掩膜版、掩膜版組、像素的制作方法及像素結(jié)構(gòu)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供了一種掩膜版、掩膜版組、像素的制作方法及像素結(jié)構(gòu)，其中掩膜版包括交替排列的遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)，開(kāi)口區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的二倍，相鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的四倍。在掩膜版厚度相同的情況下，本發(fā)明中的掩膜版上遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)的寬度能夠制作的更窄，即亞像素的寬度能夠制作的更精細(xì)，從而提高了OLED顯示器件的畫(huà)面細(xì)膩程度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】掩膜版、掩膜版組、像素的制作方法及像素結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種掩膜版、掩膜版組、像素的制作方法及像素結(jié)構(gòu)。

【背景技術(shù)】
[0002]通常情況下，OLED(Organic Light-Emitting D1de，有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管)顯示器件的一個(gè)像素包括三個(gè)顏色分別為R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的亞像素。PPI(PixelsPer Inch，每英寸所擁有的像素?cái)?shù)目)決定顯示器件畫(huà)面的細(xì)膩程度，PPI越高，畫(huà)面越細(xì)膩。增大PPI的關(guān)鍵在于如何減小單個(gè)亞像素的尺寸。
[0003]目前，OLED顯示器件的像素是使用FMM (Fine Metal Mask,高精度金屬掩模版)通過(guò)真空蒸鍍工藝形成的。形成過(guò)程中，使用掩膜版遮擋住其中兩種顏色的亞像素待形成的區(qū)域，暴露出剩余一種顏色的亞像素待形成的區(qū)域，從而蒸鍍剩余一種顏色的亞像素。如圖1所示，圖中上方的部分為掩膜版的平面圖，下方的部分為掩膜版的截面圖，掩膜版包括遮擋區(qū)101和開(kāi)口區(qū)102，遮擋區(qū)101的側(cè)壁具有一定的側(cè)壁傾斜角度0。在工藝可實(shí)現(xiàn)的前提下，側(cè)壁傾斜角度Θ越小，代表開(kāi)口區(qū)102頂部的開(kāi)口越大，粒子就越容易到達(dá)開(kāi)口區(qū)102底部的邊緣，蒸鍍的亞像素的尺寸和形狀就越接近理想尺寸和形狀，因此側(cè)壁傾斜角度Θ的大小影響蒸鍍效果的好壞。目前側(cè)壁傾斜角度Θ —般為40°?60°。
[0004]若d表不掩膜版的厚度，w表不遮擋區(qū)101的寬度，s表不開(kāi)口區(qū)102的寬度,貝Ij一個(gè)亞像素的寬度P = s = 0.5w。若a為遮擋區(qū)101側(cè)壁在遮擋區(qū)101底部的垂直投影的寬度，b為遮擋區(qū)101頂部在遮擋區(qū)101底部的垂直投影的寬度，則遮擋區(qū)101的寬度w =2a+b。因此，一個(gè)亞像素的寬度 P = 0.5 (2a+b) = a+0.5b = (d/tan θ )+0.5b。可見(jiàn)，在 θ確定的情況下，亞像素的寬度受到掩膜版厚度d的限制，掩膜版厚度越薄，亞像素的寬度越小，PPI就越大。
[0005]但是，掩膜版的厚度越薄，其制作工藝難度越大，制作成本越高。目前用來(lái)蒸鍍OLED像素的掩膜版的厚度通常為40 μ m,最薄為30 μ m,即使采用最薄的30 μ m厚度的掩膜版，OLED的PPI依然無(wú)法得到大幅提升，這導(dǎo)致OLED顯示器件的畫(huà)面顯示細(xì)膩程度無(wú)法提聞。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為克服上述現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題為:提供一種掩膜版、掩膜版組、像素的制作方法及像素結(jié)構(gòu)，以提高OLED顯示器件的畫(huà)面細(xì)膩程度。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0008]一種掩膜版，包括:交替排列的遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)，所述開(kāi)口區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的二倍，相鄰兩個(gè)所述開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度的四倍。
[0009]優(yōu)選的，所述掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)樗稣趽鯀^(qū)或所述開(kāi)口區(qū)。
[0010]優(yōu)選的，所述掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度的一倍、二倍、三倍或四倍。
[0011]優(yōu)選的，用于形成不同顏色的亞像素的掩膜版最左側(cè)的區(qū)域不同。
