鍵盤裝置制造方法
【專利摘要】本申請?zhí)峁┝艘环N鍵盤裝置，包括：布置在蓋構件的開口中并且是可按壓的鍵頂，設置在鍵頂中的第一磁體，以及包括吸引第一磁體的第二磁體并且支持鍵頂?shù)闹С植糠帧Ｔ撝С植糠种С宙I頂以使其在與鍵頂?shù)母叨确较蛳嘟坏倪\動方向上在其中第一磁體被吸引至第二磁體的第一位置與其中通過按壓釋放吸引的第二位置之間運動。該鍵頂具有沿運動方向形成在邊緣處的斜面。
【專利說明】鍵盤裝置
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]本申請要求以下申請的優(yōu)先權:2013年7月31日提交的日本優(yōu)先權專利申請JP2013-159013，以及2013年9月12日提交的日本優(yōu)先權專利申請JP2013-189378，其全部內(nèi)容通過引用合并到本文中作為參考。

【技術領域】
[0003]本公開內(nèi)容涉及包括可按壓的鍵頂?shù)逆I盤裝置。

【背景技術】
[0004]例如，使用個人計算機的、包括橡膠圓頂和剪形機構的鍵盤來作為鍵盤裝置。在這種鍵盤裝置中，如果用戶按壓鍵頂，則被水平地支持到剪形機構的鍵頂向下按壓橡膠圓頂。因此，采用了一種在薄膜電路(membrane circuit)中形成電聯(lián)接并且傳送輸入信號的機制(參見 JP2012-129140A)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]近年來，存在使鍵盤更薄的需求。為了滿足這種需求，提出了替代橡膠圓頂和剪形機構而使用在磁體對中產(chǎn)生的吸引力的方法。在這種方法中，在磁體對中產(chǎn)生的吸引力被用作用來保持鍵頂?shù)奈恢玫牧?。當用戶按壓鍵頂時，鍵頂被斜向按壓。
[0006]順便提及，在鍵頂斜向運動的情況下，期望擴大其中布置有鍵頂?shù)纳w構件的開口，以防止鍵頂?shù)钟|蓋構件的開口。然而，如果開口被擴大，則開口的內(nèi)邊緣與鍵頂之間的間隙是顯著的，并且存在鍵盤裝置的美學外觀會被破壞的問題。
[0007]因此，本公開提出了一種能夠在不擴大蓋構件的開口的情況下平穩(wěn)地向下按壓鍵盤的鍵盤裝置。
[0008]根據(jù)本公開內(nèi)容的實施方式，提供了一種鍵盤裝置，包括布置在蓋構件的開口中并且是可按壓的鍵頂，設置在鍵頂中的第一磁體，以及包括吸引第一磁體的第二磁體并且支持鍵頂?shù)闹С植糠?。該支持部分支持該鍵頂在與該鍵頂?shù)母叨确较蛳嘟坏倪\動方向上、在該第一磁體被吸引至所述第二磁體的第一位置與通過按壓釋放吸引的第二位置之間運動。該鍵頂具有在邊緣處沿所述運動方向形成的斜面。
[0009]根據(jù)本公開內(nèi)容，通過設置斜面，當鍵頂運動時，不抵觸其中設置有對應鍵頂?shù)拈_口的內(nèi)邊緣。因此，鍵頂可以在第一位置與第二位置之間平穩(wěn)的運動。另外，通過設置斜面，鍵頂?shù)倪吘壟c開口的內(nèi)邊緣之間的間隙能維持為很小，并且因此，不必需要擴大開口。
[0010]如上所述，根據(jù)本公開內(nèi)容，在不擴大蓋構件的開口的情況下鍵盤能夠被平穩(wěn)地向下按壓。
[0011]順便提及，上述的效果不是限制性的，并且，除了上述效果或上述效果的替代效果以外，可以實現(xiàn)本說明書中描述的任何效果或從本說明書中領會的其他效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是示出了根據(jù)本公開內(nèi)容的第一實施方式的電子裝置的外部構造的示例的立體圖；
[0013]圖2是示出了主體側殼體的構造的示例的平面圖；
[0014]圖3是示出了根據(jù)第一實施方式的鍵盤部分的構造的示例的立體圖；
[0015]圖4是示出了根據(jù)第一實施方式的鍵盤部分的分解狀態(tài)的立體圖；
[0016]圖5是示出了支持構件和鍵頂?shù)臉嬙斓氖纠姆纸饬Ⅲw圖；
[0017]圖6是示出了鍵頂?shù)膮⒖嘉恢肞1和輸入位置P2的圖；
[0018]圖7是示出了鍵頂與開口之間的關系的圖；
[0019]圖8是示出了當鍵頂從參考位置運動至輸入位置時，斜面與開口之間的關系的圖；
[0020]圖9是用來描述當用戶向下按壓鍵頂時，鍵盤部分的運動的示例的圖；
[0021]圖10是示出了根據(jù)第二實施方式的電子裝置的構造的示例的圖；
[0022]圖11是示出了根據(jù)第二實施方式的電子裝置的構造的示例的圖；
[0023]圖12是示出了根據(jù)第二實施方式的電子裝置的構造的示例的圖；
