一種操作平臺的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種操作平臺，所述操作平臺包括：操作空間、純化裝置、第一傳感器組以及供氣裝置，所述供氣裝置包括：進(jìn)氣端、出氣端、用于檢測所述進(jìn)氣端輸入的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量的第二傳感器組以及第一電磁閥，設(shè)置在所述出氣端和所述進(jìn)氣端之間，用于根據(jù)所述第二傳感器組的檢測結(jié)果，控制所述供氣裝置向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體。本發(fā)明通過增加一組傳感器，可以解決不能對供氣裝置提供的保護(hù)氣體中水或氧含量進(jìn)行檢測，以及檢測結(jié)果不準(zhǔn)確和異常原因難以排查的技術(shù)問題。
【專利說明】一種操作平臺
【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示器封裝領(lǐng)域，特別是涉及一種操作平臺。
【【背景技術(shù)】】
[0002]隨著OLED (Organic Light Emitting Display,有機(jī)發(fā)光顯示器)技術(shù)發(fā)展迅猛，大量科研人員圍繞OLED相關(guān)技術(shù)進(jìn)行研發(fā)開發(fā),而作為OLED技術(shù)關(guān)鍵技術(shù)之一，OLED封裝技術(shù)也成為研究熱點(diǎn)之一。
[0003]由于OLED器件材料的特殊光電性能，需要在較低水氧環(huán)境之下的手套箱內(nèi)進(jìn)行封裝，由于高濃度的水或者氧進(jìn)入手套箱(glove box)會導(dǎo)致器件結(jié)構(gòu)被破壞，影響器件壽命O
[0004]手套箱是將高純惰性氣體充入箱體內(nèi)，并循環(huán)過濾掉其中的活性物質(zhì)的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，也稱惰性氣體保護(hù)箱、干箱等，主要對02、H20、有機(jī)氣體的清除。廣泛應(yīng)用于無水、無氧、無塵的超純環(huán)境，譬如:鋰離子電池及材料、半導(dǎo)體、超級電容、特種燈、激光焊接、釬焊等。
[0005]因此，OLED封裝制程需在低濃度的水或者氧環(huán)境下(譬如1ppm以下(ppm表示一百萬份單位質(zhì)量的溶液中所含溶質(zhì)的質(zhì)量))進(jìn)行，一般在OLED封裝過程中充入氮?dú)?，由于手套箱不是密閉的空間，在手套箱內(nèi)氣壓降低時，空氣中的水和氧分子會進(jìn)入手套箱內(nèi)，因此需要使用純化裝置或純化系統(tǒng)(purify system)對手套箱內(nèi)的保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理，來維持低水氧環(huán)境。
[0006]請參閱圖1，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的純化裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007]現(xiàn)有的純化裝置主要包括入口過濾器、純化單元(reactor)、循環(huán)風(fēng)機(jī)(blower)、冷卻器(cooler)、出口過濾器(filter)等結(jié)構(gòu)單元。在外置循環(huán)風(fēng)機(jī)的作用下，純化裝置不斷對手套箱內(nèi)的保護(hù)氣體進(jìn)行循環(huán)凈化，使得手套箱內(nèi)水氧指標(biāo)保持在1ppm以下。當(dāng)傳感器組(包括氧傳感器、水傳感器)檢測手套箱內(nèi)水或者氧氣的濃度值大于1ppm時，操作平臺會進(jìn)行換氣(Purging)動作，即通過供氣裝置輸入保護(hù)氣體，從而降低手套箱內(nèi)水和氧的濃度。但現(xiàn)有操作平臺存在以下缺陷:當(dāng)供氣裝置(虛線框所示)提供的保護(hù)氣體水或氧含量偏高，現(xiàn)有操作平臺無法檢測出；現(xiàn)有純化裝置僅設(shè)置一組水氧傳感器，當(dāng)手套箱與純化裝置局部漏氣時或者當(dāng)水或氧傳感器的探頭靈敏度降低時，導(dǎo)致檢測結(jié)果不準(zhǔn)確，且無法對水或氧含量偏高(異常情況)的原因進(jìn)行排查。
[0008]故，有必要完善現(xiàn)有的操作平臺，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0009]本發(fā)明的一個目的在于提供一種操作平臺，以解決現(xiàn)有操作平臺無法對供氣裝置所提供保護(hù)氣體中水或氧含量進(jìn)行檢測；當(dāng)手套箱與純化裝置局部漏氣時或者當(dāng)水或氧傳感器的探頭靈敏度降低時，導(dǎo)致檢測結(jié)果不準(zhǔn)確，且無法對異常原因進(jìn)行排查的技術(shù)問題。
[0010]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明構(gòu)造了一種操作平臺，所述操作平臺包括:
[0011]操作空間，用于提供待操作物品的操作環(huán)境，所述操作空間內(nèi)設(shè)置有保護(hù)氣體，其中所述保護(hù)氣體用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蝕；
[0012]純化裝置，用于對所述操作空間中的保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理，所述純化裝置包括一氣體輸入端和一氣體輸出端；
[0013]第一傳感器組，設(shè)置在所述純化裝置的氣體輸入端，用于檢測所述操作空間中的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及
