一種氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器的制造方法
【專利摘要】一種氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其由具有相互平行的前、后拋光表面的片狀氟硼鈹酸鉀族晶體；分別鍍于前、后拋光表面上的前增透膜和后增透膜；內(nèi)開(kāi)有方形卡槽且沿中心軸線方向設(shè)有貫穿晶體的通光孔的柱狀晶體架和外加熱套組成；晶體置于方形卡槽中，且晶體前、后表面和方形卡槽大面一致，卡槽大面法線和晶體架中心軸線成θ角；基頻激光直接經(jīng)前增透膜斜入射至晶體，在晶體中產(chǎn)生的倍頻光經(jīng)后增透膜射出，可避免現(xiàn)有技術(shù)中基頻激光通過(guò)耦合棱鏡射入晶體而引起的光膠界面損耗甚至界面損壞；加熱套將晶體架和晶體加熱到恒定溫度，可提高晶體的熱穩(wěn)定性，提高倍頻激光輸出功率穩(wěn)定性；且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低，適用于中高功率激光系統(tǒng)。
【專利說(shuō)明】一種氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種激光倍頻器，特別涉及一種氟硼鈹酸鉀（簡(jiǎn)稱KBBF)族晶體斜入 射激光倍頻器。

【背景技術(shù)】
[0002] 通過(guò)非線性光學(xué)晶體的變頻技術(shù)（包括倍頻、和頻、差頻等）產(chǎn)生新波段激光，已 經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，這里的關(guān)鍵之一是非線性光學(xué)晶體及其變頻器設(shè)計(jì)。非線性光學(xué)晶體在 進(jìn)行光學(xué)頻率變換時(shí)要滿足動(dòng)量守恒也就是滿足相位匹配條件。匹配的方式主要有：角度 相位匹配、溫度相位匹配和準(zhǔn)相位匹配。例如對(duì)于常用的倍頻過(guò)程，角度匹配是將特定偏振 方向的激光沿非線性光學(xué)晶體的某一特定方向（相位匹配方向）通過(guò)，即可產(chǎn)生倍頻激光； 溫度相位匹配是通過(guò)控制晶體的溫度改變折射率滿足匹配條件，但通常晶體折射率橢球隨 著溫度的改變非常有限，所以溫度匹配其實(shí)可以看做是角度匹配的一個(gè)有限修正；準(zhǔn)相位 匹配在介電超晶格中實(shí)現(xiàn)，通過(guò)人工調(diào)制超晶格倒格失，用于彌補(bǔ)晶體折射率色散引起的 相位失配，這種方法實(shí)用性較差，應(yīng)用較少。所以通常來(lái)說(shuō)，倍頻器需要沿著相位匹配方向 切割加工成所需形狀，并將兩個(gè)通光面精密拋光，乃至鍍覆各種所需光學(xué)膜層。這種倍頻器 激光一般是在入射表面上正入射或接近正入射進(jìn)入非線性光學(xué)晶體。
[0003] -些非線性光學(xué)晶體由于其本征的結(jié)構(gòu)特性，呈現(xiàn)強(qiáng)烈的層狀習(xí)性，形態(tài)為片狀 晶體而沿某個(gè)面極易解理，因此難以沿相位匹配方向進(jìn)行加工。例如氟硼鈹酸鉀族晶體 (本文指兩種：氟硼鈹酸鉀KBe 2B03F2，簡(jiǎn)稱KBBF ;氟硼鈹酸銣RbBe2B03F2，簡(jiǎn)稱RBBF)由于層 狀生長(zhǎng)習(xí)性，沿結(jié)晶學(xué)c面極易解理，沿c方向（即晶體光軸方向）難以長(zhǎng)厚，晶體呈現(xiàn)薄 片狀，兩個(gè)裸露的自然面為結(jié)晶學(xué)c面，也叫（001)面，或a-b面。