[0024]圖13是根據(jù)第二實施方式用來描述電子裝置的滑動操作的圖；
[0025]圖14是根據(jù)第二實施方式用來描述其中顯示側殼體的端部接觸斜面的狀態(tài)的示意圖；
[0026]圖15是根據(jù)比較示例用來描述其中顯示側殼體的端部接觸鍵頂?shù)臓顟B(tài)的示意圖；
[0027]圖16是示出了根據(jù)第三實施方式的鍵頂?shù)男泵娴牡谝粚嵤┓绞降臉嬙斓牧Ⅲw圖；
[0028]圖17是示出了根據(jù)第三實施方式的支持構件的導引面的第一實施方式的構造的立體圖；
[0029]圖18是示出了根據(jù)第三實施方式的支持構件的導引面的第一實施方式的構造的立體圖；
[0030]圖19是示出了根據(jù)第三實施方式的鍵頂?shù)男泵娴牡诙嵤┓绞降臉嬙斓牧Ⅲw圖；
[0031]圖20是示出了根據(jù)第三實施方式的鍵頂?shù)男泵娴牡谌龑嵤┓绞降臉嬙斓牧Ⅲw圖；
[0032]圖21是示出了根據(jù)第三實施方式的支持構件的導引面的第三實施方式的構造的立體圖；以及
[0033]圖22是根據(jù)第三實施方式用來描述鍵頂?shù)男泵媾c前蓋之間的位置關系的立體圖。

【具體實施方式】
[0034]在下文中，將參照附圖詳細地描述本公開內(nèi)容的優(yōu)選的實施方式。應注意，在本說明書和附圖中，使用相同的附圖標記來表示具有基本上相同功能和結構的結構元件，并且省略了對這些結構元件的重復描述。
[0035]順便提及，將按以下順序給出描述。
[0036]1.第一實施方式
[0037]1-1.鍵盤裝置的構造
[0038]1-2.鍵盤部分的詳細構造
[0039]1-3.鍵頂?shù)倪吘壟c前蓋(Bezel)的開口之間的關系
[0040]1-4.鍵盤部分的運動的示例
[0041]2.第二實施方式
[0042]3.第三實施方式
[0043]3-1.鍵頂?shù)男泵娴男螤詈椭С謽嫾膶б娴男螤?br> [0044]3-2.鍵頂?shù)男泵媾c前蓋之間的位置關系
[0045]4.總結
[0046]<1.第一實施方式>
[0047](1-1.鍵盤裝置的構造)
[0048]將在下面描述根據(jù)本公開內(nèi)容第一實施方式的鍵盤裝置的構造。在下文中，將描述圖1中所示的電子裝置10作為鍵盤裝置的示例。
[0049]圖1是示出了根據(jù)本公開內(nèi)容第一實施方式的電子裝置10的外部構造的示例的立體圖。例如，電子裝置10是筆記本式個人計算機。然而，電子裝置10不限于筆記本式個人計算機，并且例如可以是桌上型個人計算機。
[0050]如圖1所示，電子裝置10包括顯示側殼體20、主體側殼體30以及鉸接機構部分40。例如，顯示側殼體20和主體側殼體30中的每個殼體被形成為具有平板形狀并且被形成為具有相同的大小。
[0051]顯示側殼體20包括顯示部分22。例如，顯示部分22包括諸如液晶顯示器的顯示裝置。顯示部分22包括用于顯示各種信息的顯示屏。順便提及，允許用戶執(zhí)行觸摸操作的觸摸面板可以重疊在顯示部分22的顯示屏上。
[0052]主體側殼體30包括用于接收用戶的輸入操作的輸入部分32。輸入部分32對用戶的輸入操作進行檢測并且輸出對應于輸入操作的電信號。當顯示側殼體20處于打開狀態(tài)時(圖1)，用戶通過輸入部分32執(zhí)行輸入操作。
[0053]圖2是示出了主體側殼體30的構造的示例的平面圖。如圖2所示，輸入部分32包括鍵盤部分33或觸摸面板部分34。鍵盤部分33包括用戶可以向下按壓的多個操作鍵。觸摸面板部分34是用戶可以執(zhí)行觸摸輸入的區(qū)域。順便提及，將在下面描述鍵盤部分33的詳細構造。
[0054]鉸接機構部分40將顯示側殼體20以樞接地方式連接至主體側殼體30。鉸接機構部分40被沿軸向方向(圖1中所示的X方向)設置在主體側殼體30的兩側上。由于鉸接機構部分40，所以顯示側殼體20在相對于主體側殼體30打開的打開狀態(tài)(圖1)與相對于主體側殼體30關閉的關閉狀態(tài)之間樞轉。
[0055]順便提及，在上述中，鍵盤裝置被描述為是輸入部分32和顯示部分22被一體地設置的個人計算機，但并不限于此。例如，鍵盤裝置可以是不包括顯示部分22但包括輸入部分32的鍵盤。也就是說，鍵盤裝置可以與顯示裝置分開構造。
[0056](1-2.鍵盤部分33的詳細構造)
[0057]將參照圖3和圖4描述根據(jù)本公開內(nèi)容第一實施方式的鍵盤部分33的詳細構造的示例。圖3是示出了根據(jù)實施方式的鍵盤部分33的構造的示例的立體圖。圖4是示出了根據(jù)實施方式的鍵盤部分33的分解狀態(tài)的立體圖。