[0012]本發(fā)明還提供了一種掩膜版組，用于制作顏色各不相同的第一亞像素、第二亞像素和第三亞像素，所述掩膜版組包括:用于制作第一亞像素的第一掩膜版，所述第一掩膜版為以上所述的掩膜版；用于制作第二亞像素的第二掩膜版，所述第二掩膜版為以上所述的掩膜版，在所述第二掩膜版與所述第一掩膜版完全重疊時(shí)，所述第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)交替分布，且相鄰的所述第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間間隔的距離均為一個(gè)亞像素的寬度；用于制作第三亞像素的第三掩膜版，所述第三掩膜版包括交替排列的開(kāi)口區(qū)和遮擋區(qū)，所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)的寬度為所述一個(gè)亞像素的寬度，相鄰兩個(gè)所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為所述一個(gè)亞像素的寬度的二倍，在所述第一掩膜版、所述第二掩膜版和所述第三掩膜版完全重合時(shí)，所述第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間的間隔區(qū)域與所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影完全重疊。
[0013]優(yōu)選的，所述第一掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)檎趽鯀^(qū)，且所述第一掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度的四倍。
[0014]優(yōu)選的，所述第一掩膜版所制作第一亞像素為紅色亞像素。
[0015]優(yōu)選的，所述第二掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)檎趽鯀^(qū)，且所述第二掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度。
[0016]優(yōu)選的，所述第二掩膜版所制作第二亞像素為藍(lán)色亞像素。
[0017]優(yōu)選的，所述第三掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)殚_(kāi)口區(qū)，且所述第三掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度。
[0018]優(yōu)選的，所述第三掩膜版所制作第三亞像素為綠色亞像素。
[0019]本發(fā)明還提供了一種像素的制作方法，所述制作方法應(yīng)用以上所述的掩膜版組，所述制作方法包括:采用所述掩膜版組中的第一掩膜版制作第一亞像素；采用所述掩膜版組中的第二掩膜版制作第二亞像素；采用所述掩膜版組中的第三掩膜版制作第三亞像素。
[0020]優(yōu)選的，所述第一亞像素為紅色亞像素，所述第二亞像素為藍(lán)色亞像素，所述第三亞像素為綠色亞像素。
[0021]優(yōu)選的，所述制作第一亞像素、所述制作第二亞像素和所述制作第三亞像素不分先后順序。
[0022]本發(fā)明還提供了一種像素結(jié)構(gòu)，采用以上所述制作方法制作。
[0023]優(yōu)選的，所述像素結(jié)構(gòu)包括多個(gè)像素重復(fù)單元，每個(gè)所述像素重復(fù)單元包括按照第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素、第二亞像素、第三亞像素和第一亞像素的順序依次排列的6個(gè)亞像素。
[0024]優(yōu)選的，所述第一亞像素為紅色亞像素，所述第二亞像素為藍(lán)色亞像素，所述第三亞像素為綠色亞像素。
[0025]本發(fā)明所提供的掩膜版、掩膜版組、像素的制作方法及像素結(jié)構(gòu)中，對(duì)掩膜版的結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)，使其開(kāi)口區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的二倍，相鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的四倍，采用該種結(jié)構(gòu)的掩膜版制作兩種顏色的亞像素，并采用開(kāi)口區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度且鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的二倍的掩膜版制作剩余一種顏色的亞像素。由于改進(jìn)后的掩膜版開(kāi)口區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的二倍，即能夠暴露兩個(gè)亞像素，而現(xiàn)有技術(shù)中掩膜版開(kāi)口區(qū)所能暴露出的亞像素?cái)?shù)目?jī)H為一個(gè)，并且改進(jìn)后的掩膜版遮擋區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的四倍，即能夠遮擋四個(gè)亞像素，而現(xiàn)有技術(shù)中掩膜版遮擋區(qū)所能暴露出的亞像素?cái)?shù)目?jī)H為兩個(gè)，因此在掩膜版厚度相同的情況下，本發(fā)明中的掩膜版上遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)的寬度能夠制作的更窄，即亞像素的寬度能夠制作的更精細(xì)，從而提高了 OLED顯示器件的畫(huà)面細(xì)膩程度。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。