利用KBBF族晶體進(jìn)行激 光倍頻時(shí)很難按著該晶體的相位匹配方向進(jìn)行切割。為解決上述困難，一種非線性光學(xué)晶 體光接觸棱鏡耦合技術(shù)（PCT)及其器件被發(fā)明（ZL01115313.X ;US6,859,305B2;日本專利 4074124)，成功解決了 KBBF族晶體相位匹配的難題，使得不易切割的KBBF族晶體與一定形 狀的棱鏡結(jié)合，用于激光倍頻實(shí)現(xiàn)深紫外激光（即波長(zhǎng)短于200納米）輸出。該技術(shù)也屬 于角度相位匹配。
[0004] 上述棱鏡耦合器件中，KBBF族晶體和棱鏡（一般為石英玻璃或氟化鈣晶體）通過(guò) 普通光膠耦合，由于是非同種材料光膠，結(jié)合力不強(qiáng)，而且界面兩邊材料的熱膨脹系數(shù)不一 樣，在受熱時(shí)會(huì)產(chǎn)生不一致的膨脹，導(dǎo)致兩個(gè)光學(xué)元件分離或界面損壞。特別是當(dāng)KBBF族 棱鏡耦合器件工作在中、高功率激光系統(tǒng)時(shí)，激光功率大，持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)，光膠界面處吸收大， 溫度過(guò)高，常常最先在界面處造成損壞，輕者影響激光光束質(zhì)量，重者導(dǎo)致兩個(gè)界面脫離， 整個(gè)器件作廢。盡管也發(fā)展了所謂的深度光膠技術(shù)（US8, 773, 750)，相比普通光膠提高了棱 鏡耦合器件的激光損傷閾值，但是相對(duì)于KBBF晶體本身的抗光損傷閾值來(lái)說(shuō)，還是太低。 例如，KBBF晶體本身的抗光損傷閾值非常高，對(duì)于1064納米，脈沖寬度為80皮秒，重復(fù)頻率 ΙΚΗζ的激光脈沖而言，其損傷閾值高達(dá)900GW/cm2 ;在基頻光波長(zhǎng)為390納米，脈寬200飛 秒，重復(fù)頻率ΙΚΗζ的激光輻照下，其損傷閾值也高達(dá)60GW/cm2。KBBF晶體比在相同條件下 BBO晶體的抗激光損傷閾值大了將近一個(gè)數(shù)量級(jí)，在目前已知的非線性光學(xué)晶體中，KBBF 具有最高的抗光損傷閾值。但是KBBF棱鏡耦合器件對(duì)于1064納米，脈沖寬度0. 9納秒，重 復(fù)頻率6KHz激光的損傷閾值只有300MW/cm2。
[0005] 此外，棱鏡耦合器件還有一個(gè)缺點(diǎn)，由于光膠了石英玻璃或氟化鈣晶體棱鏡，器件 體積大，而且氟化鈣和石英玻璃的導(dǎo)熱性能差，在實(shí)用過(guò)程中不便于對(duì)KBBF晶體進(jìn)行溫度 控制等熱管理技術(shù)，從而不利于維持激光倍頻輸出功率的穩(wěn)定性。
[0006] 目前，利用KBBF族晶體實(shí)現(xiàn)1064納米的四倍頻266納米輸出也是通過(guò)棱鏡耦合 技術(shù)實(shí)現(xiàn)的，其最大的障礙就是棱鏡器件光膠面率先損壞。棱鏡耦合技術(shù)對(duì)于使用KBBF族 晶體倍頻實(shí)現(xiàn)深紫外激光輸出是唯一的技術(shù)路線，但是當(dāng)需要倍頻輸出266納米激光時(shí)， 棱鏡耦合技術(shù)并非是唯一途徑。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明目的在于提供一種非線性光學(xué)晶體激光倍頻器，該激光倍頻器無(wú)需對(duì)非線 性光學(xué)晶體按相位匹配角度進(jìn)行切割加工，因而可以使得不易切割的非線性光學(xué)晶體能夠 實(shí)現(xiàn)相位匹配，實(shí)現(xiàn)激光倍頻。
