄膜:Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或Yb。第二電 極222可以被形成為包括Mg:Ag、Ag:Yb和/或Ag的單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。
[0068] 第二電極222可以形成為具有向所有像素施加共電壓的結(jié)構(gòu)。
[0069] 突出部分223設(shè)置在像素限定層219的一部分上。突出部分223可以構(gòu)成設(shè)置在 像素限定層219的非發(fā)射區(qū)域中的間隔件(spacer)。該間隔件用于使相鄰的有機發(fā)光器 件0LED分隔開。應(yīng)該注意到的是,突出部分223不限于上述構(gòu)造。在一些實施例中,突出 部分223可以包括在有機發(fā)光器件0LED上方突出(即,設(shè)置在像素限定層219上)的任何 結(jié)構(gòu)。在一些實施例中,突出部分223可以包括在制造過程期間設(shè)置在像素限定層219上 的外來材料。
[0070] 突出部分223可以由有機材料(例如,光致抗蝕劑、聚丙烯酸樹脂、聚酰亞胺類樹 脂或丙烯酸樹脂)或者無機材料(例如,旋涂玻璃(S0G))形成。
[0071] 在上述實施例中,有機發(fā)射層220形成在像素限定層219的開口中,并且包括用于 每個獨立像素的發(fā)光材料。然而,本發(fā)明構(gòu)思不限于上述構(gòu)造。在一些其它實施例中,有機 發(fā)射層220可以形成在整個平坦化膜218上,與像素的位置無關(guān)。在這些其它實施例中,有 機發(fā)射層220可以例如通過下述工藝形成:(1)堅直堆疊包括發(fā)射紅光、綠光、藍光的發(fā)光 材料的層或者(2)混合發(fā)射紅光、綠光、藍光的發(fā)光材料??梢越M合不同的顏色來產(chǎn)生白 光。在一些實施例中,有機發(fā)光顯示裝置100可以包括用于將發(fā)出的白光轉(zhuǎn)化成特定顏色 的顏色轉(zhuǎn)換層或者用于過濾特定顏色的濾色器。
[0072] 薄膜包封層30密封有機發(fā)光器件0LED和突出部分223。薄膜包封層30包括有機 膜320和無機膜310。應(yīng)該注意到的是,薄膜包封層30可以包括多個有機膜320和多個無 機膜310。
[0073] 在一些實施例中,有機膜320和無機膜310內(nèi)的膜可以交替地設(shè)置(在薄膜包封 層30中)。
[0074] 參照圖2,薄膜包封層30可以包括順序地堆疊在一起的第一無機膜301、功能有機 膜302、第二無機膜303、第一有機膜304、第三無機膜305、第二有機膜306和第四無機膜 307。因此,無機膜310包括第一無機膜301、第二無機膜303、第三無機膜305和第四無機 膜307。有機膜320包括功能有機膜302、第一有機膜304和第二有機膜306。
[0075] 無機膜310可以形成為包括金屬氧化物或金屬氮化物的單層膜或堆疊的膜。例 如,無機膜310可以包括下述金屬氧化物或金屬氮化物中的至少一種:SiNx、A1 203、Si02、 Ti02、SiON、ITO、AZO、ZnO 和 ZrO。
[0076] 如圖2中所示,第四無機膜307構(gòu)成薄膜包封層30的暴露到周圍環(huán)境的最上層。 第四無機膜307由無機材料形成,并且防止空氣和水分到達有機發(fā)光器件0LED。然而,在一 些其它實施例中,薄膜包封層30的最上層(暴露到周圍環(huán)境)可以由有機材料形成。
[0077] 有機膜320可以形成為包括下述聚合物中的至少一種的單層或堆疊的層:聚對苯 二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯、環(huán)氧樹脂、聚乙烯或聚丙烯酸酯。有機膜320還可 以由包括單丙烯酸酯類單體、二丙烯酸酯類單體或三丙烯酸酯類單體的高分子單體組分形 成。
