含鎢基材的化學(xué)機(jī)械平坦化的制作方法
【專利摘要】用于拋光鎢或含鎢基材的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)組合物，包含：磨料，至少一種固體催化劑，選自哌嗪衍生物、氰酸鹽以及其組合的化學(xué)添加劑，以及液體載體。還提供了使用用于拋光鎢或含鎢基材的水性制劑的系統(tǒng)和方法。
【專利說明】含鎢基材的化學(xué)機(jī)械平坦化
[0001] 發(fā)明背景
[0002] 本發(fā)明概括地涉及半導(dǎo)體晶片上的含鎢基材的化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP)。
[0003] 存在大量用于集成電路例如半導(dǎo)體晶片的制造中的材料。所述材料通常分為三 類-介電材料、粘合和/或阻擋層、以及導(dǎo)電層。使用各種基材，例如，介電材料例如TE0S、 等離子體增強(qiáng)的TEOS(PETEOS)以及低-k介電材料；阻擋/粘合層例如鉭、鈦、鉭氮化物和 鈦氮化物；以及導(dǎo)電層例如銅、鋁、鎢和貴金屬，是工業(yè)中已知的。
[0004] 集成電路通過使用熟知的多層互連進(jìn)行互連?；ミB結(jié)構(gòu)通常具有第一金屬化層、 互連層、第二金屬化層、以及通常第三和隨后的金屬化層。層間介電材料例如二氧化硅和有 時(shí)的低-k材料用于使硅基材或阱中的不同金屬化層電隔離。通過使用金屬化的通孔、特別 是鎢通孔，制造不同互連層之間的電連接。U.S.專利4, 789, 648描述了制備多個(gè)金屬化層 和絕緣膜中的金屬化通孔的方法。類似地，金屬觸點(diǎn)用于在互連層和在阱中形成的器件之 間形成電連接。金屬通孔和觸點(diǎn)通常用鎢填充，并且通常使用粘合層例如氮化鈦（TiN)和 /或鈦，以便將金屬層例如鎢金屬層粘合到介電材料上。
[0005] 在一個(gè)半導(dǎo)體制造工藝中，金屬化的通孔或觸點(diǎn)通過鎢沉積層形成，隨后進(jìn)行CMP 步驟。在通常工藝中，通孔被刻蝕穿過層間電介質(zhì)（ILD)至互連線或至半導(dǎo)體基材。接著， 薄的粘合層例如氮化鈦和/或鈦通常在ILD上形成，并且導(dǎo)入經(jīng)刻蝕的通孔中。然后，鎢膜 層狀沉積在粘合層上并且進(jìn)入通孔中。繼續(xù)沉積直到通孔充滿鎢。最后，過量的鎢通過化 學(xué)機(jī)械拋光（CMP)除去，從而形成金屬通孔。
[0006] 目前，用于半導(dǎo)體基材平坦化的化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP)對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員廣為 人知，并且在無數(shù)專利和開放的文獻(xiàn)出版物中進(jìn)行了描述。
[0007] 在通常的CMP工藝中，放置基材（例如，晶片）以與連接到拋光盤的旋轉(zhuǎn)拋光墊接 觸。CMP漿料，通常是磨料和化學(xué)活性混合物，在基材的CMP處理期間，供給至拋光墊。在 CMP工藝期間，旋轉(zhuǎn)拋光墊（固定在拋光盤上）和基材，同時(shí)晶片載體系統(tǒng)或拋光頭緊靠基 材施加壓力（向下的力）。由于平行于基材的拋光墊的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的作用，漿料通過與待平坦 化的基材膜發(fā)生化學(xué)和機(jī)械相互作用而完成平坦化（拋光）工藝。繼續(xù)以這種方式進(jìn)行拋 光，直到基材上所期望的膜被除去，通常的目標(biāo)為有效地平坦化基材。通常，金屬CMP漿料 包含懸浮在氧化性的水性介質(zhì)中的研磨材料，例如二氧化硅或氧化鋁。
[0008] 金屬（例如，鎢）的去除速率與介電基質(zhì)的去除速率的比率稱為在CMP處理由金 屬和介電材料構(gòu)成的基材過程中去除金屬相對(duì)于去除電介質(zhì)的"選擇性"。
[0009] 當(dāng)使用相對(duì)于電介質(zhì)具有去除金屬高選擇性的CMP楽料時(shí)，金屬層容易過度拋 光，在金屬化區(qū)域形成凹陷或"碟化"效應(yīng)。由于半導(dǎo)體制造中的平版印刷和其它局限，這 種特征變形是不可接受的。
[0010] 對(duì)于半導(dǎo)體制造，其它不適合的特征變形稱為"侵蝕"。侵蝕是電介質(zhì)區(qū)域和金屬 通孔或溝槽的密集陣列之間的形貌差異。在CMP中，密集陣列中的材料可以以比周圍電介 質(zhì)的區(qū)域更快的速率被去除或者侵蝕。這導(dǎo)致在電介質(zhì)的該區(qū)域和密集金屬（例如，銅或 鎢）陣列之間產(chǎn)生形貌差異。
[0011] 隨著行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)趨向更小的器件特征，持續(xù)存在對(duì)提供優(yōu)異的1C芯片的納米結(jié)構(gòu) 的平坦化的鎢CMP漿料的開發(fā)需求。具體來說，對(duì)于28納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)和更高應(yīng)用，漿料產(chǎn) 品必須提供可調(diào)節(jié)的去除速率和可調(diào)節(jié)的金屬和電介質(zhì)之間的選擇性，在保持足夠的去除 速率的同時(shí)，減少侵蝕和碟化缺陷。