[0008] 非線性光學(xué)晶體激光倍頻器的原理是：片狀非線性光學(xué)晶體固定于柱狀晶體架的 方形卡槽中。根據(jù)光的折射定律（Snell's Law)，光從一種介質(zhì)傳播到另一種介質(zhì)時(shí)會(huì)發(fā)生 折射，其入射角和折射角滿足折射定律。根據(jù)此原理，對(duì)于某個(gè)波長(zhǎng)激光的倍頻，假設(shè)相配 匹配角是Θ ΡΜ，我們只需使得卡槽大面的法線方向和晶體架中心軸線成某一特定角度Θ， 并使得sin Θ /sin θ PM = η，η為晶體折射率，由于片狀非線性光學(xué)晶體插入卡槽中且前后表 面法線方向和卡槽大面法線方向一致，此時(shí)激光沿晶體架軸線方向通光孔射入晶體后將自 動(dòng)沿著相位匹配方向傳播，實(shí)現(xiàn)倍頻；同樣根據(jù)光的折射定律，倍頻光從晶體另一個(gè)面出射 后將繼續(xù)沿著晶體架軸線方向傳播；當(dāng)然，Θ的最大值只能取到90°，所以Θ ΡΜ限制在〇° 到某一角度范圍，因而只能實(shí)現(xiàn)一定波長(zhǎng)范圍的倍頻；根據(jù)計(jì)算，對(duì)于KBBF晶體，本發(fā)明的 激光倍頻器可以實(shí)現(xiàn)最短238納米（476納米一238納米）倍頻光輸出；對(duì)RBBF可以實(shí)現(xiàn) 最短254納米（508納米一 254納米）倍頻光輸出；根據(jù)非線性光學(xué)晶體種類以及所要實(shí)現(xiàn) 倍頻波長(zhǎng)不同，Θ有不同的值。例如，對(duì)于532納米一266納米的倍頻過(guò)程，使用KBBF晶 體時(shí)，Θ = 62. 16。，而使用RBBF晶體時(shí)，Θ = 73. 02°。
[0009] 為此本發(fā)明的技術(shù)方案如下：
[0010] 本發(fā)明提供的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其由具有相互平行的前拋光 表面和后拋光表面的片狀KBBF族晶體、分別鍍于所述片狀KBBF族晶體前拋光表面和后拋 光表面上的前增透膜及后增透膜、柱狀晶體架以及套裝于所述柱狀晶體架外表面上的外加 熱套組成；其特征在于，所述柱狀晶體架沿中心軸線方向設(shè)有貫穿所述柱狀晶體架的通光 孔；柱狀晶體架內(nèi)開(kāi)有方形卡槽，所述方形卡槽與通光孔相通，方形卡槽大面的法線與柱狀 晶體架中心軸線成Θ角；
[0011] 所述片狀KBBF族晶體置于所述柱狀晶體架的方形卡槽內(nèi)，所述片狀KBBF族晶體 的前、后表面的法線方向與所述方形卡槽大面法線方向一致；
[0012] 基頻激光沿著柱狀晶體架中心軸線方向射入至所述KBBF族晶體前表面的前增透 膜，在所述KBBF族晶體內(nèi)部實(shí)現(xiàn)相位匹配后，并沿柱狀晶體架的中心軸線方向由所述KBBF 族晶體后表面的后增透膜出射倍頻光；
[0013] 所述KBBF族晶體為氟硼鈹酸鉀晶體或氟硼鈹酸銣晶體；對(duì)于氟硼鈹酸鉀晶體，所 述Θ角為62. 16° ;對(duì)于氟硼鈹酸銣晶體，所述Θ角為73.02° ;
[0014] 所述前增透膜對(duì)532納米激光高透；所述后增透膜同時(shí)對(duì)532納米激光和266納 米激光高透。
[0015] 所述KBBF族晶體前拋光表面和后拋光表面均為KBBF族晶體的結(jié)晶學(xué)C面；表面 粗糙度Ra小于0. 5納米，面型精度小于1/8光圈。
[0016] 所述柱狀晶體架形狀為圓柱體,方柱體或多棱柱體。
[0017] 所述柱狀晶體架由水平方向?qū)⑺龇叫慰ú鄣确值纳舷聝刹糠謽?gòu)成；或由垂向?qū)?所述方形卡槽等分的左右兩部分構(gòu)成。