[0014]供氣裝置，用于當(dāng)所述第一傳感器組檢測到所述保護(hù)氣體中的水含量大于第一閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于第二閾值時，向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體；其包括:
[0015]進(jìn)氣端，用于輸入所述保護(hù)氣體；
[0016]出氣端，用于向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體；
[0017]第二傳感器組，用于檢測所述進(jìn)氣端輸入的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及
[0018]第一電磁閥，設(shè)置在所述出氣端和所述進(jìn)氣端之間，用于根據(jù)所述第二傳感器組的檢測結(jié)果，控制所述供氣裝置向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體。
[0019]在本發(fā)明的操作平臺中，所述第一電磁閥設(shè)置在第二傳感器組和所述出氣端之間。
[0020]在本發(fā)明的操作平臺中，所述供氣裝置還包括第二電磁閥，所述第二電磁閥設(shè)置在第二傳感器組與所述進(jìn)氣端之間。
[0021]在本發(fā)明的操作平臺中，當(dāng)所述第一電磁閥開啟且所述第二電磁閥關(guān)閉時，所述第二傳感器組還用于檢測所述純化裝置的氣體輸出端的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量。
[0022]在本發(fā)明的操作平臺中，所述供氣裝置的出氣端與所述純化裝置的氣體輸出端連接。
[0023]在本發(fā)明的操作平臺中，所述供氣裝置還包括過濾膜，所述過濾膜設(shè)置在所述第二電磁閥和所述第二傳感器組之間。
[0024]在本發(fā)明的操作平臺中，當(dāng)所述第二傳感器組檢測的結(jié)果為所述進(jìn)氣端輸入的所述保護(hù)氣體中的水含量大于第三閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于所述第四閾值時，所述第一電磁閥關(guān)閉。
[0025]在本發(fā)明的操作平臺中，所述操作平臺還包括壓力檢測裝置，所述供氣裝置還用于當(dāng)所述壓力檢測裝置檢測到所述保護(hù)氣體的壓力與大氣壓的差值小于一預(yù)設(shè)值時，向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體。
[0026]在本發(fā)明的操作平臺中，所述預(yù)設(shè)值的范圍為I毫巴至2毫巴。
[0027]在本發(fā)明的操作平臺中，所述保護(hù)氣體為氮?dú)狻?br> [0028]本發(fā)明的操作平臺，通過增加一組傳感器，可以解決能夠檢測供氣裝置提供的保護(hù)氣體中水或氧含量，以及提高檢測結(jié)果的準(zhǔn)確度、利于異常原因排查的技術(shù)問題。
[0029]為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下:
【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0030]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中操作平臺結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中第一實(shí)施例的操作平臺結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例中供氣裝置的第一種連接方式的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖4為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例中供氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖5為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例的中供氣裝置的第一種連接方式的局部放大示意圖；
[0035]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例中供氣裝置的第二種連接方式的結(jié)構(gòu)示意圖?！尽揪唧w實(shí)施方式】】
[0036]以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。
[0037]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中第一實(shí)施例的操作平臺結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]請參照圖2，所述操作平臺包括操作空間10、純化裝置20、第一傳感器組40、供氣裝置30:
[0039]所述操作空間10，用來提供待操作物品的操作環(huán)境，所述操作空間內(nèi)設(shè)置有保護(hù)氣體，其中所述保護(hù)氣體用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蝕；所述操作空間10譬如為封裝OLED使用的手套箱；所述待操作物品譬如為0LED。
[0040]所述純化裝置20，用來對所述操作空間10中的保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理，所述純化裝置20包括一氣體輸入端201和一氣體輸出端202，其中所述操作空間10中的保護(hù)氣體首先進(jìn)入所述氣體輸入端201，經(jīng)所述純化裝置20純化處理后由所述氣體輸出端202輸出；