[0012] 存在著對(duì)提供低的碟化和插塞式凹陷（plug recess)效應(yīng)的鎢CMP工藝和漿料的 顯著需求，特別是基于半導(dǎo)體工業(yè)持續(xù)向越來越小的特征尺寸發(fā)展的事實(shí)。本發(fā)明可以為 這種的顯著需求提供解決方案。
[0013] 本文所描述的鎢CMP漿料組合物可以進(jìn)行調(diào)節(jié)，以便在提供較低的靜態(tài)刻蝕速率 以在具有鎢通孔的區(qū)域使氧化物的表面瑕疵，缺陷，腐蝕，以及侵蝕最小化的同時(shí)，提供可 調(diào)節(jié)的以期望的拋光速率的有效拋光，鎢相對(duì)于其它材料例如介電材料的受控的拋光選擇 性。
[0014] 發(fā)明簡介
[0015] 本發(fā)明可用于鎢CMP，其中期望和/或要求低碟化/插塞式凹陷、在平坦化基材上 的低陣列侵蝕，保持或提高鎢膜去除速率，并保持可調(diào)節(jié)的和/或高的鎢選擇性。
[0016] 一方面，本發(fā)明提供了鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，包含：
[0017] a)納米尺寸磨料；
[0018] b)鐵化合物涂布顆粒的固體催化劑；
[0019] c)化學(xué)添加劑，選自哌嗪衍生物，氰酸鹽，以及其組合；
[0020] d)氧化劑；以及
[0021] e)其余部分基本上是液體載體；
[0022] 其中，CMP組合物的pH為約2. 0至約8。
[0023] 另一方面，本發(fā)明提供了化學(xué)機(jī)械拋光含鎢半導(dǎo)體基材的方法，包含下列步驟：
[0024] a)提供拋光墊；
[0025] b)提供化學(xué)機(jī)械拋光組合物，其包含：
[0026] 1)納米尺寸磨料；
[0027] 2)鐵化合物涂布顆粒的固體催化劑；
[0028] 3)化學(xué)添加劑，選自哌嗪衍生物，氰酸鹽，以及其組合；
[0029] 4)氧化劑；
[0030] 5)其余部分基本上是液體載體；并且
[0031] 其中，組合物的pH為約2.0至約8。
[0032] c)使半導(dǎo)體基材的表面與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物接觸；以及
[0033] d)拋光半導(dǎo)體基材的表面；
[0034] 其中所述包含鎢的表面的至少一部分與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物 二者接觸。
[0035] 而又一方面，本發(fā)明提供了選擇性化學(xué)機(jī)械拋光的方法，包含下列步驟：
[0036] a)提供具有包含鶴和至少一種其它材料的表面的半導(dǎo)體基材；
[0037] b)提供拋光墊；
[0038] c)提供化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其包含：
[0039] 1)納米尺寸磨料；
[0040] 2)鐵化合物涂布顆粒的固體催化劑；
[0041] 3)化學(xué)添加劑，選自哌嗪衍生物，氰酸鹽，以及其組合；
[0042] 4)氧化劑；以及
[0043] 5)其余部分基本上是液體載體；
[0044] 其中，CMP組合物的pH為約2. 0至約8。
[0045] d)使半導(dǎo)體基材的表面與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物接觸；以及
[0046] e)拋光所述半導(dǎo)體基材的表面；
[0047] 其中所述包含鎢的表面的至少一部分與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物 二者接觸；并且鎢的去除速率與所述至少一種其它材料的去除速率的比率等于或大于1。
[0048] 而又一方面，本發(fā)明提供了選擇性化學(xué)機(jī)械拋光的系統(tǒng)，包含：
[0049] a)具有包含鎢和至少一種其它材料的表面的半導(dǎo)體基材；
[0050] b)拋光墊；
[0051] c)化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，包含：
[0052] 1)納米尺寸磨料；
[0053] 2)鐵化合物涂布顆粒的固體催化劑；
[0054] 3)化學(xué)添加劑，選自哌嗪衍生物，氰酸鹽，以及其組合；
[0055] 4)氧化劑；以及
[0056] 5)其余部分基本上是液體載體；
[0057] 其中，CMP組合物的pH為約2. 0至約8。
[0058] 其中所述包含鎢的表面的至少一部分與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物 二者接觸。
[0059] 任選地，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物還包含一種或多種下列組分：
[0060] 腐蝕抑制劑；
[0061] pH緩沖劑；
[0062] 表面活性劑；以及
[0063] 當(dāng)拋光組合物的pH為5. 0-8. 0時(shí)的殺生物劑。