[0018] 所述的柱狀晶體架的材料為紫銅或鋁。
[0019] 所述的外加熱套上纏繞加熱絲，加熱絲與控溫儀表相連以精確控溫。
[0020] 本發(fā)明的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其優(yōu)點(diǎn)是：
[0021] 1、無(wú)需對(duì)KBBF族晶體按相位匹配角度切割加工，而只需將兩個(gè)自然的結(jié)晶學(xué)c面 拋光即可；為了減少激光在晶體兩個(gè)表面的菲涅爾反射，可以在晶體兩個(gè)拋光的前后表面 上鍍覆增透膜。
[0022] 2、無(wú)需通過(guò)棱鏡耦合技術(shù)即可實(shí)現(xiàn)倍頻，工藝簡(jiǎn)單，并且由于沒(méi)有棱鏡和晶體的 接觸界面，可以大幅度提高器件的抗光損傷閾值。
[0023] 3、晶體通過(guò)方形卡槽固定于晶體架中，外層加熱套可以方便控溫加熱，以維持晶 體的溫度恒定，從而使倍頻光輸出功率得以穩(wěn)定。
[0024] 4、特別適合產(chǎn)生釹離子激光的四倍頻266納米輸出。當(dāng)今中高功率的266納米輸 出缺乏實(shí)用的倍頻晶體；KBBF晶體具有大的抗光損傷閾值大，寬的溫度帶寬，大的熱導(dǎo)率， 無(wú)潮解等等優(yōu)點(diǎn)，采用本發(fā)明技術(shù)可以將KBBF晶體用于產(chǎn)生中高功率四倍頻266納米輸 出。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0025] 圖1為本發(fā)明的激光倍頻器的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026] 圖2a和圖2b分別為整體結(jié)構(gòu)的方柱體晶體架和圓柱體晶體架示意圖；
[0027] 圖3為兩個(gè)半圓柱組合而成晶體架示意圖；
[0028] 圖4為半圓柱體視圖；
[0029] 圖5為兩個(gè)近三棱柱組合而成方柱體晶體架示意圖；
[0030] 圖6a和圖6b分別為外加熱套的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0031] 實(shí)施實(shí)例1 :本發(fā)明的激光倍頻器的一實(shí)施例：KBBF晶體外腔四倍頻：
[0032] 首先將一塊c方向厚度為3mm的片狀KBBF晶體1的前、后表面進(jìn)行拋光，使前后 表面粗糙度Ra小于0. 5納米，面型精度小于1/8光圈；
[0033] 然后在KBBF晶體1的前表面上鍍一層前增透膜2,后表面上鍍一層后增透膜21 ; 增透膜對(duì)以入射角Θ =62. 16°入射的激光和以同樣角度出射的激光增透；KBBF晶體前表 面上的前增透膜對(duì)532納米激光高透，透射率大于99. 9% ;KBBF晶體后表面上的后增透膜 同時(shí)對(duì)532納米激光和266納米激光高透，透射率大于99. 9% ;
[0034] 如圖2a，整體結(jié)構(gòu)的方柱體晶體架3沿中心軸線方向設(shè)有貫穿的通光孔4;方柱體 晶體架3從頂部堅(jiān)直向下開(kāi)一個(gè)方形卡槽6和通光孔4相通，卡槽大面的法線方向和晶體 架中心軸線夾角Θ角為62. 16° ;晶體架材質(zhì)為紫銅；
[0035] 將鍍好前、后增透膜的KBBF晶體放置在方柱體晶體架中的方形卡槽中，片狀KBBF 晶體前、后表面法線方向和方形卡槽大面的法線方向一致，然后在柱體晶體架3外表面上 套裝上外加熱套5 (圖6a)。維持KBBF晶體溫度恒定在120°C ;