[0078] 應(yīng)注意到的是,薄膜包封層30的結(jié)構(gòu)不限于圖2中描繪的實施例。在一些實施例 中,薄膜包封層30可以包括具有多個順序堆疊的有機膜的結(jié)構(gòu)。在其它實施例中,薄膜包 封層30可以包括具有順序堆疊的多個無機膜的結(jié)構(gòu)。在一些具體實施例中,有機膜320和 /或無機膜310中的至少一個可以從薄膜包封層30中省略。
[0079] 功能有機膜302可以完全被第二無機膜303覆蓋。功能有機膜302可以形成為在 靠近突出部分223的頂部處具有第一厚度tl。
[0080] 在傳統(tǒng)發(fā)光顯示裝置中,包括有機膜的包封層可以形成為密封設(shè)置在像素限定層 上的突出部分。然而,在傳統(tǒng)發(fā)光顯示裝置中使用的有機膜通常具有低粘度并且當有機膜 鋪展時會暴露突出部分的頂部。在傳統(tǒng)發(fā)光顯示裝置中,為了確保突出部分被覆蓋/密封, 薄膜包封層的厚度可能需要增加。因此,這會導(dǎo)致傳統(tǒng)有機發(fā)光顯示裝置的厚度增加(即, 增厚形成因素)。此外,有機膜材料的加工時間和成本也會增加。
[0081] 根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的功能有機膜302可以解決上述與傳統(tǒng)發(fā)光顯示裝置中包封層 有關(guān)的問題。如圖2中所示,功能有機膜302可以形成為覆蓋突出部分223,并且在靠近突 出部分223的頂部處具有厚度tl。在一些實施例中,功能有機膜302可以具有大約3 μ m的 最大厚度。具體地說,應(yīng)該注意到的是,功能有機膜302的厚度可以根據(jù)突出部分223的高 度變化。
[0082] 功能有機膜302可以由粘度使用光或溫度可調(diào)節(jié)的材料形成。通過調(diào)節(jié)功能有機 膜302的粘度,功能有機膜302可以形成為在靠近突出部分223的頂部處具有第一厚度tl。
[0083] 可以調(diào)節(jié)第一厚度tl,使得即使在制造第二電極222、保護層225或位于突出部分 223上的第一無機膜301的過程中出現(xiàn)缺陷(例如,掩模刺(mask stab))時,第二無機膜 303(形成在功能有機膜302上)仍不與突出部分223直接接觸。在一些實施例中,第一厚 度tl可以等于或大于大約100 A。例如,第一厚度tl可以具有范圍在大約1〇〇 A和大約 500 A之間的值。在一些實施例中,第一厚度tl的值可以小于或等于功能有機膜302的 靠近突出部分223的頂部處的基本平坦部分的厚度。
[0084] 如圖2中所示,在有機發(fā)光顯示裝置100的不同位置處,功能有機膜302的上表面 的高度可以變化。
[0085] 參照圖2,高度h測量為從平坦化膜218的頂表面到功能有機膜302的設(shè)置得遠離 突出部分223的第一上表面。高度Η測量為從平坦化膜218的頂表面到功能有機膜302的 靠近突出部分223的頂部的第二上表面。如圖2中所示,高度h可以低于高度Η,從而突出 部分223的頂部在功能有機膜302的第一上表面上突出。換言之,功能有機膜的設(shè)置得遠 離突出部分的第一上表面的高度h低于功能有機膜的設(shè)置得靠近突出部分的頂部的第二 上表面的高度H。因此,突出部分223可以被具有第一厚度tl的功能有機膜302覆蓋,由此 減小有機發(fā)光顯示裝置100的厚度。
[0086] 在一些實施例中,功能有機膜302可以由聚丙烯酸酯形成。例如,功能有機膜302 可以由包括單丙烯酸酯類單體、二丙烯酸酯類單體或三丙烯酸酯類單體的高分子單體組分 形成。在上述實施例中,通過降低基板21的溫度以增加功能有機膜302的粘度來形成功能 有機膜302。如此,可以通過改變基板21的溫度來調(diào)節(jié)功能有機膜302的粘度。