[0058]如圖4所示，鍵盤部分33包括底板110、背光構件120、膜130、支持構件140、鍵頂150以及前蓋160。鍵盤部分33是通過在底板110和前蓋160之間按照背光構件120、膜130、支持構件140以及鍵頂150的順序進行堆疊來構造的。
[0059](底板110)
[0060]底板110設置在鍵盤部分33的底部。例如，底板110是具有平板形狀并且由諸如鋁板等金屬板、樹脂等制成的板狀件。底板110對背光構件120、膜130、支持構件140、鍵頂150以及前蓋160進行支持。順便提及，類似于底板110，背光構件120和膜130具有平板形狀。
[0061](背光構件120)
[0062]背光構件120包括設置在對應于鍵頂150的位置處的發(fā)光部分。例如，當環(huán)境較暗時，發(fā)光部分被開啟以照亮鍵頂150。例如，環(huán)境的亮度由照明傳感器來檢測。通過設置背光構件120，用戶即使在黑暗中時也可以向下按壓所期望的鍵頂150。
[0063](膜130)
[0064]例如，膜130包括兩片膜狀構件以及由設置在膜狀構件的內(nèi)表面的以預定間隔面對的電極對形成的接觸件。接觸件被分別設置在對應于鍵頂150的位置處。當接觸件接觸時，對應于鍵頂150的電信號被輸出。
[0065](支持構件140)
[0066]支持構件140是對多個鍵頂150進行支持的支持構件。另外，支持構件140具有以下功能:當用戶向下按壓鍵頂150時，沿預定運動方向引導鍵頂150。
[0067]圖5是示出了支持構件140和鍵頂150的構造的示例的分解立體圖。順便提及，在圖5中，僅示出了支持構件140的一部分(對應于一個鍵頂150的部分)。如圖5所示，支持構件140包括孔部分142、磁體144以及導引部分146。
[0068]孔部分142包括形成在對應于鍵頂150的位置處并且具有大于鍵頂150的矩形形狀的孔。當鍵頂150被向下按壓時，鍵頂150進入到孔部分142中。
[0069]磁體144設置在與孔部分142鄰近的位置處。具體地，磁體144設置在面向在鍵頂150中設置的磁體156的位置處。通過磁體144與磁體156之間產(chǎn)生的吸引力磁體156被吸引至磁體144。由于磁體156被吸引至磁體144，所以鍵頂150在被按壓之前保持在參考位置處。
[0070]導引部分146引導被按壓的鍵頂150斜向下運動。如上所述，鍵頂150在被按壓之前保持在參考位置處，但是當給鍵頂150的按壓力較大時，鍵頂150可以通過克服磁體的吸引力而運動。導引部分146被形成為從孔部分142的邊緣突出到孔部分142的內(nèi)側。在本實施方式中，導引部分146被設置在四個角中的每個角處以有利于鍵頂150的運動。
[0071]另外，為斜面的導引面147被形成在導引部分146中。導引面147被形成在與鍵頂150的高度方向相交的方向上。當向下按壓時，鍵頂150沿著導引面147斜向下運動。此夕卜，當對鍵頂150的按壓被釋放時，鍵頂150通過磁體的吸引力沿導引面147斜向上運動。
[0072](鍵頂150)
[0073]如圖3所示，鍵頂150是水平地和垂直地布置在鍵盤部分33中的多個操作鍵。例如，操作鍵是每個都具有矩形形狀的字符鍵或數(shù)字鍵。多個鍵頂150被布置為彼此相鄰。當鍵頂150被從參考位置向下按壓到輸入位置時，對應于鍵頂150的信號被輸出。
[0074]圖6是示出了鍵頂150的參考位置P1和輸入位置P2的圖。圖6的狀態(tài)301表示鍵頂150的參考位置P1，以及圖6的狀態(tài)302表示鍵頂150的輸入位置P2。鍵頂150在被用戶按壓之前保持在圖6所示的參考位置P1處，并且當鍵頂150被向下按壓時鍵頂150運動至輸入位置P2。鍵頂150被支持構件140支持，以使得鍵頂150在與鍵頂150的高度方向相交的方向上在參考位置P1與輸入位置P2之間運動。順便提及，在本實施方式中，參考位置P1對應于第一位置以及輸入位置P2對應于第二位置。
[0075]因為多個鍵頂150的構造彼此相同，所以將給出對于一個鍵頂150的下面的描述作為示例。鍵頂150包括由用戶向下按壓的頂面151、以及側面152a至側面152d。另外，如圖5所示，鍵頂150包括磁體156和滑動部分158。
[0076]磁體156固定在面向支持構件140的磁體144的位置處。磁體156通過吸引力被吸引至磁體144。因此，在鍵頂150被向下按壓之前，鍵頂150保持在參考位置P1處(在該位置磁體156被吸引至磁體144)。另一方面，當對鍵頂150的按壓力較大時，鍵頂150克服了磁體的吸引力并且運動至輸入位置P2。順便提及，磁體156對應于第一磁體以及磁體144對應于第二磁體。