[0036] 將重復(fù)頻率為10千赫茲、脈沖寬度為10納秒的功率為63瓦的線偏振532納米激 光經(jīng)過(guò)一焦距為300毫米的聚焦透鏡后，沿柱體晶體架3的中心軸線方向的通光口 4射入 至KBBF晶體的前表面的前增透膜2,經(jīng)KBBF晶體前表面折射后即可在KBBF晶體內(nèi)部實(shí)現(xiàn) 相位匹配，產(chǎn)生266納米激光從KBBF晶體后表面的后增透膜21沿柱體晶體架3的中心軸 線方向射出，從而得到11. 9瓦的266納米激光的穩(wěn)定輸出，轉(zhuǎn)換效率為18. 9%。
[0037] 實(shí)施例2 :本發(fā)明的激光倍頻器的另一實(shí)施例：KBBF晶體外腔四倍頻：
[0038] 首先將一塊c方向厚度為3mm的片狀KBBF晶體1的前、后表面進(jìn)行拋光，使其前 后表面粗糙度Ra小于0. 5納米，面型精度小于1/8光圈；
[0039] 然后在KBBF晶體前后表面上分別鍍上一層增透膜，增透膜對(duì)以Θ =62. 16°入 射的激光和以同樣角度出射的激光增透；KBBF晶體前表面的前增透膜2對(duì)532納米激光高 透，透射率大于99. 9% ;KBBF晶體后表面的后增透膜21同時(shí)對(duì)532納米激光和266納米激 光高透，透射率大于99.9% ;
[0040] 如圖3,圓柱體晶體架3為由兩個(gè)相同的半圓柱體軸線截面對(duì)接構(gòu)成的圓柱體晶 體架；如圖4,每個(gè)半圓柱體的軸線截面上沿軸線開(kāi)有貫通槽，使得兩個(gè)半圓柱體軸線截面 對(duì)接而成的圓柱體晶體架3沿中心軸線方向具有貫穿晶體的通光孔4 ;每個(gè)半圓柱體的軸 線截面上還開(kāi)有與其垂直的方形卡槽和通光孔相通，方形卡槽大面的法線和晶體架軸線夾 角Θ = 62. 16° ;所述兩個(gè)半圓柱體對(duì)接的軸線截面上分別設(shè)有兩個(gè)凸起和與凸起對(duì)應(yīng)的 兩個(gè)凹槽；兩個(gè)凸起插入與凸起對(duì)應(yīng)的兩個(gè)凹槽中以構(gòu)成圓柱體晶體架3 ;
[0041] 所述圓柱體晶體架3材質(zhì)為鋁；
[0042] 將鍍好增透膜的片狀KBBF晶體放置在半圓柱體的方形卡槽6中，片狀KBBF晶體 前后表面的法線方向和方形卡槽大面的法線方向一致，合上另一個(gè)半圓柱體，半圓柱體上 的兩個(gè)凸起分別嵌合于另一個(gè)半圓柱體的兩個(gè)凹槽中，以使兩個(gè)半圓柱體固定對(duì)接成一個(gè) 同心結(jié)構(gòu)的圓柱體晶體架，然后晶體架外表面裝上外加熱套5 (圖6b)。實(shí)驗(yàn)過(guò)程中將KBBF 晶體溫度恒定在l〇〇°C ;
[0043] 將重復(fù)頻率為10千赫茲，脈沖寬度為10納秒的功率為65瓦的線偏振532納米激 光經(jīng)過(guò)一焦距為250毫米的聚焦透鏡后，沿柱體晶體架3的中心軸線方向射入通光口 4至 KBBF晶體前表面的前增透膜2,經(jīng)KBBF晶體前表面折射后即可在KBBF晶體內(nèi)部實(shí)現(xiàn)相位 匹配，產(chǎn)生266納米激光從KBBF晶體后表面的后增透膜沿柱體晶體架3的中心軸線方向射 出，從而得到12. 6瓦266納米激光的穩(wěn)定輸出，轉(zhuǎn)換效率為19. 4%。
[0044] 實(shí)施例3 :本發(fā)明激光倍頻器的又一實(shí)施例，RBBF外腔四倍頻：
[0045] 首先將一塊c方向厚度為2. 2mm的片狀RBBF晶體的前后表面進(jìn)行拋光，使其前后 表面粗糙度Ra小于0. 5納米，面型精度小于1/8光圈；