[0027]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中掩膜版的平面結(jié)構(gòu)和剖面結(jié)構(gòu)圖；
[0028]圖2為本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩膜版的平面結(jié)構(gòu)圖；
[0029]圖3(a)為本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩膜版組的第一掩膜版的平面結(jié)構(gòu)圖；
[0030]圖3(b)為本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩膜版組的第二掩膜版的平面結(jié)構(gòu)圖；
[0031]圖3(c)為本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩膜版組的第三掩膜版的平面結(jié)構(gòu)圖；
[0032]圖4為本發(fā)明實(shí)施例所提供的像素結(jié)構(gòu)的平面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0033]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，均屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0034]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜版，如圖2所示，該掩膜版包括:交替排列的遮擋區(qū)202和開(kāi)口區(qū)201，其中，開(kāi)口區(qū)201的寬度s為一個(gè)亞像素寬度P的二倍，相鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)201之間的遮擋區(qū)202的寬度w為一個(gè)亞像素寬度P的四倍。
[0035]上述掩膜版中，由于開(kāi)口區(qū)201的寬度s為一個(gè)亞像素寬度P的二倍，即開(kāi)口區(qū)201能夠暴露兩個(gè)亞像素，相鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)201之間的遮擋區(qū)202的寬度w為一個(gè)亞像素寬度P的四倍，即遮擋區(qū)202能夠遮擋四個(gè)亞像素，因此若保持開(kāi)口區(qū)201和遮擋區(qū)202的寬度及掩膜版的厚度d均較現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版不變，則采用本實(shí)施例中的掩膜版制作的亞像素的寬度P僅為采用現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版制作的亞像素的寬度的一半。由于掩膜版的厚度d與制作難度成正比關(guān)系，因此本實(shí)施例實(shí)現(xiàn)了在不增加掩膜版制作難度的前提下，降低亞像素的寬度P，在很大程度上降低了掩膜版的厚度d對(duì)亞像素的寬度P的限制作用，增大了顯示器件的PPI，大大提高了畫(huà)面細(xì)膩程度。
[0036]另一方面，由于掩膜版所能達(dá)到的最大厚度為以遮擋區(qū)202的底部寬度為底邊長(zhǎng)且以側(cè)壁傾斜角度Θ為底角角度的等腰三角形的高度，因此若保持所制作的顯示器件的PPI不變，即保持每個(gè)亞像素的寬度P不變，則本實(shí)施例中的掩膜版的遮擋區(qū)202的寬度均較現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版增大了一倍，在遮擋區(qū)的側(cè)壁傾斜角度Θ —定時(shí)，顯然本實(shí)施例中的掩膜版所能達(dá)到的最大厚度遠(yuǎn)大于現(xiàn)有技術(shù)的掩膜版。也就是說(shuō)，本實(shí)施例實(shí)現(xiàn)了在不降低PPI的前提下，能夠采用厚度更厚的掩膜版制作像素。由于掩膜版越厚越不容易產(chǎn)生形變，制作難度就越低，因此本實(shí)施例降低了掩膜版的制作難度。
[0037]由上面的分析可知，掩膜版的厚度d與亞像素的寬度P之間具有一此消彼長(zhǎng)的折中關(guān)系，因此，在實(shí)際開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)和生產(chǎn)過(guò)程中，也不一定必須保持開(kāi)口區(qū)201和遮擋區(qū)202的寬度及掩膜版的厚度d不變，以達(dá)到提高PPI的目的，或者不一定必須保持PPI不變，以達(dá)到降低掩膜版制作難度的目的?；谏鲜霭l(fā)明思想，更為優(yōu)選的是，可以適度增大開(kāi)口區(qū)201和遮擋區(qū)202的寬度，使所形成的亞像素的寬度較現(xiàn)有技術(shù)中所能達(dá)到的最窄寬度減??；在此基礎(chǔ)上，由于開(kāi)口區(qū)201和遮擋區(qū)202的寬度有所增大，因此掩膜版的厚度可制作的更大一些?？梢?jiàn)，采用本實(shí)施例中所提供的掩膜版結(jié)構(gòu)，通過(guò)調(diào)整開(kāi)口區(qū)201和遮擋區(qū)202的寬度與掩膜版的厚度d，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)掩膜版的厚度d與亞像素的寬度P的折中關(guān)系的調(diào)整，使掩膜版的厚度d與亞像素的寬度P按照實(shí)際需求達(dá)到最佳平衡點(diǎn)，從而既提高了PPI，又降低了掩膜版的制作難度。
