一種和頻鈉信標(biāo)激光器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種和頻鈉信標(biāo)激光器，包括：1064nm基頻激光子系統(tǒng)、1319nm基頻激光子系統(tǒng)、和頻子系統(tǒng)以及頻率控制子系統(tǒng)；1064nm基頻激光子系統(tǒng)發(fā)射1064nm的基頻激光并做功率放大，1319nm基頻激光子系統(tǒng)發(fā)射1319nm的基頻激光并做功率放大；放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光在和頻子系統(tǒng)中進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光；頻率控制子系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光的中心頻率以及頻譜，并對(duì)1064nm基頻激光子系統(tǒng)或者1319nm基頻激光子系統(tǒng)進(jìn)行反饋式頻率控制，使得和頻后的589nm鈉信標(biāo)激光對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線。
【專利說(shuō)明】一種和頻鈉信標(biāo)激光器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及全固態(tài)激光器領(lǐng)域，尤其涉及和頻鈉信標(biāo)激光器。

【背景技術(shù)】
[0002]鈉信標(biāo)激光器用來(lái)激發(fā)海拔80_105km大氣電離層中的鈉原子，產(chǎn)生高亮度的鈉導(dǎo)引星，以之作為信標(biāo)源獲取光通過(guò)大氣產(chǎn)生的波前畸變信息，再利用自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)校正大氣擾動(dòng)，可以極大地提高地基光學(xué)望遠(yuǎn)鏡的分辨率，達(dá)到近衍射極限，這對(duì)于天文觀測(cè)與空間目標(biāo)探測(cè)等具有重要意義。
[0003]鈉信標(biāo)激光器的技術(shù)難點(diǎn)在于須與大氣電離層中的鈉原子共振并實(shí)現(xiàn)高亮度，為此對(duì)其幾乎所有性能指標(biāo)都提出了嚴(yán)格要求，如極窄線寬(小于大氣電離層中鈉原子D2譜線寬度1.2GHz)、高平均功率、高光束質(zhì)量、波長(zhǎng)精確鎖定在鈉D2線、高偏振度等，是目前激光技術(shù)研究的國(guó)際熱點(diǎn)和難點(diǎn)之一。
[0004]全固態(tài)激光器、和頻鈉信標(biāo)激光器為鈉信標(biāo)激光技術(shù)的重要研究方向。為滿足應(yīng)用需求，鈉信標(biāo)激光系統(tǒng)研制的技術(shù)難度非常大，對(duì)和頻激光鈉信標(biāo)系統(tǒng)中1064nm基頻激光激光子系統(tǒng)、1319nm基頻激光激光子系統(tǒng)、和頻子系統(tǒng)、及頻率控制系統(tǒng)提出巨大挑戰(zhàn)。其中，高功率高光束質(zhì)量激光輸出、以及頻率及其穩(wěn)定性高精度控制為和頻鈉信標(biāo)激光技術(shù)亟待解決的核心問(wèn)題；高功率高光束質(zhì)量激光輸出技術(shù)難點(diǎn)在于:1064nm激光子系統(tǒng)以及1319nm激光子系統(tǒng)激光功率及光束質(zhì)量提高，相比于1064nm激光，1319nm激光量子效率低，熱效應(yīng)嚴(yán)重，且發(fā)射截面較小，因此1319nm激光子系統(tǒng)功率提高以及高穩(wěn)定性頻率控制更加困難。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的鈉信標(biāo)激光器的缺陷，從而提供一種具有較高選頻、穩(wěn)頻能力的鈉信標(biāo)激光器。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種和頻鈉信標(biāo)激光器，包括:1064nm基頻激光子系統(tǒng)、1319nm基頻激光子系統(tǒng)、和頻子系統(tǒng)以及頻率控制子系統(tǒng)；其中，
[0007]所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)發(fā)射波長(zhǎng)為1064nm的基頻激光并對(duì)該基頻激光做功率放大，所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)發(fā)射波長(zhǎng)為1319nm的基頻激光并對(duì)該基頻激光做功率放大；放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光在和頻子系統(tǒng)中進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光；所述頻率控制子系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光的中心頻率以及頻譜，并對(duì)1064nm基頻激光子系統(tǒng)或者1319nm基頻激光子系統(tǒng)進(jìn)行反饋式頻率控制，使得和頻后的589nm鈉信標(biāo)激光對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線；