[0041]所述第一傳感器組40包括水傳感器和氧傳感器，設(shè)置在所述純化裝置的氣體輸入端201，用來檢測所述操作空間10中的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及
[0042]由于純化裝置20對保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理的能力是有限的，當(dāng)所述操作空間10中的保護(hù)氣體的水和氧含量比較多時，僅靠原有的所述純化裝置20不能對保護(hù)氣體進(jìn)行純化，為了節(jié)省生產(chǎn)成本，需要通過供氣裝置30(虛線框所示)向所述操作空間10輸入所述保護(hù)氣體，即進(jìn)行換氣。即當(dāng)所述第一傳感器組40檢測到所述保護(hù)氣體中的水含量大于第一閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于第二閾值時，所述供氣裝置30向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體；所述第一閾值譬如為1ppm ;所述第二閾值譬如為1ppm ；(當(dāng)然所述第一閾值和第二閾值可以根據(jù)所述待操作物品所需的操作環(huán)境自行設(shè)定)。
[0043]所述供氣裝置30包括進(jìn)氣端301和出氣端302 ;其中所述進(jìn)氣端301連接保護(hù)氣體存儲箱，用來輸入所述保護(hù)氣體；所述出氣端302，用來向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體；
[0044]所述供氣裝置30還包括第二傳感器組303和第一電磁閥304，第二傳感器組303包括水傳感器和氧傳感器，用于檢測所述進(jìn)氣端301輸入的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及
[0045]所述第一電磁閥304，設(shè)置在所述出氣端302和所述進(jìn)氣端301之間，用來根據(jù)所述第二傳感器組303的檢測結(jié)果，控制所述供氣裝置30向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體。
[0046]優(yōu)選地，所述第一電磁閥304設(shè)置在第二傳感器組303和所述出氣端302之間。
[0047]當(dāng)所述第二傳感器組303檢測的結(jié)果為所述進(jìn)氣端301輸入的所述保護(hù)氣體中的水含量大于所述第三閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于所述第四閾值時，所述第一電磁閥304關(guān)閉，所述供氣裝置30不能向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體；其中，所述第三閾值小于所述第一閾值；所述第四閾值小于所述第二閾值；
[0048]當(dāng)所述第二傳感器組303檢測的結(jié)果為所述進(jìn)氣端301輸入的所述保護(hù)氣體中的水含量小于所述第三閾值和所述保護(hù)氣體中的氧含量小于所述第四閾值時，所述第一電磁閥304開啟，所述供氣裝置30能夠向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體。
[0049]優(yōu)選地，所述操作平臺還包括壓力檢測裝置，通常所述保護(hù)氣體的壓力大于一個大氣壓，當(dāng)所述壓力檢測裝置檢測到所述保護(hù)氣體的壓力與大氣壓的差值小于一預(yù)設(shè)值時，所述供氣裝置30向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體。所述預(yù)設(shè)值的范圍為I毫巴至2毫巴。
[0050]當(dāng)所述第一傳感器組40不夠靈敏，或者純化裝置20漏氣導(dǎo)致的水或者氧含量偏高，通過所述第二傳感器303能夠方便找出水或者氧含量異常原因，同時當(dāng)其中任意一組傳感器組檢測到水或者氧含量偏高時，進(jìn)行報警，利于對水或者氧含量異常及時處理。
[0051 ] 所述保護(hù)氣體譬如為氮?dú)狻?br> [0052]本發(fā)明的操作平臺，通過增加一組傳感器，解決了能夠檢測供氣裝置提供的保護(hù)氣體中水或氧含量，以及提高檢測結(jié)果的準(zhǔn)確度和利于異常原因排查的技術(shù)問題。
[0053]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例中供氣裝置的第一種連接方式的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0054]請參照圖3，所述操作平臺包括操作空間10、純化裝置20、第一傳感器組40、供氣裝置30:
[0055]所述操作空間10，用來提供待操作物品的操作環(huán)境，所述操作空間內(nèi)設(shè)置有保護(hù)氣體，其中所述保護(hù)氣體用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蝕；所述操作空間10譬如為封裝OLED使用的手套箱；所述待操作物品譬如為0LED。
[0056]所述純化裝置20，用來對所述操作空間10中的保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理，所述純化裝置20包括一氣體輸入端201和一氣體輸出端202 ;其中所述操作空間10中的保護(hù)氣體首先進(jìn)入所述氣體輸入端201，經(jīng)所述純化裝置20純化處理后由所述氣體輸出端202輸出；