[0038]由于不同顏色的亞像素在顯示器件顯示平面上的分布位置是不同的，因此用于形成不同顏色的亞像素的掩膜版的結(jié)構(gòu)不同，具體表現(xiàn)在開(kāi)口區(qū)和遮擋區(qū)的位置不同。由于掩膜版上開(kāi)口區(qū)與遮擋區(qū)是交替排列的，因此決定開(kāi)口區(qū)和遮擋區(qū)的位置的因素為起始區(qū)域(若包括開(kāi)口區(qū)和遮擋區(qū)的各個(gè)區(qū)域從左至右逐行排列，則第一個(gè)被排列的區(qū)域?yàn)槠鹗紖^(qū)域，該起始區(qū)域?yàn)槲挥谘谀ぐ孀钭髠?cè)的區(qū)域)和起始區(qū)域的寬度。具體的，掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域(即掩膜版的起始區(qū)域)可為遮擋區(qū)202或開(kāi)口區(qū)201，用于形成不同顏色的亞像素的掩膜版最左側(cè)的區(qū)域不同，掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度可為一個(gè)亞像素寬度P的一倍、二倍、三倍或四倍，以使掩膜版滿(mǎn)足不同顏色的亞像素的制作。
[0039]基于上述結(jié)構(gòu)的掩膜版，本實(shí)施提供了一種掩膜版組，用于制作顏色各不相同的第一亞像素、第二亞像素和第三亞像素，該掩膜版組包括:
[0040]如圖3(a)所示，用于制作第一亞像素的第一掩膜版，該第一掩膜版為以上所述的掩膜版，即開(kāi)口區(qū)3011的寬度s為一個(gè)亞像素寬度P的二倍，相鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)3011之間的遮擋區(qū)3012的寬度w為一個(gè)亞像素寬度P的四倍。
[0041]如圖3(b)所示，用于制作第二亞像素的第二掩膜版，該第二掩膜版為以上所述的掩膜版，即開(kāi)口區(qū)3021的寬度s為一個(gè)亞像素寬度P的二倍，相鄰兩個(gè)開(kāi)口區(qū)3021之間的遮擋區(qū)3022的寬度w為一個(gè)亞像素寬度P的四倍。在第二掩膜版與第一掩膜版完全重疊時(shí)，第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)3021在第一掩膜版上的垂直投影與第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)3011交替分布，且相鄰的第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)3021在第一掩膜版上的垂直投影與第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)3011之間間隔的距離均為一個(gè)亞像素的寬度P。
[0042]圖3(c)所示，用于制作第三亞像素的第三掩膜版，該第三掩膜版包括交替排列的開(kāi)口區(qū)3031和遮擋區(qū)3032，第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)3031的寬度為一個(gè)亞像素的寬度P，相鄰兩個(gè)第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)3031之間的遮擋區(qū)3032的寬度w為一個(gè)亞像素的寬度P的二倍。在第一掩膜版、第二掩膜版和第三掩膜版完全重合時(shí)，第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)3021在第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間的間隔區(qū)域與所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影完全重疊。
[0043]通過(guò)使制作其中兩種顏色的亞像素的掩膜版采用本實(shí)施例所提供的掩膜版的結(jié)構(gòu)(即第一掩膜版和第二掩膜版)，使制作剩余一種顏色的亞像素的掩膜版采用現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)掩膜版的結(jié)構(gòu)(即第三掩膜版)，并使三個(gè)掩膜版在完全重疊后，三個(gè)掩膜版的開(kāi)口區(qū)均相互錯(cuò)開(kāi)，互不重疊，從而可以實(shí)現(xiàn)在顯示器件的顯示平面上的不同位置制作符合需要的像素結(jié)構(gòu)。
[0044]由于上述掩膜版組中采用的第一和第二掩膜版為開(kāi)口區(qū)能夠暴露兩個(gè)亞像素區(qū)域且遮擋區(qū)能夠遮擋四個(gè)亞像素的結(jié)構(gòu)，即在一次制作過(guò)程中，能夠同時(shí)制作兩個(gè)同一顏色的亞像素。與現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版相比，若第一和第二掩膜版為開(kāi)口區(qū)的寬度與現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版的開(kāi)口區(qū)的寬度相等，則上述掩膜版組所制作的亞像素的寬度為現(xiàn)有技術(shù)的二分之一，從而提高了顯示器件的PPI ;若第一和第二掩膜版為開(kāi)口區(qū)的寬度大于與現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版的開(kāi)口區(qū)的寬度，且小于現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版的開(kāi)口區(qū)的寬度的二倍，則上述掩膜版組所制作的亞像素的寬度減小，且掩膜版的厚度能夠適度增大，從而上述掩膜版組既能夠提高PPI，又能夠降低掩膜版的制作難度；若第一和第二掩膜版為開(kāi)口區(qū)的寬度等于與現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜版的開(kāi)口區(qū)的寬度的二倍，則上述掩膜版組中的第一和第二掩膜版能夠設(shè)置的更厚，從而降低了第一和第二掩膜版的制作難度。