[0077]當鍵頂150被向下按壓時，滑動部分158沿著支持構件140的導引面147滑動?；瑒硬糠?58被形成為從鍵頂150的側面向外延伸。當滑動部分158沿著導引面147滑動時，鍵頂150在參考位置與輸入位置之間運動。
[0078](前蓋WO)
[0079]前蓋160是鍵盤部分33的頂蓋。如圖4所示，在前蓋160中形成多個開口 162以使得鍵頂150被布置。開口 162具有其面積略大于被布置的鍵頂150的面積的孔。
[0080]如上所述，根據(jù)第一實施方式的鍵盤部分33包括設置在支持構件140中的磁體144，以及設置在鍵頂150中的磁體156。在磁體對之間產(chǎn)生磁吸引力，并且這種吸引力保持了鍵頂150的參考位置。因此，與使用橡膠圓頂和剪形機構的構造相比較，可以減小鍵盤部分33的厚度。
[0081]順便提及，還提出了一種減小橡膠圓頂?shù)暮穸鹊姆椒?。然而，如果減小橡膠圓頂?shù)暮穸?，則橡膠圓頂?shù)膲呵匦宰儾?，并且因此，提供給用戶的鍵頂?shù)陌磯焊?也被稱為點擊感)變差。此外，如果減小剪形機構的厚度，則剪形機構的強度降低并且耐久性減弱。在這一點上，正如在第一實施方式的情況下那樣，如果代替橡膠圓頂和剪形機構而使用磁體144和磁體156，則可以抑制點擊感的變差并且不需要考慮剪形機構的強度。
[0082](1-3.鍵頂150的邊緣與前蓋160的開口之間的關系)
[0083]如上所述，當鍵頂150在參考位置P1與輸入位置P2之間運動時，鍵頂150在由導引部分146支持的同時斜向運動。以這種方式運動的鍵頂150和開口 162具有圖7中所示的關系。
[0084]圖7是示出了鍵頂150與開口 162之間的關系的圖。圖7的狀態(tài)305表示位于參考位置P1的鍵頂150與開口 162之間的關系。圖7的狀態(tài)306表示位于輸入位置P2的鍵頂150與開口 162之間的關系。
[0085]當鍵頂150位于參考位置P1時，如圖7的狀態(tài)305所示，鍵頂150的邊緣153a(邊緣153c)與邊緣153a(邊緣153c)所面向的開口 162的內(nèi)邊緣之間的距離等于垂直于鍵頂150的邊緣153a的邊緣153b (153d)與邊緣153b (153d)所面向的開口 162的內(nèi)邊緣之間的距離。因此，當鍵頂150位于參考位置P1時，在鍵頂150與開口 162之間形成均勻寬度的間隙。通過減小間隙，可以改進鍵頂150的布置的設計。
[0086]當鍵頂150運動至輸入位置P2時，斜向下運動的、鍵頂150的邊緣153a接近開口162的內(nèi)邊緣。當鍵頂150位于輸入位置P2時，如圖7的狀態(tài)306所示，邊緣153a與面向邊緣153a的開口 162的內(nèi)邊緣之間的距離小于其它邊緣153b至153d與開口 162的內(nèi)邊緣之間的距離。
[0087]順便提及，鍵頂150具有沿鍵頂150的運動方向形成在邊緣153a處的斜面154。當鍵頂150運動至輸入位置P2時，斜面154具有退刀紋(runout)形狀以防止與開口 162的內(nèi)邊緣接觸。因此，可以防止邊緣153a與開口 162的內(nèi)邊緣之間的間隙被加寬。換句話說，可以防止開口 162被擴大。
[0088]如圖5所示，斜面154是連接鍵頂150的頂面151和側面152a的表面。通過對頂面151與側面152a之間的邊緣153a進行倒角(chamfering)而形成斜面154。例如，斜面154是由所謂的C倒角形成的平面。因此，當鍵頂150被向下按壓并且斜向下運動時，簡單的構造能夠有效地防止邊緣153a接觸開口 162的內(nèi)邊緣163a。
[0089]斜面154可以形成為與支持構件140的導引面147平行。在這種情況下，斜面154形成為與由支持構件140支持的鍵頂150的運動方向平行。因此，當鍵頂150運動時，可以更有效地防止鍵頂150的邊緣153a接觸開口 162的內(nèi)邊緣163a。順便提及，當導引面147不是平面時，期望的是斜面154還形成為與導引面147的形狀相匹配。
[0090]圖8是示出了當鍵頂150從參考位置運動至輸入位置時斜面154與開口 162之間的關系的圖。在圖8的狀態(tài)311中，鍵頂150位于參考位置P1處。在狀態(tài)312中，鍵頂150從參考位置P1運動至輸入位置P2。在狀態(tài)313中，鍵頂150位于輸入位置P2處。如圖8所示，通過設置斜面154，當鍵頂150運動至輸入位置P2時，鍵頂150的邊緣可以平穩(wěn)地運動而不被開口 162的內(nèi)邊緣卡住。