[0064] 典型地，納米尺寸磨料選自二氧化硅，氧化鋁，氧化鈰，二氧化鈦，氧化鋯，以及其 組合。
[0065] 固體催化劑是鐵化合物涂布的顆粒。合適用于制備固體催化劑的顆粒包含膠體二 氧化硅和其它類型的膠體或納米尺寸的無機(jī)金屬氧化物顆粒。
[0066] 哌嗪衍生物的實(shí)例是，但不限于，取代的單氨基哌嗪衍生物，以及取代的雙氨基哌 嗪衍生物，以及其組合。
[0067] 氰酸鹽的實(shí)例是，但不限于，氰酸鉀，氰酸鈉，氰酸銨以及氰酸四烷基銨。
[0068] 本發(fā)明的特征包括：
[0069] #1.鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，包含：
[0070] a) 0. lwt %至25wt %的納米尺寸磨料，選自二氧化娃，氧化錯(cuò)，氧化鋪，二氧化鈦， 氧化鋯，以及其組合；
[0071] b)0. lwt %至0. 5wt %的鐵化合物涂布顆粒的固體催化劑，選自鐵化合物涂布的膠 體二氧化硅，膠體或納米尺寸的無機(jī)金屬氧化物顆粒，以及其組合；
[0072] c)0. OOOlwt%至0. 5wt%的化學(xué)添加劑，選自哌嗪衍生物，氰酸鹽，以及其組合；
[0073] d) 0· 5wt %至10wt %的氧化劑；以及
[0074] e)其余部分是液體載體；
[0075] 其中，CMP組合物的pH為約2. 0至約8 ;
[0076] #2. #1所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述化學(xué)添加劑是具有下列通 用分子結(jié)構(gòu)的哌嗪衍生物：
[0077]
【權(quán)利要求】
1. 鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，包含： a) 0. lwt %至25wt %的納米尺寸磨料，選自二氧化娃，氧化錯(cuò)，氧化鋪，二氧化鈦，氧化 鋯，以及其組合； b) 0. lwt %至0. 5wt %的鐵化合物涂布顆粒的固體催化劑，選自鐵化合物涂布的膠體二 氧化硅，鐵化合物涂布的膠體無機(jī)金屬氧化物顆粒，鐵化合物涂布的納米尺寸無機(jī)金屬氧 化物顆粒，以及其組合； c) 0. OOOlwt%至0. 5wt%的化學(xué)添加齊[J，選自哌嗪衍生物，氰酸鹽，以及其組合； d) 0. 5wt %至10wt %的氧化劑；以及 e) 液體載體； 其中，所述CMP組合物的pH為約2. 0至約8. 0。
2. 權(quán)利要求1所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述哌嗪衍生物具有下列通 用分子結(jié)構(gòu)：
其中，&和R2獨(dú)立地選自氫，任選取代的烷基，任選取代的芳基，任選取代的芳烷基，任 選取代的燒氧基，任選取代的具有一個(gè)或多個(gè)輕基的有機(jī)基團(tuán)，任選取代的有機(jī)磺酸，任選 取代的有機(jī)磺酸鹽，任選取代的酮類，任選取代的有機(jī)羧酸，任選取代的有機(jī)羧酸鹽，任選 取代的有機(jī)羧酸酯，任選取代的有機(jī)胺以及任選取代的有機(jī)羧酸酰胺。
3. 權(quán)利要求1所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述哌嗪衍生物是具有下列 分子結(jié)構(gòu)的任選取代的有機(jī)單氨基哌嗪衍生物（a)或任選取代的有機(jī)雙氨基哌嗪衍生物 (b)：
(a) (b) 其中 η獨(dú)立地選自1-6 ;以及 R，R'，R"和R"'各自獨(dú)立地選自氫，任選取代的烷基，任選取代的芳基，任選取代的芳 烷基，任選取代的烷氧基，任選取代的具有一個(gè)或多個(gè)羥基的有機(jī)基團(tuán)，任選取代的有機(jī)磺 酸，任選取代的有機(jī)磺酸鹽，任選取代的酮類，任選取代的有機(jī)羧酸，任選取代的有機(jī)羧酸 鹽，任選取代的有機(jī)羧酸酯，任選取代的有機(jī)胺以及任選取代的有機(jī)羧酸酰胺。
4.權(quán)利要求1所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述哌嗪衍生物選自 (R)-哌嗪-2-羧酸；1-(2-羥乙基）哌嗪；哌嗪-2,6-二酮；1-(2-氨乙基）哌嗪；1，4-雙 (2-輕乙基）哌嗪；1,4-雙（丙烯?；┻哙?；哌嗪-1-乙酸叔丁酯；1-(3-甲基苯甲基）哌 嗪；4-Boc-哌嗪-2羧酸；1-(二苯甲基）哌嗪；1，4_二-Boc-哌嗪-2羧酸；2-(哌嗪-1-羰 基）_苯甲酸；4_(哌嗪-1-羰基）_哌啶-1-羧酸叔丁酯；哌嗪-1-羧酸；（2-氯-苯基）酰胺 哌嗪-1-羧酸二甲酰胺；哌嗪-1-羧酸-二乙酰胺；哌嗪-1-羧酸-二苯基酰胺；哌嗪-1-磺 酰胺；哌嗪-2-羧酰胺；1，2-二甲基-哌嗪；1-(2- 丁基）哌嗪；2-異丁基-哌嗪；2-叔丁 基哌嗪；r-2-異丁基-哌嗪；s-2-異丁基-哌嗪；2-異丙基-哌嗪；1-(2-嘧啶基）哌嗪； 1-(4-三氟甲基苯基）哌嗪；1-(環(huán)丙基甲基）哌嗪；1-(2-批嗪基）-哌嗪；1-(2-三氟甲基 苯基）哌嗪；1-(6-咕嗪基）哌嗪；2-(4-三氟甲基苯基）哌嗪；2-苯基-哌嗪-1-羧酸苯甲 酯；1-(1-萘甲基）哌嗪；1-(1-戊基）哌嗪；1-(2-戊基）哌嗪；1-(3-戊基）哌嗪；1-(丙 ?