[0087] 在一些其它實施例中,功能有機膜302的單體組分可以包括諸如2, 4, 6-三甲基苯 甲酰-二聯(lián)苯-氧化磷(ΤΡ0)的光引發(fā)劑。當功能有機膜302包括光引發(fā)劑時,在光照射 到功能有機膜302上時會發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)(cross-linking reaction)。交聯(lián)反應(yīng)增加功能有 機膜302的粘度??梢愿鶕?jù)照射的光的波長或/和照射的光的量來調(diào)節(jié)功能有機膜302的 粘度。
[0088] 在圖2中的實施例中,功能有機膜302形成為單層。在一些實施例(未示出)中, 功能有機膜302可以包括粘度不同的多個層。
[0089] 保護層225介于有機發(fā)光器件0LED和薄膜包封層30之間。在形成薄膜包封層30 期間,保護層225保護有機發(fā)光器件0LED不受損壞。在一些實施例中,保護層225可以包 括諸如氟化鋰(LiF)的金屬鹵化物。
[0090] 圖3A到圖3D是示出制造圖2中的有機發(fā)光顯示裝置100的示例性方法的剖視圖。
[0091] 參照圖3A,在基板21上形成緩沖膜211。
[0092] 可以使用諸如PECVD、APCVD或LPCVD的各種沉積方法形成緩沖膜211。在一些實 施例中,在基板21上形成緩沖膜211之前,可以對基板21執(zhí)行平坦化工藝。該平坦化工藝 可以包括例如對基板21執(zhí)行化學(xué)機械拋光和/或回蝕刻,以得到基本上平坦的頂部表面。
[0093] 接下來,在緩沖膜211上形成有源層212。有源層212可以由無機半導(dǎo)體(諸如非 晶硅或多晶硅)或者有機半導(dǎo)體形成。在一些實施例中,有源層212可以由氧化物半導(dǎo)體 形成。可以使用PECVD、APCVD或LPCVD形成有源層212。可以在緩沖膜211上首先形成有 源層212作為覆蓋層,接下來使用掩模對有源層212進行圖案化。在一些實施例中,可以執(zhí) 行結(jié)晶化工藝(例如,種子層的晶體生長,以形成有源層212)。
[0094] 接下來,在緩沖膜211上形成柵極絕緣膜213,用以覆蓋有源層212??梢匝赜性?層212的輪廓在緩沖膜211上形成柵極絕緣膜213 (具有基本均勻的厚度)。
[0095] 接下來,在柵極絕緣膜213上形成柵電極214。具體地說,在柵極絕緣膜213的一 部分上(在下面的有源層212上方)形成柵電極214。柵電極214可以由金屬、合金、金屬 氮化物、導(dǎo)電金屬氧化物或者透明導(dǎo)電材料形成。
[0096] 接下來,在柵極絕緣膜213上形成層間絕緣膜215,用以覆蓋柵電極214??梢匝?柵電極214的輪廓在柵極絕緣膜213上形成層間絕緣膜215 (具有基本均勻的厚度)。層間 絕緣膜215可以包括硅化合物。蝕刻接觸孔以穿過層間絕緣膜215和柵極絕緣膜213,從而 暴露有源層212的部分。
[0097] 接下來,在層間絕緣膜215上形成源電極216和漏電極217。源電極216/漏電極 217參照柵電極214彼此分隔開預(yù)定的間隔,并且設(shè)置為與柵電極214相鄰。源電極216/ 漏電極217形成為填充接觸孔,以接觸有源層212的兩端。源電極216和漏電極217可以 由金屬、合金、金屬氮化物、導(dǎo)電金屬氧化物或透明導(dǎo)電材料形成。
[0098] 在一些實施例中,可以在層間絕緣膜215上(利用填充接觸孔的導(dǎo)電膜)形成導(dǎo) 電膜(未示出),并且圖案化該導(dǎo)電膜以形成源電極216/漏電極217。
[0099] 接下來,在層間絕緣膜215上形成平坦化膜218,以覆蓋源電極216和漏電極217。 平坦化膜218可以形成為具有足夠的厚度以完全地覆蓋源電極216/漏電極217。平坦化膜 218可以由無機材料和/或有機材料形成。可以根據(jù)形成平坦化膜218所使用的材料的類型 利用諸如旋涂、印刷、濺射、CVD、原子層沉積(ALD)、PECVD、高密度等離子體-CVD (HDP-CVD) 或真空沉積的各種方法來形成平坦化膜218。