[0008]所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)包括:1064nm基頻激光振蕩器、1064nm基頻激光放大器以及1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器；所述1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器位于所述1064nm基頻激光振蕩器內(nèi)，對(duì)1064nm基頻激光振蕩器所產(chǎn)生的激光做頻率選擇與頻率穩(wěn)定性控制，以生成高光束質(zhì)量、窄線寬的1064nm種子激光，所述1064nm基頻激光放大器對(duì)1064nm種子激光做功率放大；
[0009]所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)包括:1319nm基頻激光振蕩器、1319nm基頻激光放大器以及1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器；所述1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器位于所述1319nm基頻激光振蕩器內(nèi)，對(duì)1319nm基頻激光振蕩器所產(chǎn)生的激光做頻率選擇與頻率穩(wěn)定性控制，以生成高光束質(zhì)量、窄線寬的1319nm種子激光，1319nm基頻激光放大器對(duì)1319nm種子激光做功率放大。
[0010]上述技術(shù)方案中，所述1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器對(duì)1064nm基頻激光振蕩器所發(fā)出的激光具有小于0.0Olppm的超低損耗系數(shù)與選頻能力優(yōu)于1.5GHz的高精度選頻穩(wěn)頻能力；所述1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器對(duì)1319nm基頻激光振蕩器所發(fā)出的激光具有小于0.0Olppm的超低損耗系數(shù)與選頻能力優(yōu)于600MHz的高精度選頻穩(wěn)頻能力。
[0011]上述技術(shù)方案中，所述1064nm基頻激光振蕩器進(jìn)一步包括激光諧振腔、激光增益介質(zhì)，所述激光增益介質(zhì)置于所述激光諧振腔內(nèi)，在泵浦條件下，形成1064nm激光振蕩；所述1064nm基頻激光放大器進(jìn)一步包括:用于對(duì)1064nm種子激光的模式進(jìn)行控制及優(yōu)化的1064nm激光模式控制系統(tǒng)、用于對(duì)模式優(yōu)化后的1064nm種子激光進(jìn)行功率放大的1064nm功率放大模塊；
[0012]所述1319nm基頻激光振蕩器進(jìn)一步包括:激光諧振腔，激光增益介質(zhì)，該激光增益介質(zhì)置于所述激光諧振腔內(nèi)，在泵浦條件下，形成1319nm激光振蕩；所述1319nm基頻激光放大器進(jìn)一步包括:1319nm激光模式控制系統(tǒng)，用于對(duì)1319nm種子激光模式進(jìn)行控制及優(yōu)化；1319nm功率放大模塊，用于對(duì)模式優(yōu)化后的1319nm種子激光進(jìn)行功率放大；1319nm高增益譜線抑制器，用于對(duì)1319nm基頻激光放大器中的其他譜線在高增益條件下的超輻射進(jìn)行抑制，實(shí)現(xiàn)特定波長(zhǎng)低增益多通道的選擇性躍遷及放大。
[0013]上述技術(shù)方案中，所述1319nm高增益譜線抑制器至少包括一個(gè)分頻元件，該分頻元件通過(guò)反射或透射分離1319nm激光與其它波長(zhǎng)的超輻射，使得僅有1319nm激光能夠低損耗進(jìn)入下一級(jí)功率放大模塊。
[0014]上述技術(shù)方案中，所述分頻元件采用以下任意一種實(shí)現(xiàn):
[0015]鍍有選擇性介質(zhì)膜的光學(xué)鏡片，所述膜系為:1319nm反射率大于95%的高反膜以及1064nm透過(guò)率大于90%的高透膜，或1319nm透過(guò)率大于95%的高透膜以及1064nm反射率大于90%的高反膜；
[0016]或者色散棱鏡；
[0017]或者偏振片，所述偏振片為:對(duì)1319nm偏振激光反射率大于95%的高反膜以及1604nm透過(guò)率大于90%的高透膜；或1319nm偏振激光透過(guò)率大于95 %的高透膜以及1604nm反射率大于90%的高反膜；
[0018]或者干涉元件。
[0019]上述技術(shù)方案中，所述1064nm基頻激光振蕩器內(nèi)還包括:1064nm脈沖調(diào)制器，該脈沖調(diào)制器位于所述1064nm激光振蕩器諧振腔內(nèi)，垂直光軸放置，其用于實(shí)現(xiàn)1064nm種子激光弛豫振蕩抑制、獲得平滑脈沖；
[0020]所述1319nm基頻激光振蕩器2-1內(nèi)還包括:1319nm脈沖調(diào)制器，該脈沖調(diào)制器位于所述1319nm激光振蕩器諧振腔內(nèi)，垂直光軸放置，其用于實(shí)現(xiàn)1319nm種子激光弛豫振蕩抑制、獲得平滑脈沖。
[0021]上述技術(shù)方案中，所述和頻子系統(tǒng)包括:基頻激光模式控制系統(tǒng)，用于控制及優(yōu)化功率放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光的模式；合束器，用于對(duì)1064nm基頻激光與1319nm基頻激光合束；和頻介質(zhì)，用于對(duì)模式優(yōu)化后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生589nm鈉信標(biāo)激光。