[0091]順便提及，在上述中，斜面154被描述成平面，但并不限于此。例如，斜面154可以是曲面。例如，斜面154由所謂的R倒角來形成。當斜面154是曲面時，可以在防止與開口162的內(nèi)邊緣接觸的同時防止距內(nèi)邊緣的距離變窄。
[0092]另外，在上述中，斜面154被描述為形成在鍵頂150的邊緣153a (圖7)處，但并不限于此。例如，斜面154可以形成在鍵頂150的邊緣153a至邊緣153d中的、與鍵頂150從參考位置運動至輸入位置的運動方向相對的側的邊緣153c處。更具體地，邊緣153c可以延伸以插入到前蓋160的下部中，并且斜面154可以形成在被延伸的邊緣153c處。在這種構造的情況下，當向下按壓鍵頂150時，可以減小邊緣153c與鄰近開口 162的內(nèi)邊緣之間的間隙。
[0093]另外，斜面154可以形成在鍵頂150的邊緣153a和邊緣153c中的每個邊緣處。順便提及，在第一實施方式中，邊緣153a對應于第一邊緣以及邊緣153b和邊緣153d對應于第二邊緣。
[0094](1-4.鍵盤部分33的運動的示例)
[0095]將參照圖9描述當用戶向下按壓鍵頂150時鍵盤部分33的運動的示例。圖9是用來描述當用戶向下按壓鍵頂150時，鍵盤部分33的運動的示例的圖。
[0096]本文中，由于磁體156被吸引至支持構件140的磁體144，所以鍵頂150位于參考位置P1處。在這種狀態(tài)下，用戶用手指向下按壓鍵頂150的頂面151，以使用鍵頂150進行輸入。
[0097]當給頂面151的按壓力小時，鍵頂150就不會運動，以及當按壓力大時，鍵頂150克服了磁體的吸引力并且開始斜向下運動。具體地，當用戶觀看時，鍵頂150沿支持構件140的導引面147以從后側向前側的方向運動。
[0098]此時，因為斜面154形成在鍵頂150的邊緣153a (圖7)處，所以當鍵頂150沿著導引面147運動時，鍵頂150的邊緣153a不抵觸前蓋160的開口 162的內(nèi)邊緣。因此，如圖9所示，鍵頂150從后側到前側平穩(wěn)地運動運動量y并且位于輸入位置P2處。
[0099]當給頂面151的按壓被釋放時,位于輸入位置P2的鍵頂150通過磁體156與磁體144之間的吸引力沿著導引面147向上運動。鍵頂150位于參考位置P1處(在該處磁體156被吸引至磁體144)。
[0100]此外，在上述中，被按壓的鍵頂150被描述成當由用戶觀看時從后側運動至前側，但并不限于此。例如，可以當由用戶觀看時，被按壓的鍵頂150從前側運動至后側。在這種情況下，通過在鍵頂150的邊緣153c中形成斜面，在運動期間可以防止與開口 162的內(nèi)邊緣接觸。類似地，當由用戶觀看時，被按壓的鍵頂150可以沿水平方向運動。
[0101]〈2.第二實施方式〉
[0102]將參照圖10至圖13描述第二實施方式。圖10至圖13是示出了根據(jù)第二實施方式的電子裝置200的構造的示例的圖。圖13是用來描述電子裝置200的滑動操作的圖。
[0103]圖10示出了其中顯示側殼體220交疊在電子裝置200的主體側殼體230上的狀態(tài)。圖11示出了其中顯示側殼體220相對于主體側殼體230滑動以進行站立的狀態(tài)。圖12示出了當從后側觀看處于圖11的狀態(tài)的電子裝置200時的狀態(tài)。
[0104]如圖10和圖11所示，根據(jù)第二實施方式的電子裝置200包括顯示側殼體220和主體側殼體230。在顯示側殼體220中，安裝有其中觸摸傳感器設置在諸如IXD的顯示裝置上的觸摸面板222。在主體側殼體230中，設置有鍵盤部分232。在第二實施方式中，主體側殼體230對應于第一殼體，以及顯不側殼體220對應于第二殼體。
[0105]如圖13所示，顯示側殼體220被構造為在相對于主體側殼體230滑動的同時是可移動的。具體地，主體側殼體230和顯示側殼體220通過設置在背面上的鉸接件240連接。因此,如圖13所示，顯示側殼體220執(zhí)行相對于主體側殼體230的滑動操作。因此，圖10中所示的狀態(tài)和圖11中所示的狀態(tài)互相過渡。
[0106]在電子裝置200中，根據(jù)狀態(tài)的不同用戶的操作方法是不同的。在圖10所示的狀態(tài)下，用戶可以通過操作觸摸面板222來執(zhí)行所希望的操作。因此，用戶可以使用電子裝置200作為所謂的平板終端。在圖11所示的狀態(tài)下，用戶可以通過操作鍵盤部分232或觸摸面板234來執(zhí)行所希望的操作。另外，用戶可以操作觸摸面板222。