[0100] 參照圖3B,在平坦化膜218上形成有機發(fā)光器件0LED、像素限定層219和突出部 分223。如前面所提到的,突出部分223用作分隔相鄰的0LED的間隔件。
[0101] 0LED包括第一電極221、有機發(fā)射層220和第二電極222。首先,在平坦化膜218 中形成通孔208,以暴露漏電極217的一部分。接下來,在平坦化膜218上形成第一電極221 且第一電極221填充通孔208。第一電極221經(jīng)由通孔208電連接到TFT TR的漏電極217。
[0102] 第一電極221可以包括反射材料。例如,第一電極221可以包括Ag、Mg、Al、Pt、 Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Yb或Ca或者它們的組合。另外,第一電極221可以形成為單層 或多層層疊的結(jié)構(gòu)。在一些實施例中,第一電極221可以形成為具有IT0/Ag/IT0結(jié)構(gòu)的反 射電極。
[0103] 可以使用濺射、真空沉積、CVD、脈沖激光沉積、印刷或ALD形成第一電極221。可 以與像素對應(yīng)地圖案化第一電極221。
[0104] 接下來,為了形成像素限定層219,在平坦化膜218和第一電極221上形成預(yù)像素 限定層(未示出)。可以使用有機材料或無機材料形成預(yù)像素限定層。可以根據(jù)形成預(yù)像 素限定層所使用材料的類型利用旋涂、印刷、濺射、CVD、ALD、PECVD、HDP-CVD或者真空沉積 形成預(yù)像素限定層。
[0105] 通過在預(yù)像素限定層中蝕刻開口以暴露第一電極221的一部分來形成像素限定 層219。如前面所提到的,像素限定層219限定有機發(fā)光顯示裝置100的發(fā)射區(qū)域和非發(fā)射 區(qū)域。具體地講,像素限定層219的開口對應(yīng)于發(fā)射區(qū)域,像素限定層219的區(qū)域(沒有開 口的區(qū)域)對應(yīng)于非發(fā)射區(qū)域。
[0106] 在一些實施例(未示出)中,可以對像素限定層219的頂表面執(zhí)行平坦化工藝。例 如,可以對像素限定層219的頂表面執(zhí)行化學(xué)機械拋光和/或回蝕刻工藝,以得到基本上平 坦的頂表面。
[0107] 接下來,在像素限定層219的非發(fā)射區(qū)域中形成突出部分223。可以使用有機材 料或無機材料形成突出部分223??梢愿鶕?jù)形成突出部分223所使用的材料的類型利用旋 涂、印刷、濺射、CVD、ALD、PECVD、HDP-CVD或者真空沉積形成突出部分223。
[0108] 在一些實施例中,可以由與像素限定層219的材料相同的材料形成突出部分223。 在一些實施例中,可以使用半色調(diào)(half-tone)掩模同時地形成突出部分223和像素限定 層 219。
[0109] 接下來,在像素限定層219的開口中形成有機發(fā)射層220。在圖3B中的實施例中, 在像素限定層219的開口中形成有機發(fā)射層220。在一些其它實施例中,可以在像素限定層 219和突出部分223上形成有機發(fā)射層220。
[0110] 有機發(fā)射層220可以形成為單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。在一些實施例中,可以使用 真空沉積形成有機發(fā)射層220??蛇x擇性地,可以使用噴印、旋涂或激光誘導(dǎo)熱成像形成有 機發(fā)射層220。
[0111] 接下來,在有機發(fā)射層220上形成第二電極222。如圖3B中所示,第二電極222還 可以形成在像素限定層219和突出部分223上。
[0112] 第二電極222可以由透明導(dǎo)電材料形成。在一些實施例中,第二電極222可以包 括諸如ΙΤΟ、ΙΖΟ、ΖΤΟ、ZnO或Ιη 203的透明導(dǎo)電金屬氧化物??蛇x擇地,第二電極222可以 由包括下述元素或化合物中的至少一種的薄膜形成:Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或 Yb。另外,第二電極222可以被形成為包括Mg:Ag、Ag:Yb和/或Ag的單層或多層層疊的結(jié) 構(gòu)。