[0022]上述技術(shù)方案中，所述頻率控制子系統(tǒng)采用波長(zhǎng)計(jì)實(shí)現(xiàn)；所述波長(zhǎng)計(jì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)589nm鈉信標(biāo)激光，然后反饋控制1064nm基頻激光振蕩器或1319nm基頻激光振蕩器，實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光閉環(huán)控制對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線。
[0023]上述技術(shù)方案中，所述頻率控制子系統(tǒng)采用589nm頻率調(diào)制器實(shí)現(xiàn)。
[0024]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0025]1、本發(fā)明的和頻鈉信標(biāo)激光器采用超低損耗高色散的精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器以解決現(xiàn)有技術(shù)中基頻激光激光器功率提高、高精度頻率控制以及穩(wěn)頻控制的技術(shù)問(wèn)題，該精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器對(duì)于基頻激光具有極低的損耗系數(shù)，可降低基頻激光損耗提高激光器效率，同時(shí)極大降低精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器產(chǎn)熱量，從而提高其選頻以及穩(wěn)頻能力；
[0026]2、本發(fā)明的和頻鈉信標(biāo)激光器采用了 1319nm高增益譜線抑制器，它能有效抑制高增益條件下其它譜線(尤其是1064nm激光)的多通道超輻射，極大提高1319nm多級(jí)功率放大能量提取效率；
[0027]3、本發(fā)明的和頻納/[目標(biāo)激光器可有效提聞和頻納/[目標(biāo)激光技術(shù)中1064nm基頻激光、特別是1319nm基頻激光的輸出功率，以及基頻極光很光束質(zhì)量，同時(shí)大大降低頻率控制難度，提高系統(tǒng)選頻以及穩(wěn)頻能力；對(duì)于解決鈉信標(biāo)激光技術(shù)瓶頸問(wèn)題具有重要意義。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0028]圖1是本發(fā)明的和頻鈉信標(biāo)激光器的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖2是本發(fā)明實(shí)施例1提供的鈉信標(biāo)激光器結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖3是本發(fā)明和頻納彳目標(biāo)激光器的基本結(jié)構(gòu)不意圖；
[0031]圖4是本發(fā)明實(shí)施例1提供的基頻激光振蕩器結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖5是本發(fā)明實(shí)施例1提供的1319nm放大器結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖6是本發(fā)明實(shí)施例2提供的鈉信標(biāo)激光器結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖7是本發(fā)明實(shí)施例3提供的鈉信標(biāo)激光器結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0035]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0036]參考圖1，本發(fā)明的和頻鈉信標(biāo)激光器包括:1064nm基頻激光子系統(tǒng)l、1319nm基頻激光子系統(tǒng)2、和頻子系統(tǒng)3以及頻率控制子系統(tǒng)4 ;其中，所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)I發(fā)射波長(zhǎng)為1064nm的基頻激光并對(duì)該基頻激光做功率放大，所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)2發(fā)射波長(zhǎng)為1319nm的基頻激光并對(duì)該基頻激光做功率放大；放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光在和頻子系統(tǒng)3中進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光；所述頻率控制子系統(tǒng)4實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光的中心頻率以及頻譜，并對(duì)1064nm基頻激光子系統(tǒng)I以及1319nm基頻激光子系統(tǒng)2進(jìn)行反饋式頻率控制。在圖1中，實(shí)線表示光路，虛線表示頻率控制子系統(tǒng)4對(duì)激光器中的其他部件的控制關(guān)系。