[0107]順便提及，根據(jù)第二實施方式的鍵盤部分232的構造基本上與根據(jù)第一實施方式的鍵盤部分33 (圖3和圖4)的構造相同。鍵盤部分232的鍵頂250在邊緣處具有斜面254。因此，有可能防止其中布置有鍵頂250的開口被擴大。
[0108]另外，在第二實施方式中，當顯示側殼體220相對于主體側殼體230滑動時，顯示側殼體220的端部225被構造成與如圖14所示的鍵頂250 (具體地，斜面254)是可接觸的。圖14是用來描述根據(jù)第二實施方式其中顯示側殼體220的端部225接觸斜面254的狀態(tài)的示意圖。
[0109]例如，當用戶在用力向下按壓顯示側殼體220的同時沿圖14所示的X方向滑動顯示側殼體220時，被按壓的顯示側殼體220的端部225很容易地接觸鍵頂250。通過設置斜面254，可以防止當顯示側殼體220滑動時鍵頂250掉出的問題。在下面的段落中，通過與圖15中所示的比較示例進行比較來描述細節(jié)。
[0110]圖15是用來描述根據(jù)比較示例其中顯示側殼體920的端部接觸鍵頂950的狀態(tài)的示意圖。順便提及，在根據(jù)比較示例的鍵頂950中，與第二實施方式不同，沒有形成斜面。在這種情況下，當顯示側殼體920相對于主體側殼體930滑動時，顯示側殼體920的下側的端部925接觸鍵頂950的邊緣952。在此之后，當顯示側殼體920繼續(xù)滑動時，端部925被鍵頂950的邊緣952卡住，并且因此，存在鍵頂950可以被釋放(被釋放的鍵頂950可以飛散)的問題。另外，存在鍵頂950可能被損壞的問題。
[0111]相反地，在第二實施方式中，顯示側殼體220的端部225接觸如圖14所示的斜面254。因此，在此之后，當顯示側殼體220繼續(xù)滑動時，端部225不會被鍵頂250卡住并且鍵頂250被按壓。另外，可以抑制鍵頂250的損壞。
[0112]〈3.第三實施方式〉
[0113]將在下面描述不同于第一實施方式的根據(jù)第三實施方式的鍵盤部分33的構造。
[0114](3-1.鍵頂150的斜面的形狀和支持構件140的導引面的形狀)
[0115]首先，將描述關于鍵頂150的斜面154的形狀和支持構件140的導引面147的形狀的三個實施方式。
[0116](第一實施方式)
[0117]圖16是示出了根據(jù)第三實施方式的鍵頂150的斜面154的第一實施方式的構造的立體圖。順便提及，圖16所示的鍵頂150在按壓之前位于參考位置處。
[0118]在圖16所示的示例中，正如在第一實施方式的情況下那樣，斜面154是由所謂的C倒角形成的平面(也被稱為C平面)。因此，可以通過簡單的處理來形成斜面154，并且可以有效地防止鍵頂150的邊緣153a接觸開口 162的內(nèi)邊緣163a。
[0119]另一方面，期望下面將要描述的圖17或圖18中所示的形狀，作為引導鍵頂150在參考位置與輸入位置之間運動的、支持構件140的導引面147的形狀。
[0120]圖17是示出了根據(jù)第三實施方式的支持構件140的導引面147的第一實施方式的構造的立體圖。在圖17所示的示例中，導引面147是彎曲的斜面。更具體地，導引面147是凹形的曲面。在這種情況下，在鍵頂150的運動期間，鍵頂150的邊緣153a(圖16)略微與開口 162的內(nèi)邊緣163a分開，并且因此，可以有效地防止鍵頂150的邊緣153a被卡在開口 162的內(nèi)邊緣163a上。
[0121]圖18是示出了根據(jù)第三實施方式的支持構件140的導引面147的第一實施方式的構造的立體圖。在圖18所示的示例中，導引面147是平坦的斜面。導引面147的傾斜角度可以等于鍵頂150的斜面154的角度或者可以大于斜面154的角度。因此，鍵頂150的運動可以平穩(wěn)地進行。
[0122](第二實施方式)
[0123]圖19是示出了根據(jù)第三實施方式的鍵頂150的斜面154的第二實施方式的構造的立體圖。在圖19所示的示例中，鍵頂150的斜面154是由所謂的R倒角形成的曲面(也被稱為R平面)。具體地，斜面154可以是凸形的彎曲。因此，改進了鍵頂150的邊緣的美學外觀，并且可以有效地防止鍵頂150的邊緣153a接觸開口 162的內(nèi)邊緣163a。
[0124]關于上述的具有凸形的曲面的斜面154，期望上述的圖17中所示的凹形的彎曲形狀，作為支持構件140的導引面147的形狀。因此，由于為R平面的斜面154可以抑制鍵頂150在運動期間接近開口的內(nèi)邊緣162，所以可以有效地防止與開口 162的內(nèi)邊緣163a接觸。
[0125](第三實施方式)