[0113] 可以使用濺射、真空沉積、CVD、脈沖激光沉積、印刷或ALD形成第二電極222。在 一些實施例中,第二電極222可以被形成為具有向全部像素施加共電壓的結(jié)構(gòu)。
[0114] 接下來,可以在第二電極222上形成保護層225。保護層225可以包括金屬鹵化 物。可以使用熱蒸鍍、PECVD、APCVD或LPCVD沉積保護層225。保護層225可以包括不同的 材料。例如,在一些實施例中,保護層225的下部分可以包括有機材料和無機材料。在一些 實施例中,保護層225可以包括LiF。
[0115] 參照圖3C,在圖3B的結(jié)構(gòu)上方形成第一無機膜301和功能有機膜302。第一無機 膜301和功能有機膜302用于包封有機發(fā)光器件0LED。
[0116] 第一無機膜301可以形成為單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。第一無機膜301可以包括下 述氧化物中的至少一種41(^、5丨版、5丨(^、5丨0隊11'0、420、211〇和21〇。可以使用00)、八0) 或濺射來沉積第一無機膜301。在一些的情況下,可以省略第一無機膜301。
[0117] 如圖3C中所示,功能有機膜302可以形成在第一無機膜301上方。在一些實施例 中,功能有機膜302可以介于第一無機膜301和第二無機膜303之間,如稍后參照圖3D所 描述的。如下所述地形成功能有機膜302。
[0118] 首先,在第一無機膜301上涂覆或沉積液體的預(yù)功能有機膜(未示出)。在省略第 一無機膜301的那些實施例中,可以在有機發(fā)光器件(0LED)上涂覆或沉積預(yù)功能有機膜。 可以使用閃蒸、噴印、狹縫式模具涂覆或其它類似的技術(shù)來涂覆或沉積預(yù)功能有機膜。
[0119] 功能有機膜302可以由聚丙烯酸酯形成。例如,功能有機膜302可以包括包含單 丙烯酸酯類單體、二丙烯酸酯類單體或三丙烯酸酯類單體的高分子單體組分。在一些實施 例中,功能有機膜302的單體組分還可以包括諸如2, 4, 6-三甲基苯甲酰-二聯(lián)苯-氧化磷 (ΤΡ0)的光引發(fā)劑。
[0120] 可以調(diào)節(jié)預(yù)功能有機膜的粘度,以防止預(yù)功能有機膜的厚度平均化(leveling)。 平均化是不期望的,因為這會增加需要覆蓋突出部分223的有機膜的厚度??梢酝ㄟ^降低 基板21的溫度來調(diào)節(jié)預(yù)功能有機膜的粘度。
[0121] 可以通過使冷卻水或冷卻液流動到放置基板21的工作臺(stage)上來降低基板 21的溫度,或者通過使用帕爾貼器件(peltier device)來降低基板21的溫度。在一些實 施例中,可以通過將光照射到預(yù)功能有機膜上來調(diào)節(jié)預(yù)功能有機膜的粘度。
[0122] 當基板21的溫度降低時,預(yù)功能有機膜的粘度增加,由此預(yù)功能有機膜的鋪展能 力降低。因此,預(yù)功能有機膜留在突出部分223的上表面上。另外,預(yù)功能有機膜在這種狀 態(tài)下變硬,由此在突出部分223的上表面上形成功能有機膜302 (具有第一厚度tl)??梢?基于預(yù)功能有機膜的期望粘度來確定硬化預(yù)功能有機膜所需的時長和基板21的溫度。因 此,通過調(diào)節(jié)預(yù)功能有機膜的粘度,可以在突出部分223的上表面上形成具有預(yù)定厚度的 液體預(yù)功能有機膜(作為功能有機膜302)。