[0045]基于上述思想，優(yōu)選的可使第一掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)檎趽鯀^(qū)，且第一掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為一個(gè)亞像素寬度P的四倍；使第二掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)檎趽鯀^(qū)，且第二掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為一個(gè)亞像素寬度P ;第三掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)殚_(kāi)口區(qū)，且第三掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為一個(gè)亞像素寬度P ;從而最終所得到的像素結(jié)構(gòu)中從左至右每行亞像素的排布情況為:第三亞像素、第二亞像素、第二亞像素、第三亞像素、第一亞像素、第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素、第二亞像素、第三亞像素、第一亞像素、第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素、…，可見(jiàn)，每行亞像素以第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素、第二亞像素、第三亞像素、第一亞像素為一重復(fù)單元，由第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素構(gòu)成的像素與由第二亞像素、第三亞像素、第一亞像素構(gòu)成的像素交替排布。
[0046]進(jìn)一步的，可使第一掩膜版所制作第一亞像素為紅色亞像素，第二掩膜版所制作第二亞像素為藍(lán)色亞像素，第三掩膜版所制作第三亞像素為綠色亞像素，從而使每個(gè)像素包括顯示器件進(jìn)行全彩顯示所需要的全部顏色。但是，掩膜版組所包括的三種掩膜版所能夠制作的亞像素的顏色并不限定與此。
[0047]相應(yīng)的，本實(shí)施例提供了一種像素的制作方法，該制作方法應(yīng)用以上所述的掩膜版組，該制作方法包括:采用掩膜版組中的第一掩膜版制作第一亞像素；采用掩膜版組中的第二掩膜版制作第二亞像素；采用掩膜版組中的第三掩膜版制作第三亞像素。
[0048]由于上述方法所采用的掩膜版具有提高PPI和降低掩膜版制作難度的優(yōu)點(diǎn)，因此采用上述像素的制作方法能夠提高顯示器件的PPI，且降低掩膜版制作難度。
[0049]制作第一、第二和第三亞像素的過(guò)程優(yōu)選的可采用蒸鍍工藝。
[0050]制作第一亞像素、制作第二亞像素和制作第三亞像素可不分先后順序，具體順序優(yōu)選的可根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整。
[0051]第一亞像素可為紅色亞像素，第二亞像素為藍(lán)色亞像素，第三亞像素為綠色亞像素。
[0052]本實(shí)施例還提供了一種像素結(jié)構(gòu)，采用以上所述制作方法制作。如圖4所示，該像素結(jié)構(gòu)包括多個(gè)像素重復(fù)單元401，每個(gè)像素重復(fù)單元401包括按照第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素、第二亞像素、第三亞像素和第一亞像素的順序依次排列的6個(gè)亞像素。每個(gè)像素重復(fù)單元401中包括兩個(gè)像素，每行亞像素中，按照第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素排布的像素與按照第二亞像素、第三亞像素、第一亞像素排布的像素交替排列。
[0053]若第一亞像素為紅色亞像素，第二亞像素為藍(lán)色亞像素，第三亞像素為綠色亞像素，則像素結(jié)構(gòu)中每行亞像素的排布可如圖4所示。
[0054]由于上述像素結(jié)構(gòu)的形成采用了上述掩膜版組，因此上述像素結(jié)構(gòu)每個(gè)亞像素的寬度較現(xiàn)有技術(shù)減小，從而提高了 PPI，并且由于所采用的掩膜版組的制作難度減小，因此所采用的掩膜版組的生產(chǎn)成本降低，從而上述像素結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)成本降低。
[0055]以上所述僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種掩膜版，包括:交替排列的遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)，其特征在于，所述開(kāi)口區(qū)的寬度為一個(gè)亞像素寬度的二倍，相鄰兩個(gè)所述開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度的四倍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)樗稣趽鯀^(qū)或所述開(kāi)口區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度的一倍、二倍、三倍或四倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版，其特征在于，用于形成不同顏色的亞像素的掩膜版最左側(cè)的區(qū)域不同。