[0057]所述第一傳感器組40包括水傳感器和氧傳感器，設(shè)置在所述純化裝置的氣體輸入端201，用來檢測所述操作空間10中的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及
[0058]由于純化裝置20對保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理的能力是有限的，當(dāng)所述操作空間10中的保護(hù)氣體的水和氧含量比較多時，僅靠原有的所述純化裝置20不能對保護(hù)氣體進(jìn)行純化，為了節(jié)省生產(chǎn)成本，需要通過供氣裝置30向所述操作空間10輸入所述保護(hù)氣體，SP進(jìn)行換氣，即當(dāng)所述第一傳感器組40檢測到所述保護(hù)氣體中的水含量大于第一閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于第二閾值時，所述供氣裝置30向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體；所述第一閾值譬如為1ppm ;所述第二閾值譬如為1ppm ；(當(dāng)然所述第一閾值和第二閾值可以根據(jù)所述待操作物品所需的操作環(huán)境自行設(shè)定)。
[0059]所述供氣裝置30包括進(jìn)氣端301和出氣端302 ;其中所述進(jìn)氣端301連接保護(hù)氣體存儲箱，用來輸入所述保護(hù)氣體；所述出氣端302，用來向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體；
[0060]所述供氣裝置30還包括第二傳感器組303和第一電磁閥304，第二傳感器組303包括水傳感器和氧傳感器，用于檢測所述進(jìn)氣端301輸入的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及
[0061]所述第一電磁閥304，設(shè)置在所述出氣端302和所述進(jìn)氣端301之間，用來根據(jù)所述第二傳感器組303的檢測結(jié)果，控制所述供氣裝置30向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體。
[0062]優(yōu)選地，所述第一電磁閥304設(shè)置在第二傳感器組303和所述出氣端302之間。
[0063]當(dāng)所述第二傳感器組303檢測的結(jié)果為所述進(jìn)氣端301輸入的所述保護(hù)氣體中的水含量大于所述第三閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于所述第四閾值時，所述第一電磁閥304關(guān)閉，所述供氣裝置30不能向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體；其中，所述第三閾值小于所述第一閾值；所述第四閾值小于所述第二閾值；
[0064]當(dāng)所述第二傳感器組303檢測的結(jié)果為所述進(jìn)氣端301輸入的所述保護(hù)氣體中的水含量小于所述第三閾值和所述保護(hù)氣體中的氧含量小于所述第四閾值時，所述第一電磁閥304開啟，所述供氣裝置30能夠向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體。
[0065]優(yōu)選地，所述操作平臺還包括壓力檢測裝置，通常所述保護(hù)氣體的壓力大于一個大氣壓，當(dāng)所述壓力檢測裝置檢測到所述保護(hù)氣體的壓力與大氣壓的差值小于一預(yù)設(shè)值時，所述供氣裝置30向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體。所述預(yù)設(shè)值的范圍為I毫巴至2毫巴。
[0066]本實(shí)施例和第一實(shí)施例的區(qū)別在于:所述供氣裝置30 (如圖4虛線框所示)，還包括第二電磁閥305，所述第二電磁閥305設(shè)置在第二傳感器組303與所述進(jìn)氣端301之間。
[0067]請參照圖4和圖5，其中圖4為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例中供氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例的中供氣裝置的第一種連接方式的局部放大示意圖；
[0068]當(dāng)所述供氣裝置30不向所述操作空間10輸出所述保護(hù)氣體時，此時將所述第二電磁閥305關(guān)閉且將所述第一電磁閥304開啟，由于所述供氣裝置30的出氣端302與所述純化裝置20的氣體輸出端202連接，使得所述保護(hù)氣體能夠從所述純化裝置20的氣體輸出端202流向所述供氣裝置30的出氣端302，因此可以使用所述第二傳感器組303檢測所述純化裝置20的經(jīng)過純化處理后的所述保護(hù)氣體中的水含量以及氧含量。
[0069]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中第二實(shí)施例中供氣裝置的第二種連接方式的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0070]請參照圖6，當(dāng)然所述供氣裝置30的出氣端302也可以設(shè)置在所述純化裝置20的氣體輸出端202位置的附近。由于靠近所述純化裝置20的氣體輸出端202位置處，經(jīng)過純化處理后的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量，和所述純化裝置的氣體輸出端的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量基本一致，同樣能夠起到檢測所述純化裝置20的經(jīng)過純化處理后的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量的作用。