；┻哙?；2-苯基-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；Ι-Boc-哌嗪；1-(4-氯苯基）哌嗪；1-(2-呋喃 甲酰基）哌嗪；1-(2-氟苯基）哌嗪；1-(2-輕基苯基）哌嗪；1-(2-苯乙基）哌嗪；1-(4-氟 苯基）哌嗪；1-(2-甲基苯甲基）哌嗪；1-(4-輕基苯基）哌嗪；1-(4-甲基苯甲基）哌嗪； 1-(3-羥基苯基）哌嗪；1-(1-苯乙基）哌嗪；1-(2,4-二甲基苯基）哌嗪；1-(2, 5-二甲基 苯基）哌嗪；1-(2,5_二甲基苯基）哌嗪；1-(2,6_二甲苯基）哌嗪；1-(2-乙基苯基）哌嗪； 1-(2-乙基苯基）哌嗪；1-(3,4-二甲基苯基）哌嗪；1-(3, 5-二甲基苯基）哌嗪；1-(3-氟 苯基）哌嗪；1-(3-呋喃甲?；┻哙海?-(N-庚基）哌嗪；1-新戊酰基-哌嗪；2, 3-二甲 基-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；2-(2-氯苯基）哌嗪；2-(4-氯苯基）哌嗪；n-4-cbz-哌嗪-2-羧 酸甲酯；1-(2-批陡基）哌嗪；1-(2-甲氧基苯基）哌嗪；1-(4-甲氧基苯基）哌嗪；1-(4-氯 二苯甲基）哌嗪；1-(4-吡啶基）哌嗪；1-(4-氨基苯基）哌嗪；1-(4-甲氧基苯甲基）哌嗪； 1-(2-氰基苯基）哌嗪；1-(1-金剛烷基）哌嗪；1-(4-硝基苯基）哌嗪；1-(2-甲氧基乙基） 哌嗪；2-(三氟甲基）哌嗪；1-(3,4-二氯苯基）哌嗪；Ι-Boc-哌嗪-2-羧酸；1-(2, 5-二氟 苯甲基）哌嗪；1-(2-乙氧基乙基）哌嗪；1-(3,4-二氯苯甲基）哌嗪；1-(3-甲氧基苯基） 哌嗪；1-(環(huán)己基甲基）哌嗪；1-(3-甲基苯基）哌嗪；1-(4-甲基苯基）哌嗪；1-(3-氟苯甲 基）哌嗪；1-(4-氟苯甲基）哌嗪；2-(3-甲氧基苯基）哌嗪；1-(3-氯苯甲基）哌嗪；1-(環(huán) 丙基羰基）哌嗪；(R)-l-Boc-哌嗪-2-羧酸；（R)-2-苯甲基-哌嗪；（R)-3-羥甲基-哌 嗪-1-羧酸叔丁酯；(R) -4-N-Boc-哌嗪-2-羧酸；（S) -2-苯甲基-哌嗪；（S) -2-苯甲基-哌 嗪-1-羧酸叔丁酯；（S)-3-輕甲基-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；（S)-4-N-Boc-哌嗪-2-羧酸； 1-(1-哌陡橫醜基）哌嗪；1-(2,2,2_二氟乙基）哌嗪；1_(2,3_二氟苯基）哌嗪；1_(2,4， 6-三甲基苯甲基）哌嗪；1-(2,4-二氯苯甲基）哌嗪；1-(2,4-二氟苯基）哌嗪；1-(2,6-二 氯苯甲基）哌嗪；1-(2-氯苯甲基）哌嗪；1-(2-環(huán)己基乙基）哌嗪；1-(2-二異丙基氨基乙 基）哌嗪；1-(2-二丙基氨基乙基）哌嗪；1-(2-乙氧基苯基）哌嗪；1-(2-乙基丁?；┻?嗪；1 -(2_氟苯甲基）哌嗪；1_(2_異丙氧基乙基）哌嗪；1_(2_甲疏基苯基）哌嗪；1_(2_甲 基丙?；┻哙?；1-(2-嗎啉基乙基）哌嗪；1-(2-苯氧基乙基）哌嗪；1-(2-哌啶基乙基） 哌嗪；1-(2-吡咯烷基乙基）哌嗪；1-(3, 3-二甲基丁?；┻哙?；1-(3,4-二氯苯甲?；?哌嗪；1-(3-(3, 5-二氯苯基）哌嗪；4-二氟苯甲?；┻哙?；1-(3,4-二甲基苯甲基）哌 嗪；1- (3, 5-二甲氧基苯甲?；┻哙?；1- (3, 5-二甲基苯甲?；┻哙?；1- (3-氨基丙基） 哌嗪；1-(3-氰基丙基）哌嗪；1-(3-二乙氨基丙基）哌嗪；1-(3-二丙氨基丙基）哌嗪； 1-(3-甲氧基丙基）哌嗪；1-(3-嗎啉基丙基）哌嗪；1-(3-苯基丙基）哌嗪；1-(3-哌啶基 丙基）哌嗪；1-(3-吡咯烷基丙基）哌嗪；1-(4-氯苯甲?；┻哙?；1-(4-氯苯甲基）哌嗪； 1-(4-乙氧基苯基）哌嗪；1-(4-甲氧基苯甲?；┻哙?；1-(4-甲氧基丁基）哌嗪；1-(4-苯 基丁基）哌嗪；1-(4-吡啶基甲基）哌嗪；1-(4-叔丁基苯甲基）哌嗪；1-(環(huán)己基羰基）哌 嗪；1-(乙燒磺?；┻哙?；1-(苯基乙?；┻哙?；Ι-cbz-哌嗪-2-羧酸；1-己?；?哌嗪； 1- 甲基磺酰基-哌嗪；2, 3-二苯基-哌嗪；2-(2-呋喃基）哌嗪；2-(2-甲氧基苯基）哌嗪； 2- (2-噻吩基）哌嗪；2- (3-氧代-哌嗪-1-羰基）-苯甲酸；2- (4-氯苯基）哌嗪-1-羧酸 叔丁酯；2-(4-甲氧基苯基）哌嗪；2-(4-甲基苯基）哌嗪；2-苯甲基-哌嗪；3-(4-氯苯基） 哌嗪-1-羧酸叔丁酯；3-氧代-哌嗪-2-羧酸；3-苯基-哌嗪-1-羧酸乙酯；4-(4-Boc-哌 嗪-1-羰基）苯基硼酸頻哪醇酯；[5- (4-甲基-哌嗪-1-磺酰基）-吡啶-2-基]-肼；哌 嗪-1-羧酸甲酯；1-乙基-2-甲基-哌嗪；1，4-雙（3-氨基丙基）哌嗪；1-[2-(2-羥基乙氧 基）乙基]哌嗪；1-(2-甲基-烯丙基）-哌嗪；2-(3-三氟甲基-苯基）哌嗪；4-N-Boc-2-甲 基-哌嗪；1-(四氫-2-呋喃甲?；?