[0123] 當預(yù)功能有機膜包括光引發(fā)劑時,可以通過將光照射到預(yù)功能有機膜上來調(diào)節(jié)預(yù) 功能有機膜的粘度。當將光照射到預(yù)功能有機膜上時,可以發(fā)生交聯(lián)反應(yīng),這樣會增加預(yù)功 能有機膜的粘度。接下來,使預(yù)功能有機膜硬化,由此在突出部分223的上表面上形成功能 有機膜302 (具有第一厚度tl)??梢曰谡丈涔獾牟ㄩL和/或強度來調(diào)節(jié)預(yù)功能有機膜的 粘度。
[0124] 參照圖3D,在圖3C中的結(jié)構(gòu)上方形成薄膜包封層30。薄膜包封層30包括有機膜 320和無機膜310。應(yīng)該注意到的是,薄膜包封層30可以包括多個有機膜320和多個無機 膜310。通過將第二無機膜303、第三無機膜305和第四無機膜307與第一有機膜304和第 二有機膜306交替地堆疊在功能有機膜302上來形成薄膜包封層30。
[0125] 第二無機膜303、第三無機膜305和第四無機膜307均可以形成為單層或多層層疊 的結(jié)構(gòu)。無機膜303、305和307中的每個可以包括下述氧化物中的至少一種:AlOx、SiNx、 SiOx、SiON、ITO、AZO、ZnO和ZrO??梢允褂肅VD、ALD、濺射或其它類似的技術(shù)來沉積無機 膜 303、305 和 307。
[0126] 第一有機膜304和第二有機膜306均可以形成為單層或多層層疊的結(jié)構(gòu)。有機膜 304和306中的每個可以包括環(huán)氧樹脂、丙烯酸酯、硅樹脂和聚丙烯酸酯中的至少一種???以使用閃蒸、噴印、狹縫式模具涂覆或其它類似的技術(shù)來涂覆或沉積第一有機膜304和第 二有機膜306。
[0127] 如圖3D中所示,第四無機膜307構(gòu)成薄膜包封層30的暴露到周圍環(huán)境的最上層。 第四無機膜307防止空氣和水分到達有機發(fā)光器件0LED。因此,有機發(fā)光器件0LED被薄膜 包封層30有效地密封。
[0128] 在圖3D中的實施例中,第四無機膜307由無機材料形成。然而,在一些其它實施 例中,薄膜包封層30的最上層(暴露到周圍環(huán)境)可以由有機材料形成。
[0129] 圖4是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的另一實施例的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。圖4中的實 施例包括與圖2中描述的實施例的元件相似的元件,因此將省略對這些相似元件的描述。
[0130] 參照圖4,有機發(fā)光顯示裝置200包括薄膜包封層31。薄膜包封層31包括無機膜 330和有機膜340。圖4中的無機膜330和有機膜340可以使用與圖2中的無機膜310和 有機膜320的材料和方法相同的材料和方法形成。無機膜330包括第一無機膜311、第二無 機膜313、第三無機膜315和第四無機膜317。有機膜340包括第一有機膜312、功能有機 膜314和第二有機膜316。如圖4中所示,無機膜330和有機膜340中的膜順序地堆疊在一 起。
[0131] 第一無機膜311、第一有機膜312和第二無機膜313設(shè)置在功能有機膜314下方。 參照圖4,高度h測量為從平坦化膜218的頂表面到功能有機膜314的設(shè)置得遠離突出部分 223的第一上表面。高度Η測量為從平坦化膜218的頂表面到功能有機膜314的位于突出 部分223的頂部之上的第二上表面。功能有機膜314形成為在突出部分223的頂部上方處 具有第二厚度t2。
[0132] 如圖4中所示,高度h可以小于高度Η。換言之,功能有機膜314的設(shè)置得遠離突 出部分223的第一上表面的高度h低于功能有機膜314的設(shè)置在突出部分的頂部上方的第 二上表面的高度H。
[0133] 然而,圖4中的實施例中的高度h和高度Η之間的差比圖2中的實施例中的高度 h和高度Η之間的差小。返回參照圖2,突出部分223的頂部在功能有機膜302的第一上表 面上方突出。對比圖2,圖4中的突出部分223的頂部設(shè)置在功能有機膜314的第一上表面 下方并在第一有機膜312的表面上方突出。然而,與圖2類似,圖4中的突出部分223仍然 被功能有機膜314覆蓋。