[0037]下面對(duì)和頻鈉信標(biāo)激光器中的各個(gè)部件做進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0038]參考圖2，所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)I進(jìn)一步包括:1064nm基頻激光振蕩器1_1以及1064nm基頻激光放大器；其中的1064nm基頻激光振蕩器1_1產(chǎn)生高光束質(zhì)量、窄線寬的1064nm種子激光，該1064nm種子激光經(jīng)1064nm基頻激光放大器進(jìn)行功率放大。在一個(gè)實(shí)施例中，參見(jiàn)圖3，所述1064nm基頻激光振蕩器1_1可進(jìn)一步包括激光諧振腔1_11、激光增益介質(zhì)1-12，所述激光增益介質(zhì)1-12置于所述激光諧振腔1-11內(nèi)，在泵浦條件下，形成1064nm激光振蕩；所述1064nm基頻激光放大器可進(jìn)一步包括:1064nm激光模式控制系統(tǒng)
1-21、1064nm功率放大模塊1-22。所述1064nm激光模式控制系統(tǒng)1-21用于對(duì)1064nm種子激光的模式進(jìn)行控制及優(yōu)化；其中，本申請(qǐng)中所提到的激光的模式是指激光能量的空間分布方式。所述1064nm功率放大模塊1_22至少有一個(gè)，用于對(duì)模式優(yōu)化后的1064nm種子激光進(jìn)行功率放大。
[0039]所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)2進(jìn)一步包括:1319nm基頻激光振蕩器2-1以及1319nm基頻激光放大器；其中的1319nm基頻激光振蕩器2_1產(chǎn)生高光束質(zhì)量、窄線寬的1319nm種子激光，該1319nm種子激光經(jīng)1319nm基頻激光放大器2_2進(jìn)行功率放大。其中，所述1319nm基頻激光振蕩器2_1進(jìn)一步包括:激光諧振腔2_11，激光增益介質(zhì)2_12，該激光增益介質(zhì)2-12置于所述激光諧振腔2-11內(nèi)，在泵浦條件下，形成1319nm激光振蕩；所述1319nm基頻激光放大器可進(jìn)一步包括:1319nm激光模式控制系統(tǒng)2-21，用于對(duì)1319nm種子激光模式進(jìn)行控制及優(yōu)化；1319nm功率放大模塊2-22,該模塊至少有一個(gè),用于對(duì)模式優(yōu)化后的1319nm種子激光進(jìn)行功率放大；1319nm高增益譜線抑制器2_23，用于對(duì)1319nm基頻激光放大器2-2中的其他譜線在高增益條件下的超輻射進(jìn)行抑制。
[0040]作為一種可選的實(shí)現(xiàn)方式，所述1064nm基頻激光振蕩器1_1內(nèi)還包括:1064nm脈沖調(diào)制器1-7，如圖4所示，該脈沖調(diào)制器位于所述1064nm激光振蕩器諧振腔內(nèi)，垂直光軸放置，其用于實(shí)現(xiàn)1064nm種子激光弛豫振蕩抑制、獲得平滑脈沖。
[0041]類似的，所述1319nm基頻激光振蕩器2-1內(nèi)還包括:1319nm脈沖調(diào)制器，該脈沖調(diào)制器位于所述1319nm激光振蕩器諧振腔內(nèi)，垂直光軸放置，其用于實(shí)現(xiàn)1319nm種子激光弛豫振蕩抑制、獲得平滑脈沖。
[0042]所述1319nm高增益譜線抑制器2_23至少包括一個(gè)分頻元件，1319nm激光經(jīng)分頻元件反射或透射后分離1319nm激光與其它波長(zhǎng)的超輻射，使得僅有1319nm激光可以低損耗進(jìn)入下一級(jí)功率放大模塊，極大提高1319nm功率放大模塊提取效率。所述分頻元件可以采用以下任意一種實(shí)現(xiàn):鍍有選擇性介質(zhì)膜的光學(xué)鏡片，所述膜系可以為1319nm反射率大于95 %的高反膜以及1064nm透過(guò)率大于90 %的高透膜，也可以為1319nm透過(guò)率大于95 %的高透膜以及1064nm反射率大于90%的高反膜；或者色散棱鏡，如三棱鏡；或者偏振片，所述偏振片可以為對(duì)1319nm偏振激光反射率大于95%的高反膜，以及1604nm透過(guò)率大于90%的高透膜，也可以為1319nm偏振激光透過(guò)率大于95%的高透膜，以及1604nm反射率大于90%的高反膜；或者干涉元件,如標(biāo)準(zhǔn)具。
[0043]參考圖2，所述和頻子系統(tǒng)3包括:基頻激光模式控制系統(tǒng)3-1，用于控制及優(yōu)化功率放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光的模式；合束器3_3，用于對(duì)1064nm基頻激光與1319nm基頻激光合束；和頻介質(zhì)3_2，用于對(duì)模式優(yōu)化后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生589nm鈉信標(biāo)激光。
[0044]所述頻率控制子系統(tǒng)4包括:波長(zhǎng)計(jì)4-1 ;所述波長(zhǎng)計(jì)4-1實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)589nm鈉信標(biāo)激光，然后反饋控制1064nm基頻激光振蕩器1_1 (或1319nm基頻激光振蕩器2_1)，實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光精確對(duì)準(zhǔn)鈉原子雙峰譜線，從而實(shí)現(xiàn)高功率、高精度及頻率穩(wěn)定性控制589nm準(zhǔn)連續(xù)鈉信標(biāo)激光。