哌嗪；1-(四氫-2-呋喃甲基）哌嗪；（R)-l-Boc-2-乙 基-哌嗪；（R)-l-Boc-3-乙基-哌嗪；（S)-l-Boc-2-乙基-哌嗪；（S)-l-Boc-3-乙基-哌 嗪；1-[1-(2_甲氧基苯基）乙基]哌嗪；1-[1-(3_甲氧基苯基）乙基]哌嗪；1-[1-(4_甲 氧基苯基）-乙基]哌嗪；1-[2-(2-甲基苯氧基）乙基]哌嗪；1-(4-乙氧基-苯甲基）-哌 嗪；l-Boc-2,6-二甲基-哌嗪；l-Boc-3, 3-二甲基-哌嗪；l-Boc-3, 5-二甲基-哌嗪； l-Boc-5-氧代-哌嗪-2-羧酸；1-N-(叔丁氧基羰基）-2-乙基-哌嗪；2- (2-氟-苯基）-哌 嗪；2-(3-氟-苯基）-哌嗪；2-甲基-1-(3-甲基苯基）-哌嗪；4-(5-氨基吡啶-2-基）哌 嗪-1-羧酸叔丁酯；1-[2-(二甲氨基）乙基]哌嗪；1-(1-甲基-4-哌啶基）哌嗪；1-乙酰 基-4-(4-輕基苯基）哌嗪；1-[4-(三氟甲基）苯甲基]哌嗪；l-Boc-4-(2-甲?；交?哌嗪 ；1-氨基-4-(2-羥基乙基）哌嗪；1-8〇(：-(4-苯甲基）哌嗪；1-8〇(3-4-[3-(乙氧基羰 基）苯基]哌嗪；1 _雙（4-氟苯基）甲基哌嗪；l-Boc_4-(3-輕丙基）哌嗪；l-Boc_4-(4-甲 ?；交┻哙海籰-Boc-4-(4-甲氧基羰基苯基）哌嗪；1-(1，3-二氧戊環(huán)-2-基甲基）哌 嗪；1-(3-氨基丙基）-4-(2-甲氧基苯基）哌嗪；1-[3-(二甲氨基）丙基]哌嗪；1-(1，2， 3,4_四氫萘-2-基）哌嗪；1-(4-氨基丁基）-4-(2-甲氧基苯基）哌嗪；l-Boc-4-(2-甲 氧基羰基苯基）哌嗪；l-Boc-4- (5-硝基-2-吡啶基）哌嗪；(R) -l-Boc-2-苯甲基-哌嗪； (R) l-N-Boc-2-異丙基-脈嚷；（R)-l-N-Boc-4-N-Fmoc_2-脈嚷竣酸；（R)-l-N-cbz_2-甲 基-哌嗪；（R) -4-N-三苯甲基-2-甲基-哌嗪；（R) -N4-苯甲基-2-(苯甲基氧甲基）哌 嗪；（S)-l-Boc-2-輕甲基-哌嗪；（S)-l-Boc-2-異丁基-哌嗪；（S)-l_Boc-3-苯甲基-哌 嚷；（S)-l-Boc_3-異丙基-脈嚷；（S)-l-N-Boc_4-N-Fmoc-脈嚷 _2_ 竣酸；（S)_4_N_ 三苯 甲基-2-甲基-哌嗪；（S)-4-苯甲基-2-(甲基硫乙基）哌嗪；1-[(2,6_二氯苯基）磺 ?；鵠哌嗪；1-[(2-甲基-1，3-噻唑-5-基）甲基]哌嗪；1-[(4,5_二甲基-1，3-噁 唑-2-基）甲基]哌嗪；1-[ (4-環(huán)己基苯基）磺?；鵠哌嗪；1-[ (4-異丁基苯基）磺?；鵠 哌嗪；1_[ (4-甲基-1，2, 5-噁二唑-3-基）甲基]哌嗪；1-[ (4-仲丁基苯基）磺?；鵠哌 嗪；1_[ (4-叔丁基-2,6-二甲基苯基）磺酰基]哌嗪；1-[1-(吡啶-2-基）乙基]哌嗪； 1-[1_(吡啶-3-基）乙基]哌嗪；1-[1_(噻吩-2-基）乙基]哌嗪；1-[2-(1_丙基）-氧乙 基]-哌嗪；1-[2_(1H-吡咯-1-基）乙基]哌嗪；1-[2-(2-甲氧基-苯氧基）-乙基]-哌 嗪；1-[2-(二烯丙基氨基）-乙基]-哌嗪；1-[2-(三氟甲基）吡啶-4-基]哌嗪；1-[2-(三 氟甲基）喹啉-4-基]哌嗪；1-[2-氟-4-(甲基磺?；┍交鵠哌嗪；1-[2-氟-4-(甲基磺 ?；┍交鵠-4-(2-羥乙基）哌嗪；1-[3-(1-哌啶羰基）-2-吡啶基]哌嗪；1-[3-(二氟甲 氧基）苯甲?；鵠哌嗪；1-[3-(三氟甲基）吡啶-2-基]哌嗪；1-[4-(甲基磺?；┍交鵠 哌嗪；1-[4-(三氟甲基）嘧啶-2-基]哌嗪；1-(1H-咪唑-2-基甲基）哌嗪；1-(2,6-二甲 基吡啶-4-基）哌嗪；1-(2-二苯甲氧-乙基）-哌嗪；1-(2-羥乙基）-4-異丙基-哌嗪； 1-(2-咪唑-1-基-乙基）-哌嗪；1-(2-異氰基-乙基）-4-甲基-哌嗪；1-(2-甲基-噻 唑-4-基甲基）-哌嗪；1- (2-N-Boc-氨基乙基）哌嗪；1- (2-吡啶-2-基-乙基）-哌嗪； 1-(2-吡啶-4-基-乙基）-哌嗪；1-(2-噻吩-2-基-乙基）-哌嗪；1-(3, 5-二甲基-異 P惡唑-4-基甲基）-哌嗪；1-(3-甲氧基-苯甲基）-哌嗪；1-(3-甲基-苯甲酰基）-哌嗪； 1-(3-甲基-吡啶-2-基甲基）哌嗪；1-(3-甲基吡啶-2-基）哌嗪；1-(3-甲基吡啶-4-基） 哌嗪；1-(4,6-二甲基嘧啶-2-基）哌嗪；1-(4-氰基-苯甲基）哌嗪；1-(4-乙氧基-苯磺 ?；哌嗪；1-(4-乙氧基-吡啶-2-基）-哌嗪；1-(4-氟苯甲基）-4-(2-羥乙基）哌嗪； 1-(4-輕基-苯基）-哌嗪-4-羧酸叔丁酯；N-Boc-哌陡；2-甲基哌嗪；2,6-二甲基哌嗪； 反式-2,5-二甲基哌嗪；1，4-二甲基哌嗪；00-1-8〇(：-3-甲基哌嗪；1-8〇(3-3-氧代哌嗪 ；1， 4-雙-(2-甲氧基5-甲基-苯磺酰基）-2-甲基-哌嗪；1-[(1-甲基-1H-吡唑-3-基）羰 基]哌嗪；1-[(1_甲基-1H-吡唑-4-基）甲基]哌嗪；1-(2-(Ν，N-雙-(2-羥丙基）-氨 基）-乙基）-4-(2-羥丙基）-哌嗪；1-(2-甲氧基苯基）-4-((4-(2-甲氧基苯基）-1-哌嗪 基）（氧代）乙?；┻哙?；1-(3-(2,3_二氫-1，4-苯并二噁英-6-基）丙烯?；?4-(4-氟 苯基）哌嗪；1- (4-氯苯基）-4- [ (7- {[4- (4-氯苯基）-1-哌嗪基]磺?