[0126]圖20是示出了根據(jù)第三實施方式的鍵頂150的斜面154的第三實施方式的構造的立體圖。在圖20所示的示例中，鍵頂150的斜面154也是曲面。具體地，斜面154可以在與圖19的方向相反的方向上凹形的彎曲。在這種形狀的情況下，可以更有效地防止鍵頂150的邊緣153a接觸開口 162的內(nèi)邊緣。
[0127]關于上述的具有凹形的曲面的斜面154，除了圖17和圖18中所示的形狀以外，例如，期望圖21中所示的形狀，作為支持構件140的導引面147的形狀。
[0128]圖21是示出了根據(jù)第三實施方式的支持構件140的導引面147的第三實施方式的構造的立體圖。在圖21所示的示例中，導引面147是彎曲的斜面。更具體地，導引面147是凸形的曲面。
[0129](3-2.鍵頂150的斜面與前蓋之間的位置關系)
[0130]在第一實施方式中，斜面154被描述為形成在鍵頂150的邊緣153a處(圖7),但并不限于此。例如，如圖22所示，斜面154可以形成在鍵頂150的邊緣153a的相對側的邊緣153c處。也就是說，斜面可以形成在鍵頂150的邊緣中的、當鍵頂150從參考位置運動至輸入位置時與開口的內(nèi)邊緣分開的邊緣153c (對應于第二邊緣)處。
[0131]圖22是用來描述根據(jù)第三實施方式鍵頂150的斜面與前蓋160之間的位置關系的圖。圖22的狀態(tài)351表示鍵頂150位于參考位置處，以及狀態(tài)352表示鍵頂150位于輸入位置處。鍵頂150包括延伸部分153e，當位于狀態(tài)351中所示的參考位置時延伸部分153e延伸以使得邊緣153c側進入到前蓋160的下側中。因此，從邊緣153c至延伸部分153e形成斜面155。
[0132]通過形成斜面155，延伸部分153e很容易地進入到前蓋160的下側中。另外，通過設置延伸部分153e，當鍵頂150運動至如圖22的狀態(tài)352所示的輸入位置時，延伸部分153e位于開口 162處，并且因此，可以防止鍵頂150與前蓋160之間的間隙被加寬。特別地，通過設置延伸部分153e，鍵頂150與前蓋160之間的間隙可以具有均勻的寬度。
[0133]順便提及，在上文中，斜面被描述為形成在鍵頂150的邊緣153a和邊緣153c中的每個邊緣處，但并不限于此，例如，斜面可以僅形成在鍵頂150的邊緣153c處。
[0134]<4.總結〉
[0135]在上述的電子裝置10中，鍵頂150具有沿著運動方向在邊緣處形成的斜面154。通過設置斜面154，當鍵頂150運動時，不抵觸其中布置有對應的鍵頂150的開口 162的內(nèi)邊緣。因此，鍵頂150可以在參考位置與輸入位置之間平穩(wěn)地運動。此外，通過設置斜面154，不必需要加寬鍵頂150的邊緣與開口 162的內(nèi)邊緣之間的間隙，從而改進了鍵頂150的布置的設計。
[0136]已經(jīng)參考附圖詳細地描述了本公開內(nèi)容的優(yōu)選的實施方式，但本公開內(nèi)容的技術范圍并不受這些示例的限制。應理解，只要在所附權利要求或其等同物的范圍內(nèi)，對本領域技術人員來說可以根據(jù)設計要求和其他因素進行各種修改、組合、子組合和變更。
[0137]另外，文中所描述的效果僅僅是為了說明或解釋的目的而非限制目的。也就是說，除了上述效果或上述效果的替代效果以外，根據(jù)本公開內(nèi)容的技術可以實現(xiàn)對本領域技術人員來說根據(jù)本說明書的說明顯而易見的其他效果。
[0138]另外，本發(fā)明的技術還可以被構造如下。
[0139](1) 一種鍵盤裝置，包括:
[0140]鍵頂，所述鍵頂布置在蓋構件的開口中并且是可按壓的；
[0141]第一磁體，所述第一磁體設置在所述鍵頂中；以及
[0142]支持部分，所述支持部分包括吸引所述第一磁體的第二磁體，并且所述支持部分支持所述鍵頂，
[0143]其中，所述支持部分支持所述鍵頂在與所述鍵頂?shù)母叨确较蛳嘟坏倪\動方向上、在所述第一磁體被吸引至所述第二磁體的第一位置與通過按壓釋放吸引的第二位置之間運動，及
[0144]其中，所述鍵頂具有在邊緣處沿所述運動方向形成的斜面。
[0145](2)根據(jù)⑴所述的鍵盤裝置，
[0146]其中，所述斜面被形成為與所述運動方向平行。
[0147](3)根據(jù)⑴或⑵所述的鍵盤裝置，
[0148]其中，所述斜面形成在所述鍵頂?shù)倪吘壷械?、當所述鍵頂從所述第一位置運動至所述第二位置時靠近所述開口的內(nèi)邊緣的第一邊緣處。
[0149](4)根據(jù)⑴至(3)中任一項所述的鍵盤裝置，
[0150]其中，所述斜面是連接所述鍵頂?shù)捻斆婧蛡让娴谋砻妗?br> [0151](5)根據(jù)(4)所述的鍵盤裝置，