[0045]作為一種可選的實(shí)現(xiàn)方式，在另一實(shí)施例中，所述頻率控制子系統(tǒng)還可以為589nm頻率調(diào)制器，通過(guò)該頻率調(diào)制器可直接實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光頻率控制，使得和頻后589nm鈉信標(biāo)激光精確對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線。
[0046]作為一種優(yōu)選實(shí)現(xiàn)方式，如圖3所示，所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)I中還包括有1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器1_3，該1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器1_3位于激光諧振腔1-11內(nèi)，且在激光增益介質(zhì)1-12之后(按照光的傳播路徑)；所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)2中還包括有1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器2_3，該1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器2-3位于激光諧振腔2-11內(nèi)，且在激光增益介質(zhì)2-12之后(按照光的傳播路徑)。這兩個(gè)精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器都具有頻率選擇以及頻率穩(wěn)定性控制的功能。具體的說(shuō)，所述精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器對(duì)于激光振蕩器發(fā)出的激光具有超低損耗系數(shù)，如小于0.0Olppm,還具有高精度選頻穩(wěn)頻能力，1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器1_3的選頻能力優(yōu)于1.5GHz，1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器2_3的選頻能力優(yōu)于600MHz。
[0047]在下面的實(shí)施例中會(huì)對(duì)本發(fā)明的和頻鈉信標(biāo)激光器做進(jìn)一步的描述。
[0048]實(shí)施例1
[0049]本實(shí)施例提供一種和頻鈉信標(biāo)激光器，采用側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔主振蕩與行波腔功率放大技術(shù)，獲得589nm和頻鈉信標(biāo)激光輸出。
[0050]本實(shí)施例如圖2和圖3所示，1064nm基頻激光振蕩器1_1為側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔Nd = YAG激光器:1064nm激光振蕩器1-1中具有對(duì)1064nm激光損耗系數(shù)小于0.0Olppm的1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器1_3，其厚度為5mm,兩端面對(duì)1064nm光反射率為60%;1319nm激光振蕩器2-1中具有對(duì)1319nm激光損耗系數(shù)小于0.0Olppm的1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器2-3，其厚度為3mm，兩端面對(duì)1319nm光反射率為70%。采用高精度溫控儀對(duì)兩選頻穩(wěn)頻器進(jìn)行溫度控制。上述激光振蕩器中，分別插入KPT晶體作為脈沖調(diào)制器，抑制弛豫震蕩，晶體尺寸為5X5X5mm，雙端面鍍有1064nm以及1319nm增透膜；KPT晶體分別按兩種波長(zhǎng)I類倍頻相位匹配角切割。
[0051]采用側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔Nd:YAG激光器的1064nm基頻激光振蕩器
1-1的具體結(jié)構(gòu)如圖4所示:激光諧振腔ι-ll包括:三個(gè)10° 1064nm高反鏡1-111，45。1064nm高反鏡1-112以及55.6°偏振片1-113。激光增益介質(zhì)1-12為圓棒狀Nd: YAG晶體，Nd離子摻雜濃度為Iat.%，晶體棒直徑為3mm，長(zhǎng)度為80mm，晶體雙端面鍍有1064nm激光增透膜；兩激光增益介質(zhì)間具有90°旋光晶體1-4，用于補(bǔ)償熱效應(yīng)。激光諧振腔1-11內(nèi)還具有法拉第旋光器1-5與半波片1-6，用于實(shí)現(xiàn)單向運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0052]采用側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔Nd: YAG激光器的1319nm基頻激光振蕩器2-1的具體結(jié)構(gòu)與前述采用側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔Nd:YAG激光器的1064nm基頻激光振蕩器1-1的結(jié)構(gòu)相類似，其激光諧振腔2-11包括三個(gè)10° 1319nm與1064nm高反鏡，45° 131911111與106411111高反鏡，以及55.6°偏振片。