[0046] 然后在RBBF晶體前后表面分別鍍上一層增透膜，增透膜對(duì)以Θ = 73.02°入射 的激光和對(duì)以同樣角度出射的激光增透；RBBF晶體前表面的前增透膜2對(duì)532納米激光高 透，透射率大于99. 9% ;RBBF晶體后表面的后增透膜21同時(shí)對(duì)532納米激光和266納米激 光高透，透射率大于99.9% ;
[0047] 如圖2b，整體結(jié)構(gòu)的圓柱體晶體架3沿中心軸線方向設(shè)有貫穿晶體的通光孔4 ;晶 體架從頂部堅(jiān)直向下開(kāi)一個(gè)方形卡槽6和通光孔相通，方形卡槽大面的法線方向和晶體架 中心軸線夾角Θ角為73.02° ;晶體架材質(zhì)為紫銅；
[0048] 將鍍好增透膜的片狀RBBF晶體放置在晶體架中的方形卡槽中，片狀晶體前后表 面法線方向和方形卡槽大面的法線方向一致，然后晶體架外表面裝上外加熱套5(圖6b)。 實(shí)驗(yàn)過(guò)程中維持RBBF晶體恒溫于80°C ;
[0049] 將重復(fù)頻率為10千赫茲，脈沖寬度為10納秒的功率40瓦的線偏振532納米激 光經(jīng)過(guò)一焦距為300毫米的聚焦透鏡后，沿晶體架軸線方向射入倍頻器通光口，經(jīng)RBBF前 表面折射后即可在RBBF晶體內(nèi)部實(shí)現(xiàn)相位匹配，產(chǎn)生的266納米激光從RBBF晶體后表 面沿晶體架軸線方向射出，從而得到功率6. 1瓦的266納米激光的穩(wěn)定輸出，轉(zhuǎn)換效率為 15. 3%。
[0050] 實(shí)施例4 :本發(fā)明的激光倍頻器的第四個(gè)實(shí)施例，RBBF晶體外腔四倍頻：
[0051] 首先將一塊C方向厚度為2. 2mm的片狀RBBF晶體進(jìn)行拋光，使其前后表面粗糙度 Ra小于0. 5納米，面型精度小于1/8光圈；
[0052] 然后在RBBF晶體前后表面分別鍍上一層增透膜，增透膜對(duì)以Θ = 73.02°入射 的激光和對(duì)以同樣角度出射的激光增透；RBBF晶體前表面的前增透膜2對(duì)532納米激光高 透，透射率大于99. 9 % ;RBBF晶體后表面的后增透膜同時(shí)對(duì)532納米激光和266納米激光 高透，透射率大于99.9% ;
[0053] 如圖5,晶體架為兩個(gè)近三棱柱沿相同軸線方向共矩形表面（即近三棱柱的一個(gè) 柱面）構(gòu)成的方柱體，每個(gè)近三棱柱均沿著軸線方向開(kāi)有貫穿通孔，使得兩個(gè)近三棱柱體 共矩形表面對(duì)接而成的方柱體晶體架沿中心軸線方向具有貫穿的通光孔4 ;每個(gè)近三棱柱 體的共矩形表面的法線方向與軸線方向夾角Θ = 73. 02;每個(gè)近三棱柱體的共矩形表面上 還開(kāi)有與矩形表面平行的方形卡槽和通光孔相通，故方形卡槽大面的法線和晶體架軸線夾 角也為Θ ;所述兩個(gè)近三棱柱體上按圖5開(kāi)有四個(gè)帶螺旋的小孔，用于兩個(gè)近三棱柱體的 對(duì)接固定；晶體架材質(zhì)為紫銅。
[0054] 將鍍好增透膜的片狀RBBF晶體放置在一個(gè)近三棱柱體的方形卡槽中，片狀晶體 前后表面法線方向和方形卡槽大面法線方向一致，合上另外一個(gè)近三棱柱體，用四個(gè)螺釘 擰入四個(gè)小孔固定，使得兩近三棱柱體沿相同軸線方向共矩形表面對(duì)接后形成一個(gè)方柱體 晶體架，然后晶體架外表面裝上外加熱套5 (圖6a)，外加熱套5內(nèi)纏繞加熱絲，加熱絲與控 溫儀表7相連，實(shí)驗(yàn)過(guò)程中將RBBF晶體溫度精確恒定在65°C ;
[0055] 將重復(fù)頻率為10千赫茲，脈沖寬度為10納秒的功率41瓦的線偏振532納米激 光經(jīng)過(guò)一焦距為300毫米的聚焦透鏡后，沿晶體架軸線方向射入倍頻器通光口，經(jīng)RBBF前 表面折射后即可在RBBF晶體內(nèi)部實(shí)現(xiàn)相位匹配，產(chǎn)生的266納米激光從RBBF晶體后表 面沿晶體架軸線方向射出，從而得到功率6. 4瓦的266納米激光的穩(wěn)定輸出，轉(zhuǎn)換效率為