5.一種掩膜版組，其特征在于，用于制作顏色各不相同的第一亞像素、第二亞像素和第三亞像素，所述掩膜版組包括: 用于制作第一亞像素的第一掩膜版，所述第一掩膜版為權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的掩膜版； 用于制作第二亞像素的第二掩膜版，所述第二掩膜版為權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的掩膜版，在所述第二掩膜版與所述第一掩膜版完全重疊時(shí)，所述第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)交替分布，且相鄰的所述第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間間隔的距離均為一個(gè)亞像素的寬度； 用于制作第三亞像素的第三掩膜版，所述第三掩膜版包括交替排列的開(kāi)口區(qū)和遮擋區(qū)，所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)的寬度為所述一個(gè)亞像素的寬度，相鄰兩個(gè)所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間的遮擋區(qū)的寬度為所述一個(gè)亞像素的寬度的二倍，在所述第一掩膜版、所述第二掩膜版和所述第三掩膜版完全重合時(shí)，所述第二掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影與所述第一掩膜版的開(kāi)口區(qū)之間的間隔區(qū)域與所述第三掩膜版的開(kāi)口區(qū)在所述第一掩膜版上的垂直投影完全重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜版組，其特征在于，所述第一掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)檎趽鯀^(qū)，且所述第一掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度的四倍。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩膜版組，其特征在于，所述第一掩膜版所制作第一亞像素為紅色亞像素。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜版組，其特征在于，所述第二掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)檎趽鯀^(qū)，且所述第二掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩膜版組，其特征在于，所述第二掩膜版所制作第二亞像素為藍(lán)色亞像素。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜版組，其特征在于，所述第三掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域?yàn)殚_(kāi)口區(qū)，且所述第三掩膜版中最左側(cè)的區(qū)域的寬度為所述一個(gè)亞像素寬度。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩膜版組，其特征在于，所述第三掩膜版所制作第三亞像素為綠色亞像素。
12.—種像素的制作方法，其特征在于，所述制作方法應(yīng)用權(quán)利要求5?11任一項(xiàng)所述的掩膜版組，所述制作方法包括:采用所述掩膜版組中的第一掩膜版制作第一亞像素；采用所述掩膜版組中的第二掩膜版制作第二亞像素；采用所述掩膜版組中的第三掩膜版制作第三亞像素。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的像素的制作方法，其特征在于，所述第一亞像素為紅色亞像素，所述第二亞像素為藍(lán)色亞像素，所述第三亞像素為綠色亞像素。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的像素的制作方法，其特征在于，所述制作第一亞像素、所述制作第二亞像素和所述制作第三亞像素不分先后順序。
15.一種像素結(jié)構(gòu)，其特征在于，采用權(quán)利要求12?14任一項(xiàng)所述制作方法制作。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的像素結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述像素結(jié)構(gòu)包括多個(gè)像素重復(fù)單元，每個(gè)所述像素重復(fù)單元包括按照第一亞像素、第三亞像素、第二亞像素、第二亞像素、第三亞像素和第一亞像素的順序依次排列的6個(gè)亞像素。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的像素結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一亞像素為紅色亞像素，所述第二亞像素為藍(lán)色亞像素，所述第三亞像素為綠色亞像素。
【文檔編號(hào)】H01L51/56GK104330954SQ201410421343
【公開(kāi)日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年8月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月25日
【發(fā)明者】吳海東, 金泰逵, 馬群, 白娟娟 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司