；鶀 -9H-芴-2-基） 磺?；鵠哌嗪；1-(4-氟苯基）-4-((4-(4-氟苯基）-1-哌嗪基）（氧代）乙?；┻哙?； 1-(4-硝基苯基）-4-(3-{[4-(4_硝基苯基）-1-哌嗪基]羰基}苯甲酰基）哌嗪；1-(4-硝基 苯基）-4- (4- {[4- (4-硝基苯基）-1-哌嗪基]羰基}苯甲?；┻哙?；1-乙?；?4- (1-乙 基-1H-咪唑-2-基）哌嗪；1-二苯甲基-4-{2-[5-(苯甲基硫基）-4-(2-甲基-2-丙烯 基）-4Η-1，2,4-三唑-3-基]乙基}哌嗪；1-苯甲基-4-[2-[(2'，4' -二氟[1，Γ -聯(lián)苯 基]-4-基）氧]乙基]哌嗪；1-苯甲基-4-(3-((2'，4'_二氟（1，Γ-聯(lián)苯基）-4-基）氧] 丙基]哌嗪；1-異丙基-4-[(1-甲基-1H-吡咯-2-基）甲基]哌嗪；1-甲基-4-({7-[(4-甲 基-1-哌嗪基）磺?；鵠-9H-芴-2-基}磺?；┻哙海?-苯基-4-[苯基（4-苯基-1-哌 嗪基）甲基]哌嗪；1-甲基-4-(甲基磺?；┻哙海?-(2-羥基-乙基）-哌嗪-1-羧酸 (4-異丙基-苯基）_酰胺；6-羥甲基-1，3-二甲基-哌嗪-2, 5-二酮；2, 2' -(哌嗪-1， 4-二基）二乙烷磺酸雙（2-甲氧基苯基）酯；1-(金剛烷-1-亞磺酰基）-4-甲基-哌 嗪；1-(苯基磺酰基）-4-(2-吡啶基）哌嗪；1-苯甲基-4-(2-甲氧基丙?；┻哙?；1-環(huán) 己基-4-(甲基磺?；┻哙海?-乙基-4-(3-呋喃基甲基）哌嗪；1-(3-苯氧基-4-吡啶 基）哌嗪；1-(2-吡啶基）-4-(3-(2,3,4_三甲氧基苯基）丙烯?；┻哙?；1-(3-(1，3_苯 并二氧雜環(huán)戊烯 _5_基）丙烯醜基）-4-(2-批陡基）哌嗪；1_(3_(1，3_苯并二氧雜環(huán)戊 烯-5-基）丙烯?；?4-(4-甲氧基苯基）哌嗪；1，4-雙-(2-吡啶基亞甲基氨基）-哌嗪； 1，4-雙-(3,4, 5-三甲氧基苯亞甲基氨基-哌嗪；1，4-雙-(乙酰乙?；?哌嗪；1，4-二 (2-呋喃甲酰基）哌嗪；1，4-雙[2-(4-吡啶基）乙基]哌嗪；1，4-雙[2-(2-吡啶基）乙基] 哌嗪；1，4-雙（2-羧基苯甲?；┻哙?；1，4-雙（3-吡啶基甲基）哌嗪；1-(乙氧基羰基甲 基）哌嗪；2, 3, 5,6-四輕基-哌嗪_1，4_二甲醒；4-苯甲基-哌嗪-1-羧酸環(huán)己基酰胺；2, 2'-(哌嗪-1，4-二基）雙（2-乙醛酸）二乙酯；2,2'_ (哌嗪-1，4-二基）二乙酸二乙酯； 3,3'_(哌嗪-1，4-二基）二丙酸二甲酯；細(xì)，21)-3,3'-(哌嗪-1，4-二基）雙（1-(2-羥 基苯基）丙-2-烯-1-酮）；2,2'_(哌嗪-1，4-二基）雙（N-(l，5-二甲基-3-氧代-2-苯 基-2,3-二氫-1H-吡唑-4-基）乙酰胺）；2,2'_ (哌嗪-1，4-二基）二丙酰胺；2,2'_ (哌 嗪-1，4-二基）二丙腈；3,3' -(哌嗪-1，4-二基）雙（1-(9H-咔唑-9基）丙烷-2-醇） 富馬酸酯；3,3' -(哌嗪-1，4-二基）雙（1-苯基丙烷-1-酮）；3,3' -(哌嗪-1，4-二基） 二丙烷-1-醇；4,4'_ (哌嗪-1，4-二基）雙（3-乙氧基環(huán)丁-3-烯-1，2-二酮）；哌嗪-1， 4-二硫代羧酸雙-苯基酰胺；1，4-二-叔丁基-哌嗪-2, 5-二酮；1，4-雙十二烷基-哌嗪； 1，4-雙十六烷基-哌嗪；1-(1-哌啶基羰基）哌嗪；1-(1-金剛烷基甲基）哌嗪；1-(3,4-二 甲氧基苯甲基）哌嗪；1-(3-吡啶基羰基）哌嗪；4-哌嗪基苯甲腈；（S)-3-甲基-2-酮哌嗪； (R)-3-甲基-2-酮哌嗪；4-(Boc-哌嗪-1-基）-3-硝基苯甲酸；1，Γ-(哌嗪-1，4-二基） 二丙烷-2-醇；2, 2'-(哌嗪-1，4-二基）雙（1-苯基乙醇）；2, 2'-(哌嗪-1，4-二基）雙 (2-甲基丙腈）；哌嗪-Ν，Ν'_雙（2-乙烷磺酸）；1-甲?；哙海籔IPES鈉鹽；PIPES二鈉鹽； PIPES二鉀鹽；哌嗪-N，N'_雙（2-羥基丙烷磺酸）；1_哌嗪羧酸乙酯；P0PS0二鈉鹽；4-羥 基-3-甲氧基苯基乙二醇半哌嗪鹽；檸檬酸倍半哌嗪鹽水合物；4-(2-羥乙基）哌嗪-1-乙 烷磺酸；4-(2-羥乙基）-1-哌嗪丙烷磺酸；HEPES鈉鹽；N-(2-羥乙基）哌嗪-Ν' -(4- 丁 烷磺酸）；3-甲基-2-酮哌嗪；HEPES鉀鹽；3-哌嗪基丙腈；哌嗪乙酸乙酯；雌酮硫酸酯哌 嗪；1-哌嗪丙醇；4-(2-氨基-1-苯基乙基）哌嗪羧酸叔丁酯；4-[2-(氨基甲基）苯基]哌 嗪-1-羧酸叔丁酯；4-[5-(羥甲基）吡啶-2-基]哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(3-氨基苯甲基） 哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(4-[(甲基氨基）甲基]苯基）哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(4-氰基吡 陡-2-基）哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(5-甲酰基批陡-2-基）哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(氧 