激光增益介質(zhì)2-21為圓棒狀Nd:YAG晶體，Nd離子摻雜濃度為Iat.%，晶體棒直徑為3mm，長(zhǎng)度為80mm，晶體雙端面鍍有1319nm與1064nm激光增透膜；兩激光增益介質(zhì)間具有90°旋光晶體，用于補(bǔ)償熱效應(yīng)。激光諧振腔2-11內(nèi)具有法拉第旋光器與半波片，用于實(shí)現(xiàn)單向運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0053]在重復(fù)頻率為500Hz,脈沖寬度為200 μ s條件下,采用側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔Nd = YAG激光器的1064nm基頻激光振蕩器1_1所輸出的種子激光的性能參數(shù)為:平均功率為50W的1064nm種子激光，線寬1.5GHz，光束質(zhì)量M2 = 1.2。在重復(fù)頻率為500Hz，脈沖寬度為200 μ s條件下，采用側(cè)面泵浦雙棒串接四鏡環(huán)形腔Nd: YAG激光器的1319nm基頻激光振蕩器2-1所輸出的種子激光的性能參數(shù)為:平均功率為23W的1319nm種子激光，線寬600MHz，光束質(zhì)量M2 = 1.3。
[0054]1064nm種子激光通過(guò)1064nm激光模式控制系統(tǒng)1_21，經(jīng)行模式控制，使其與1064nm功率放大模塊1_22模式匹配，然后利用1064nm功率放大模塊1_22進(jìn)行激光功率放大；1064nm功率放大模塊1_22采用行波放大技術(shù)，其采用的激光增益介質(zhì)為圓棒狀NdiYAG晶體，Nd離子摻雜濃度為Iat.%，晶體棒直徑為3mm，長(zhǎng)度為80mm的晶體雙端面鍍有1064nm激光增透膜；種子激光經(jīng)過(guò)1064nm功率放大模塊1_22中的泵浦模塊雙程功率放大后，泵浦功率為300W時(shí)，1064nm激光功率放大至80W。
[0055]1319nm功率放大模塊2_22也采用行波放大技術(shù)，其采用的激光增益介質(zhì)為圓棒狀Nd = YAG晶體，Nd離子摻雜濃度為Iat.%，晶體棒直徑為3mm，長(zhǎng)度為80mm晶體雙端面鍍有1319nm與1064nm激光增透膜。
[0056]在圖5中示出了 1319nm激光做功率放大的過(guò)程，如圖所示，1319nm種子激光先通過(guò)1319nm激光第一模式控制元件2-211，經(jīng)行模式控制，使其與1319nm功率放大模塊2-22模式匹配，然后利用1319nm功率放大模塊2_22進(jìn)行激光功率放大；所述1319nm功率放大模塊2-22包括第一泵浦模塊2-221、第二泵浦模塊2-222、第三泵浦模塊2-223以及第四泵浦模塊2-224 ;在所述的第一泵浦模塊2-221、第二泵浦模塊2-222之間具有能抑制1064nm等其它波長(zhǎng)形成超輻射的透射式高增益譜線抑制器2-231以及1319nm激光第二模式控制元件2-212，在所述第二泵浦模塊2-222之后還包括有1319nm激光第三模式控制元件2-213 ;1319nm激光經(jīng)1319nm激光第一模式控制元件2-211出射后，依次經(jīng)過(guò)偏振片
2-24、第一泵浦模塊2-221、透射式高增益譜線抑制器2-231、1319nm激光第二模式控制元件2-212、第二泵浦模塊2-222后，到達(dá)1319nm激光第三模式控制元件2-213 ;該1319nm激光第三模式控制元件2-213對(duì)激光做模式控制與反射，反射后的激光再依次通過(guò)第二泵浦模塊2-222、1319nm激光第二模式控制元件2-212、透射式高增益譜線抑制器2-231、第一泵浦模塊2-221，實(shí)現(xiàn)對(duì)激光的雙程功率預(yù)防大；預(yù)防大后的1319nm激光在偏振片2_24處反射后到達(dá)反射式高增益譜線抑制器2-232，然后通過(guò)1319nm激光第四模式控制元件2-214做模式控制，最后經(jīng)過(guò)第三泵浦模塊2-223以及第四泵浦模塊2-224做單程功率放大。泵浦功率為400W時(shí)，1319nm激光功率可放大至60W。
[0057]上述過(guò)程中，透射式高增益譜線抑制器2-231為光學(xué)鏡片，所述膜系為:1319nm透過(guò)率大于95%的高透膜以及1064nm反射率大于90%的高反膜。反射式高增益譜線抑制器
2-232為光學(xué)鏡片，所述膜系為:1319nm反射率大于95%的高反膜以及1064nm透過(guò)率大于90%的高透膜。
[0058]功率放大后1064nm與1319nm基頻激光通過(guò)基頻激光模式控制系統(tǒng)3_1進(jìn)行模式控制與優(yōu)化，并通過(guò)合束器3-3進(jìn)行和束，然后經(jīng)LBO和頻晶體3-2進(jìn)行和頻，獲得功率為30W的準(zhǔn)連續(xù)589nm鈉信標(biāo)激光。
[0059]頻率控制子系統(tǒng)4包括:波長(zhǎng)計(jì)4-1 ;所述波長(zhǎng)計(jì)4-1實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)589nm鈉信標(biāo)激光，然后反饋控制1064nm基頻激光振蕩器1_1 (該反饋控制過(guò)程在圖2中標(biāo)記為4_2)，實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光精確對(duì)準(zhǔn)鈉原子雙峰譜線，從而實(shí)現(xiàn)高功率、高精度及頻率穩(wěn)定性控制589nm準(zhǔn)連續(xù)鈉信標(biāo)激光。