[0134] 參照圖4,可以調(diào)節(jié)第二厚度t2,使得即使在制造功能有機膜314的過程中出現(xiàn)缺 陷(例如,掩模刺)時,第三無機膜315 (形成在功能有機膜314上)仍不與第二無機膜313 接觸。在一些實施例中,第二厚度t2可以等于或大于大約100 A。例如,第二厚度t2可 以具有范圍在大約100 A和大約500 A之間的值。在一些實施例中,第二厚度t2的值可 以等于或小于功能有機膜314的位于突出部分223的頂部上方的基本平坦部分的厚度。另 夕卜,第二厚度t2可以根據(jù)薄膜包封層31中膜的厚度和膜的數(shù)量以及突出部分223的高度 而變化。
[0135] 參照圖4,第二有機膜316構(gòu)成有機發(fā)光顯示裝置200的最上層的有機膜??梢詫?第二有機膜316執(zhí)行平坦化工藝,以獲得基本平坦的表面。
[0136] 在圖2和圖4的實施例中,薄膜包封層31包括單個功能有機膜。然而,應(yīng)該注意 到的是,在一些實施例中,薄膜包封層31可以包括多個功能有機膜。
[0137] 圖5是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的又一實施例的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。圖5中的實 施例包括與圖2中描述的實施例的元件相似的元件,因此將省略對這些相似元件的描述。
[0138] 參照圖5,有機發(fā)光顯示裝置300包括薄膜包封層32。薄膜包封層32包括無機膜 350和功能有機膜360。薄膜包封層32還包括外來材料41和42??梢允褂门c圖2中的無 機膜310和有機膜320的材料和方法相同的材料和方法來形成圖5中的無機膜350和有機 膜360。無機膜350包括第一無機膜321、第二無機膜323和第三無機膜325。功能有機膜 360包括第一功能有機膜322和第二功能有機膜324。如圖5中所示,無機膜350和有機膜 360中的膜順序地堆疊在一起,且其間置有外部顆粒41和42。
[0139] 有機發(fā)光顯示裝置300還包括具有與圖2中的突出部分223的功能相同的功能的 間隔件231。可以使用與圖2中的突出部分223的材料和方法相同的材料和方法形成間隔 件 231。
[0140] 在圖5中的實施例中,突出部分包括外來材料41和42以及間隔件231。如圖5中 所示,外來材料41和42可以在間隔件231上方突出。
[0141] 第一功能有機膜322可以形成為在外來材料41的上表面上方處具有第三厚度t3。
[0142] 第二功能有機膜324可以形成為在外來材料42的上表面上方處具有第四厚度t4。
[0143] 第三厚度t3和第四厚度t4可以彼此不同,并且可以通過調(diào)節(jié)第一功能有機膜322 和第二功能有機膜324的相應(yīng)粘度來調(diào)節(jié)第三厚度t3和第四厚度t4。與圖2和圖4中的 實施例類似,圖5中的第一功能有機膜322和第二功能有機膜324可以由粘度利用光或溫 度可調(diào)節(jié)的材料形成。
[0144] 因此,雖然有機發(fā)光顯示裝置300可以包括外來材料41和42,但是外來材料41 和42仍被第一功能有機膜322和第二功能有機膜324覆蓋。因此,圖5中的有機發(fā)光器件 0LED仍被薄膜包封層32有效地密封。
[0145] 圖5中的薄膜包封層32可以以不同的方式變型。例如,在一些實施例中,薄膜包 封層32可以具有僅第一功能有機膜322和第二無機膜323堆疊在一起的結(jié)構(gòu)。在一些其 它實施例中,薄膜包封層32還可以包括額外的有機膜和/或置于這些膜之間的額外的無機 膜。
[0146] 應(yīng)該理解的是,上面描述的實施例以描述性的意義來考慮,并且不應(yīng)被解釋為限 制發(fā)明構(gòu)思。每個實施例內(nèi)的特征或方面的描述通??蛇m用于其它實施例中的相似的特征 或方面。