雜環(huán)丁烷-3-基）哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(哌啶-3-基）哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(吡咯 烷-2-基羰基）哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(1H-吡咯并[2, 3-b]批啶-4-基）哌嗪-1-羧酸叔 丁酯；1-[2-(2,5_二甲基-1H-吡咯-1-基）乙基]哌嗪；1-((1，5_二甲基-1H-吡唑-4-基） 甲基）哌嗪；1-(1-乙基-5-甲基-1H-吡唑-4-基甲基）-哌嗪；4-(2-氨基-1-[4-(三氟 甲基）苯基]乙基）哌嗪羧酸叔丁酯；3-(4-氟-苯基）-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；3-(4-羥 基-苯基）-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；3-呋喃-2-基-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；3-噻吩-2-基-哌 嗪-1-羧酸苯甲酯；4-(2-氨基-苯基）-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-(2-氨基乙基）-1-13〇(3-哌 嗪；4-(5-羧基-吡啶-2-基）-2-甲基-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；4-Boc-l-(6-甲基-2-吡啶 基）哌嗪；Fmoc-4-羧甲基-哌嗪；4-Boc-哌嗪-2-羧酸甲酯；N，N-二甲基-1-哌嗪磺酰胺； N-l-Boc-N-4-Fmoc_2-脈嚷竣酸；N-4-Boc-N-l-cbz_2-脈嚷竣酸；N-4-Boc-N-l-Fmoc_2-脈 嗪乙酸；哌嗪-1-甲脒與硫酸化合物（1 : 1) ;1_乙基-4-哌啶-4-基-哌嗪；1-呋喃-2-基 甲基-哌嗪；1-甲基-4-(2-哌啶-4-基-乙基）-哌嗪；1-甲基-4-(6-氨基吡啶-3-基） 哌嗪；1-甲基-4-(哌啶-4-基）-哌嗪；l-N-Boc-4-(氮雜環(huán)丁烷-3-基）哌嗪；1-吡 啶-2-基甲基-哌嗪；1-吡啶-3-基甲基-哌嗪；1-噻唑-2-基-哌嗪；2- (2, 5-二甲氧 基-苯基）-哌嗪；2-羧甲基-3-氧代-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；2-乙氧基羰基甲基-3-氧 代-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；1-(4-甲基-環(huán)己基）-哌嗪；1-(4-甲基-哌陡-1-磺?；?哌 嗪；1-(4-三氟甲基-吡啶-2-基）-哌嗪；1-(5-甲基-2-吡啶基）哌嗪；1-(5-甲基-2-噻 唑基）哌嗪；1-(5-硝基吡啶-2-基）哌嗪；1-(6-丁氧基-2-吡啶基）哌嗪；1-(6-甲基 吡啶-2-基）哌嗪；1-(N-甲基哌啶-3-基-甲基）哌嗪；1-(噻吩-2-基乙?；┻哙?； l-Boc_4-(哌陡-4-基）-哌嗪；l-Boc-4-氰基甲基-哌嗪；1-環(huán)己-3烯基甲基-哌嗪，及 其組合。
5. 權(quán)利要求1所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述哌嗪衍生物選自 (R)-哌嗪-2-羧酸；1-(2-羥乙基）哌嗪；哌嗪-2,6-二酮；1-(2-氨乙基）哌嗪；1，4-雙 (2-羥乙基）哌嗪；1，4_雙（丙烯?；┻哙?；哌嗪-1-乙酸叔丁酯；1-(3-甲基苯甲基） 哌嗪；4-(哌嗪-1-羰基）-哌陡-1-羧酸叔丁酯；哌嗪-1-羧酸二乙酰胺；哌嗪-1-磺 酰胺；哌嗪-2-羧酰胺；1，2_二甲基-哌嗪；2-異丙基-哌嗪；1-(2-嘧啶基）哌嗪； 1-(2-吡嗪基）_哌嗪；1-(6-噠嗪基）哌嗪；1-(3-羥基苯基）哌嗪；1-(2-吡啶基）哌 嗪；1-(4-甲氧基苯基）哌嗪；1-(4-吡啶基）哌嗪；1-(4-氨基苯基）哌嗪；1-(4-甲氧基 苯甲基）哌嗪；1-(2-氰基苯基）哌嗪；1-(2-甲氧基乙基）哌嗪；1-Boc-哌嗪-2-羧酸； 1-(2-乙氧基乙基）哌嗪；（R)-l-Boc-哌嗪-2-羧酸；（R)-3-羥甲基-哌嗪1-羧酸叔丁 酯；(R) -4-N-Boc-哌嗪-2-羧酸；（S) -3-輕甲基-哌嗪-1-羧酸叔丁酯；（S) -4-N-Boc-哌 嗪-2-羧酸；1-(1-哌啶磺?；┻哙海?-(2-二異丙基氨基乙基）哌嗪；1-(2-二丙基氨基 乙基）哌嗪；1-(2-乙氧基苯基）哌嗪；1-(2-乙基丁酰基）哌嗪；1-(2-異丙氧基乙基）哌 嗪；1-(2-甲巰基苯基）哌嗪；1-(2-嗎啉基乙基）哌嗪；1-(2-哌啶基乙基）哌嗪；1-(2-吡 咯烷基乙基）哌嗪；1-(3-氨基丙基）哌嗪；1-(3-氰基丙基）哌嗪；1-(3-二乙氨基丙基） 哌嗪；1-(3-二丙氨基丙基）哌嗪；1-(3-甲氧基丙基）哌嗪；1-(3-嗎啉基丙基）哌嗪； 1-(3-哌啶基丙基）哌嗪；1-(3-吡咯烷基丙基）哌嗪；1-(4-甲氧基丁基）哌嗪；1-(4-吡 啶基甲基）哌嗪；1_(乙烷磺?