[0152]其中，所述斜面是平面。
[0153](6)根據(jù)(4)所述的鍵盤裝置，
[0154]其中，所述斜面是曲面。
[0155](7)根據(jù)(3)所述的鍵盤裝置，
[0156]其中，當所述鍵頂位于所述第一位置時，所述鍵頂?shù)乃龅谝贿吘壟c所述第一邊緣面對的所述開口的內(nèi)邊緣之間的距離等于與所述鍵頂?shù)乃龅谝贿吘壌怪钡牡诙吘壟c所述第二邊緣面對的所述開口的內(nèi)邊緣之間的距離。
[0157](8)根據(jù)⑴所述的鍵盤裝置，還包括:
[0158]第一殼體，在所述第一殼體中設置有所述鍵頂；以及
[0159]第二殼體,所述第二殼體在相對于所述第一殼體滑動的同時是可移動的，
[0160]其中，所述第二殼體的端部在滑動時接觸所述斜面。
[0161](9)根據(jù)(5)或(6)所述的鍵盤裝置，
[0162]其中，所述支持部分具有引導所述鍵頂在所述第一位置與所述第二位置之間運動的導引面，以及
[0163]其中，所述導引面是平面。
[0164](10)根據(jù)(5)或(6)所述的鍵盤裝置，
[0165]其中，所述支持部分具有引導所述鍵頂在所述第一位置與所述第二位置之間運動的導引面，以及
[0166]其中，所述導引面是曲面。
[0167](11)根據(jù)⑴或⑵所述的鍵盤裝置，
[0168]其中，所述斜面形成在所述鍵頂?shù)乃鲞吘壷械摹斔鲦I頂從所述第一位置運動至所述第二位置時從所述開口的內(nèi)邊緣分開的第二邊緣處。
[0169](12)根據(jù)(11)所述的鍵盤裝置，
[0170]其中，所述鍵頂包括延伸部分，當所述鍵頂位于所述第一位置時所述延伸部分以所述鍵頂從第二邊緣側進入到所述開口的下部中的方式延伸。
【權利要求】
1.一種鍵盤裝置，包括: 鍵頂，所述鍵頂布置在蓋構件的開口中并且是可按壓的； 第一磁體，所述第一磁體設置在所述鍵頂中；以及 支持部分，所述支持部分包括吸引所述第一磁體的第二磁體，并且所述支持部分支持所述鍵頂， 其中，所述支持部分支持所述鍵頂在與所述鍵頂?shù)母叨确较蛳嘟坏倪\動方向上、在所述第一磁體被吸引至所述第二磁體的第一位置與通過按壓釋放吸引的第二位置之間運動，及 其中，所述鍵頂具有在邊緣處沿所述運動方向形成的斜面。
2.根據(jù)權利要求1所述的鍵盤裝置， 其中，所述斜面被形成為與所述運動方向平行。
3.根據(jù)權利要求1所述的鍵盤裝置， 其中，所述斜面形成在所述鍵頂?shù)倪吘壷械?、當所述鍵頂從所述第一位置運動至所述第二位置時靠近所述開口的內(nèi)邊緣的第一邊緣處。
4.根據(jù)權利要求1所述的鍵盤裝置， 其中，所述斜面是連接所述鍵頂?shù)捻斆婧蛡让娴谋砻妗?br> 5.根據(jù)權利要求4所述的鍵盤裝置， 其中，所述斜面是平面。
6.根據(jù)權利要求4所述的鍵盤裝置， 其中，所述斜面是曲面。
7.根據(jù)權利要求3所述的鍵盤裝置， 其中，當所述鍵頂位于所述第一位置時，所述鍵頂?shù)乃龅谝贿吘壟c所述第一邊緣面對的所述開口的內(nèi)邊緣之間的距離等于與所述鍵頂?shù)乃龅谝贿吘壌怪钡牡诙吘壟c所述第二邊緣面對的所述開口的內(nèi)邊緣之間的距離。
8.根據(jù)權利要求1所述的鍵盤裝置，還包括: 第一殼體，在所述第一殼體中設置有所述鍵頂；以及 第二殼體，所述第二殼體在相對于所述第一殼體滑動的同時是可移動的， 其中，所述第二殼體的端部在滑動時接觸所述斜面。
9.根據(jù)權利要求5所述的鍵盤裝置， 其中，所述支持部分具有引導所述鍵頂在所述第一位置與所述第二位置之間運動的導引面，以及 其中，所述導引面是平面。
10.根據(jù)權利要求5所述的鍵盤裝置， 其中，所述支持部分具有引導所述鍵頂在所述第一位置與所述第二位置之間運動的導引面，以及 其中，所述導引面是曲面。
11.根據(jù)權利要求1所述的鍵盤裝置， 其中，所述斜面形成在所述鍵頂?shù)乃鲞吘壷械?、當所述鍵頂從所述第一位置運動至所述第二位置時從所述開口的內(nèi)邊緣分開的第二邊緣處。
12.根據(jù)權利要求11所述的鍵盤裝置， 其中，所述鍵頂包括延伸部分，當所述鍵頂位于所述第一位置時所述延伸部分以所述鍵頂從第二邊緣側進入到所述開口的下部中的方式延伸。
【文檔編號】H01H13/705GK104345893SQ201410354652
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年7月24日 優(yōu)先權日:2013年7月31日
【發(fā)明者】木村泰典, 千原秀一, 辻泰志, 三澤淳一郎, 原田真吾 申請人:索尼公司