[0147] 雖然已經(jīng)描述了本發(fā)明構(gòu)思的一個或多個實施例,但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理 解的是,在不脫離本公開的精神和范圍的情況下,可以對實施例進行各種修改。
【權(quán)利要求】
1. 一種有機發(fā)光顯示裝置,所述有機發(fā)光顯示裝置包括: 像素限定層,設(shè)置在基板上,其中,像素限定層限定發(fā)射區(qū)域和非發(fā)射區(qū)域; 有機發(fā)光器件,設(shè)置在發(fā)射區(qū)域中; 突出部分,設(shè)置在非發(fā)射區(qū)域中的像素限定層的一部分上;以及 薄膜包封層,設(shè)置在基板上,用于密封有機發(fā)光器件和突出部分,薄膜包封層包括至少 一個有機膜和至少一個無機膜, 其中,至少一個有機膜對應(yīng)于功能有機膜,功能有機膜的設(shè)置得遠離突出部分的第一 上表面的高度比功能有機膜的設(shè)置得靠近突出部分的頂部的第二上表面的高度低。
2. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,功能有機膜在靠近突出部分的頂部 處具有第一厚度,第一厚度的值等于或大于100 A。
3. 如權(quán)利要求2所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,第一厚度小于或等于功能有機膜的 靠近突出部分的頂部的平坦部分的厚度。
4. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,突出部分的頂部設(shè)置在功能有機膜 的第一上表面的上方。
5. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,突出部分對應(yīng)于設(shè)置在非發(fā)射區(qū)域 中的間隔件。
6. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,功能有機膜包括光引發(fā)劑。
7. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,功能有機膜包括粘度利用光或溫度 可調(diào)節(jié)的材料。
8. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,所述有機發(fā)光顯示裝置還包括介于有機發(fā) 光器件和薄膜包封層之間的保護層。
9. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,突出部分包括外來材料。
10. 如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中,薄膜包封層的最上層被暴露,所述 最上層包括無機膜。
【文檔編號】H01L51/52GK104282713SQ201410171602
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2014年4月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月12日
【發(fā)明者】姜泰旭 申請人:三星顯示有限公司
網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
1
商城县| 南郑县| 曲周县| 云阳县| 贡觉县| 柯坪县| 鄂州市| 利津县| 永川市| 北宁市| 玉林市| 科尔| 灵宝市| 澄江县| 论坛| 西丰县| 滨海县| 遂川县| 濮阳市| 高淳县| 密山市| 卢龙县| 凤山市| 延川县| 德化县| 寻甸| 平度市| 宣威市| 庆阳市| 乡宁县| 长葛市| 郸城县| 蛟河市| 峡江县| 福州市| 二手房| 鄄城县| 德钦县| 昌乐县| 定西市| 青海省|