；┻哙海?-氧代-哌嗪-2-羧酸；4-甲基哌嗪-1-羧酸酯； 1，4-雙（3-氨基丙基）哌嗪；1-[2-(2-羥基乙氧基）乙基]哌嗪；4-(5-氨基吡啶-2-基） 哌嗪-1-羧酸叔丁酯；1-[2-(二甲氨基）乙基]哌嗪；1-(1-甲基-4-哌啶基）哌嗪；1-氨 基-4-(2-羥基乙基）哌嗪；1-(3-氨基丙基）-4-(2-甲氧基苯基）哌嗪；1-[3-(二甲氨 基）丙基]哌嗪；1-(4-氨基丁基）-4-(2-甲氧基苯基）哌嗪；1-[3-(1-哌啶羰基）-2-吡 啶基]哌嗪；1-(1H-咪唑-2-基甲基）哌嗪；1-(2,6_二甲基吡啶-4-基）哌嗪；1-(2-羥 乙基）-4_異丙基-哌嗪；1-(2-咪唑-1-基-乙基）-哌嗪；1-(2-異氰基-乙基）-4-甲 基-哌嗪；1-(4-乙氧基-吡啶-2-基）-哌嗪；2-甲基哌嗪；2,6-二甲基哌嗪；反式-2, 5-二 甲基哌嗪；1，4-二甲基哌嗪；1，4-雙（3-吡啶基甲基)哌嗪；1-(乙氧基羰基甲基）哌嗪；2， 3, 5,6-四羥基-哌嗪-1，4-二甲醛；3, 3' -(哌嗪-1，4-二基）二丙酸二甲酯；2, 2' -(哌 嗪-1，4-二基）二丙酰胺；2,2' -(哌嗪-1，4-二基）二丙腈；(R)-3-甲基-2-酮哌嗪；2， 2'-(哌嗪-1，4-二基）雙（2-甲基丙腈）；哌嗪-N，N，_雙（2-乙烷磺酸）；1_甲?；哙?； PIPES鈉鹽；PIPES二鈉鹽；PIPES二鉀鹽；哌嗪-N，Ν' -雙（2-羥基丙烷磺酸）；1_哌嗪羧 酸乙酯；P0PS0二鈉鹽；4-羥基-3-甲氧基苯基乙二醇半哌嗪鹽；4-(2-羥乙基）哌嗪1-乙 烷磺酸；4-(2-羥乙基）-1-哌嗪丙烷磺酸；HEPES鈉鹽；Ν-(2-羥乙基）哌嗪-Ν'-(4-丁烷 磺酸）；3-甲基-2-酮哌嗪；HEPES鉀鹽；3-哌嗪基丙腈；哌嗪乙酸乙酯，及其組合。
6. 權(quán)利要求1所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述哌嗪衍生物選自 1-(2-氨乙基）哌嗪，1，4_雙（3-氨基丙基）哌嗪，及其組合。
7. 前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，所述化學(xué)添加劑 是或包含選自如下的氰酸鹽：氰酸鉀，氰酸鈉，氰酸銨，氰酸烷基銨，及其組合。
8. 前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的鎢化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物，其中，其還包含如下的 一種或多種 腐蝕抑制劑； pH緩沖劑； 表面活性劑；以及 當(dāng)拋光組合物的pH為5. 0-8. 0時(shí)的殺生物劑。
9. 前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的組合物，其中，所述組合物的其余部分基本上是液體載 體。
10. 前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的組合物，其中，所述納米尺寸磨料是膠體二氧化硅；所 述固體催化劑是氧化鐵涂布的膠體二氧化硅；所述化學(xué)添加劑是1-(2-氨乙基）哌嗪或氰 酸鉀；所述氧化劑是過氧化氫；所述腐蝕抑制劑聚氮丙啶是任選存在的；以及所述組合物 的其余部分是去離子水。
11. 選擇性化學(xué)機(jī)械拋光的方法，包含下列步驟： a) 提供具有包含鎢和至少一種其它材料的表面的半導(dǎo)體基材； b) 提供拋光墊； c) 提供前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物； d) 使半導(dǎo)體基材的表面與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物接觸；以及 e) 拋光所述半導(dǎo)體基材的表面； 其中所述包含鎢的表面的至少一部分與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物二者 接觸；并且鎢的去除速率與所述至少一種其它材料的去除速率的比率等于或大于1。
12. 選擇性化學(xué)機(jī)械拋光的系統(tǒng)，包含： a) 拋光墊； b) 權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)組合物。
13. 權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其還包含具有包含鎢和至少一種其它材料的表面的半導(dǎo) 體基材；其中所述包含鎢的表面的至少一部分與所述拋光墊和所述化學(xué)機(jī)械拋光組合物二 者接觸。
【文檔編號(hào)】H01L21/768GK104046246SQ201410265586
【公開日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年3月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月12日
【發(fā)明者】史曉波, 周鴻君, B·J·盧, J·A·施呂特, J-A·T·施瓦茨 申請(qǐng)人:氣體產(chǎn)品與化學(xué)公司