[0071]當(dāng)所述第一傳感器組40不夠靈敏，或者純化裝置20漏氣導(dǎo)致的水或者氧含量偏高，通過所述第二傳感器303能夠方便找出水或者氧含量異常原因，同時當(dāng)其中任意一組傳感器組檢測到水或者氧含量偏高時，進(jìn)行報警，利于對水或者氧含量異常及時處理。
[0072]結(jié)合圖4，所述供氣裝置30還包括過濾膜306，所述過濾膜306連接在所述第二電磁閥305和所述第二傳感器組303之間。由于所述供氣裝置30輸入的保護(hù)氣體中含有雜質(zhì)和大分子(相對分子質(zhì)量在5000以上)的水和氧。由于雜質(zhì)和大分子的水和氧氣會氧化水傳感器或者氧傳感器的探頭，同時如果雜質(zhì)和大分子的水和氧氣被輸出到操作空間時，會對所述操作空間內(nèi)的待操作物品造成損壞。因而增加所述過濾膜306，可以進(jìn)一步對水傳感器、氧傳感器、以及待操作物品起到保護(hù)作用。所述保護(hù)氣體譬如為氮?dú)狻?br> [0073]本發(fā)明的操作平臺，通過增加一組傳感器，可以解決現(xiàn)有技術(shù)不能夠檢測所述純化裝置經(jīng)過純化處理后的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量的技術(shù)問題。
[0074]綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種操作平臺，其特征在于:所述操作平臺包括: 操作空間，用于提供待操作物品的操作環(huán)境，所述操作空間內(nèi)設(shè)置有保護(hù)氣體，其中所述保護(hù)氣體用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蝕； 純化裝置，用于對所述操作空間中的保護(hù)氣體進(jìn)行純化處理，所述純化裝置包括一氣體輸入端和一氣體輸出端； 第一傳感器組，設(shè)置在所述純化裝置的氣體輸入端，用于檢測所述操作空間中的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及 供氣裝置，用于當(dāng)所述第一傳感器組檢測到所述保護(hù)氣體中的水含量大于第一閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于第二閾值時，向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體；其包括: 進(jìn)氣端，用于輸入所述保護(hù)氣體； 出氣端，用于向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體； 第二傳感器組，用于檢測所述進(jìn)氣端輸入的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量；以及 第一電磁閥，設(shè)置在所述出氣端和所述進(jìn)氣端之間，用于根據(jù)所述第二傳感器組的檢測結(jié)果，控制所述供氣裝置向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的操作平臺，其特征在于:所述第一電磁閥設(shè)置在第二傳感器組和所述出氣端之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的操作平臺，其特征在于:所述供氣裝置還包括第二電磁閥，所述第二電磁閥設(shè)置在第二傳感器組與所述進(jìn)氣端之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的操作平臺，其特征在于:當(dāng)所述第一電磁閥開啟且所述第二電磁閥關(guān)閉時，所述第二傳感器組還用于檢測所述純化裝置的氣體輸出端的所述保護(hù)氣體的水含量以及氧含量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的操作平臺，其特征在于:所述供氣裝置的出氣端與所述純化裝置的氣體輸出端連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的操作平臺，其特征在于:所述供氣裝置還包括過濾膜，所述過濾膜設(shè)置在所述第二電磁閥和所述第二傳感器組之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的操作平臺，其特征在于: 當(dāng)所述第二傳感器組檢測的結(jié)果為所述進(jìn)氣端輸入的所述保護(hù)氣體中的水含量大于第三閾值或所述保護(hù)氣體中的氧含量大于所述第四閾值時，所述第一電磁閥關(guān)閉。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的操作平臺，其特征在于:所述操作平臺還包括壓力檢測裝置，所述供氣裝置還用于當(dāng)所述壓力檢測裝置檢測到所述保護(hù)氣體的壓力與大氣壓的差值小于一預(yù)設(shè)值時，向所述操作空間輸出所述保護(hù)氣體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的操作平臺，其特征在于:所述預(yù)設(shè)值的范圍為I毫巴至2毫巴。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的操作平臺，其特征在于:所述保護(hù)氣體為氮?dú)狻?br> 【文檔編號】H01L51/56GK104201294SQ201410326756
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年7月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月10日
【發(fā)明者】張凡, 余威 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司