[0060]本發(fā)明提供的和頻鈉信標(biāo)激光器，采用精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器解決現(xiàn)有技術(shù)中基頻激光激光器功率提高、高精度頻率控制以及穩(wěn)頻控制的技術(shù)問(wèn)題；采用1319nm高增益譜線抑制器，有效抑制高增益條件下其它譜線(尤其是1064nm激光)超輻射，極大提高1319nm功率放大模塊提取效率，從而提高鈉信標(biāo)激光輸出功率以及頻率控制能力。
[0061]實(shí)施例2
[0062]本實(shí)施例提供一種和頻鈉信標(biāo)激光器，采用單塊非平面環(huán)形腔技術(shù)與注入鎖定技術(shù)，獲得589nm和頻鈉信標(biāo)激光輸出，如圖6所示。
[0063]在本實(shí)施例中，基頻激光振蕩器采用單塊非平面環(huán)形腔Nd:YAG激光器，采用TEC溫控儀對(duì)晶體進(jìn)行精確控溫，控溫精度±0.1°C，輸出1064nm種子激光功率為800mW，1319nm種子激光功率為600mW。
[0064]1064nm激光放大器采用I3DH注入鎖定放大技術(shù)，激光介質(zhì)選用Nd離子摻雜濃度為0.6at.%的Nd = YAG晶體棒，晶體直徑為3mm，長(zhǎng)80mm ；PDH注入鎖定放大器結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1中1064nm基頻激光振蕩器結(jié)構(gòu)類似，不同之處在于諧振腔腔鏡1_112為45° 1064nm高透鏡；放大器泵浦功率為450W時(shí)，1064nm種子光功率放大至60W。
[0065]1319nm激光放大器采用TOH注入鎖定預(yù)放與行波腔功率放大技術(shù)，激光介質(zhì)選用Nd離子摻雜濃度為0.6at.%的Nd = YAG晶體棒，晶體直徑為3mm，長(zhǎng)80mm ;1319nm激光放大器采用PDH注入鎖定預(yù)放與實(shí)施例1中1319nm基頻激光振蕩器結(jié)構(gòu)類似，不同之處在于45° 1319nm與1064nm高反鏡改為45。1319nm高透鏡。
[0066]與實(shí)施例1中1064nm基頻激光振蕩器結(jié)構(gòu)類似，1064nm注入鎖定諧振腔內(nèi)插入超低損耗標(biāo)準(zhǔn)具1-3，同時(shí)作為高增益譜線抑制器以及精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器；預(yù)放泵浦功率為400W時(shí)，1064nm種子光功率放大至15W。與實(shí)施例1中1319nm基頻激光振蕩器結(jié)構(gòu)類似，1319nm注入鎖定諧振腔內(nèi)插入超低損耗標(biāo)準(zhǔn)具1_3，同時(shí)作為高增益譜線抑制器以及精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器，所用超低損耗標(biāo)準(zhǔn)具與實(shí)施例1相同。本實(shí)施例中行波腔功率放大器結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1中1319nm雙程功率預(yù)放結(jié)構(gòu)相同，將1319nm激光功率放大至40W。
[0067]功率放大后1064nm與1319nm基頻激光通過(guò)基頻激光模式控制系統(tǒng)3_1進(jìn)行模式控制與優(yōu)化，并經(jīng)合束器3-3進(jìn)行和束，然后經(jīng)PPKTP和頻晶體3-2進(jìn)行和頻，獲得功率為18W的準(zhǔn)連續(xù)589nm鈉信標(biāo)激光。
[0068]頻率控制子系統(tǒng)4由波長(zhǎng)計(jì)4-1與反饋控制系統(tǒng)4-2組成。波長(zhǎng)計(jì)4_1實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)589nm鈉信標(biāo)激光，然后反饋控制1319nm注入鎖定諧振腔內(nèi)的超低損耗標(biāo)準(zhǔn)具1_3，實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光精確對(duì)準(zhǔn)鈉原子雙峰譜線，從而實(shí)現(xiàn)高功率高精度及頻率穩(wěn)定性控制589nm準(zhǔn)連續(xù)鈉信標(biāo)激光。
[0069]實(shí)施例3:
[0070]本實(shí)施例提供一種和頻鈉信標(biāo)激光器，板條放大技術(shù)，獲得589nm和頻鈉信標(biāo)激光輸出
[0071]激光器結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1基本相同，如圖7所示。
[0072]不同之處在于:
[0073]1319nm激光放大器采用兩級(jí)板條放大，每個(gè)功率放大模塊包括:半導(dǎo)體泵浦源以及板條介質(zhì)。所述板條介質(zhì)即為前文所提到的激光增益介質(zhì)。
[0074]Nd: YAG板條增益介質(zhì)Nd離子摻雜濃度為0.6%,其尺寸為80mmX 30mmX 3mm的平行六面體板條，板條的兩個(gè)上下大平面平行，兩個(gè)左右端面也平行并與大平面成布魯斯特角；
[0075]半導(dǎo)體泵浦源包含個(gè)泵浦面陣，每個(gè)面陣由60個(gè)半導(dǎo)體激光(LD)列陣組成，按20行3列排列，每個(gè)LD輸出功率20W，波長(zhǎng)808nm ;半導(dǎo)體泵源發(fā)射的泵浦激光由光束整形系統(tǒng)整形為80X30mm 口徑的光束從板條狀激光介質(zhì)的上下兩大面對(duì)稱進(jìn)入板條狀激光介質(zhì)進(jìn)行泵浦；