【權(quán)利要求】
1. 一種氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其由具有相互平行的前拋光表面和后拋 光表面的片狀KBBF族晶體、分別鍍于所述片狀KBBF族晶體前拋光表面和后拋光表面上的 前增透膜及后增透膜、柱狀晶體架以及套裝于所述柱狀晶體架外表面上的外加熱套組成； 其特征在于，所述柱狀晶體架沿中心軸線方向設(shè)有貫穿所述柱狀晶體架的通光孔；柱狀晶 體架內(nèi)開(kāi)有方形卡槽，所述方形卡槽與通光孔相通，方形卡槽大面的法線與柱狀晶體架中 心軸線成Θ角； 所述片狀KBBF族晶體置于所述柱狀晶體架的方形卡槽內(nèi)，所述片狀KBBF族晶體的前、 后表面的法線方向與所述方形卡槽大面法線方向一致； 基頻激光沿著柱狀晶體架中心軸線方向射入至所述KBBF族晶體前表面的前增透膜， 在所述KBBF族晶體內(nèi)部實(shí)現(xiàn)相位匹配后，并沿柱狀晶體架的中心軸線方向由所述KBBF族 晶體后表面的后增透膜出射倍頻光； 所述KBBF族晶體為氟硼鈹酸鉀晶體或氟硼鈹酸銣晶體；對(duì)于氟硼鈹酸鉀晶體，所述Θ 角為62. 16° ;對(duì)于氟硼鈹酸銣晶體，所述Θ角為73.02° ; 所述前增透膜對(duì)532納米激光高透；所述后增透膜同時(shí)對(duì)532納米激光和266納米激 光高透。
2. 按權(quán)利要求1所述的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其特征在于，所述KBBF 族晶體前拋光表面和后拋光表面均為KBBF族晶體的結(jié)晶學(xué)c面；表面粗糙度Ra小于0. 5 納米，面型精度小于1/8光圈。
3. 按權(quán)利要求1所述的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其特征在于，所述柱狀 晶體架形狀為圓柱體，方柱體或多棱柱體。
4. 按權(quán)利要求1或3所述的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其特征在于，所述柱 狀晶體架由水平方向?qū)⑺龇叫慰ú鄣确值纳舷聝刹糠謽?gòu)成；或由垂向?qū)⑺龇叫慰ú鄣?分的左右兩部分構(gòu)成。
5. 按權(quán)利要求1或3所述的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其特征在于，所述的 柱狀晶體架的材料為紫銅或鋁。
6. 按權(quán)利要求4所述的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其特征在于，所述的柱 狀晶體架的材料為紫銅或鋁。
7. 按權(quán)利要求1所述的氟硼鈹酸鉀族晶體斜入射激光倍頻器，其特征在于，所述的外 加熱套上纏繞加熱絲，加熱絲與控溫儀表相連以精確控溫。
【文檔編號(hào)】H01S3/109GK104092092SQ201410367510
【公開(kāi)日】2014年10月8日 申請(qǐng)日期:2014年7月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月29日
【發(fā)明者】陳創(chuàng)天, 徐波, 王曉洋, 范飛鏑, 劉麗娟, 李如康 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院理化技術(shù)研究所