[0076]板條狀激光介質(zhì)上下兩大平面分別鍍有Si02薄膜，使種子光在板條狀激光介質(zhì)的兩個(gè)大平面之間進(jìn)行全內(nèi)反射，實(shí)現(xiàn)Z型傳輸，同時(shí)薄膜為泵浦光波長(zhǎng)的增透膜；薄膜上再鍵合或光膠熱導(dǎo)率高、透光性好的透明冷卻裝置；透明冷卻裝置被加工成微通道結(jié)構(gòu)以增加冷卻面積并形成湍流，從而進(jìn)一步提高冷卻效率，透明冷卻裝置內(nèi)部有水冷通道，由循環(huán)水進(jìn)行冷卻，由此對(duì)板條狀激光介質(zhì)進(jìn)行冷卻；板條狀激光介質(zhì)左右兩端面分別鍍有1319nm以及1064nm增透膜,分別作為激光輸入端和激光輸出端,種子光從左端面輸入,在板條激光介質(zhì)兩大面間進(jìn)行全反射，并從右端面輸出，在板條狀激光介質(zhì)內(nèi)部實(shí)現(xiàn)激光功率放大。
[0077]不同之處在于:
[0078]兩級(jí)功率放大模塊之間，高增益譜線抑制器2-23為棱鏡。
[0079]不同之處還在于:
[0080]頻率控制子系統(tǒng)，為589nm頻率調(diào)制器，直接實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光頻率控制，使得和頻后589nm鈉信標(biāo)激光精確對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線
[0081]可見(jiàn)，本發(fā)明采用精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器以解決現(xiàn)有技術(shù)中基頻激光激光器功率提高、高精度頻率控制以及穩(wěn)頻控制的技術(shù)問(wèn)題，該精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器對(duì)于基頻激光具有極低的損耗系數(shù)，可降低基頻激光損耗提高激光器效率，同時(shí)極大降低精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器產(chǎn)熱量，從而提高其選頻以及穩(wěn)頻能力；
[0082]再者，發(fā)明一種1319nm高增益譜線抑制器，有效抑制高增益條件下其它譜線(尤其是1064nm激光)超輻射，極大提高1319nm功率放大模塊提取效率；
[0083]利用上述兩個(gè)技術(shù)，可有效提聞和頻納/[目標(biāo)激光技術(shù)中1064nm基頻激光、特別是1319nm基頻激光的輸出功率，從而提高鈉信標(biāo)激光輸出功率，同時(shí)大大降低頻率控制難度，對(duì)于解決鈉信標(biāo)激光技術(shù)瓶頸問(wèn)題具有重要意義。
[0084]最后所應(yīng)說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制。盡管參照實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，都不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【權(quán)利要求】
1.一種和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，包括:1064nm基頻激光子系統(tǒng)(l)、1319nm基頻激光子系統(tǒng)(2)、和頻子系統(tǒng)(3)以及頻率控制子系統(tǒng)(4);其中， 所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)(I)發(fā)射波長(zhǎng)為1064nm的基頻激光并對(duì)該基頻激光做功率放大，所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)(2)發(fā)射波長(zhǎng)為1319nm的基頻激光并對(duì)該基頻激光做功率放大；放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光在和頻子系統(tǒng)(3)中進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光；所述頻率控制子系統(tǒng)(4)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)為589nm的鈉信標(biāo)激光的中心頻率以及頻譜，并對(duì)1064nm基頻激光子系統(tǒng)(I)或者1319nm基頻激光子系統(tǒng)(2)進(jìn)行反饋式頻率控制，使得和頻后的589nm鈉信標(biāo)激光對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線； 所述1064nm基頻激光子系統(tǒng)(I)包括:1064nm基頻激光振蕩器(1_1)、1064nm基頻激光放大器以及1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器(1_3);所述1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器(1-3)位于所述1064nm基頻激光振蕩器(1-1)內(nèi)，對(duì)1064nm基頻激光振蕩器(1-1)所產(chǎn)生的激光做頻率選擇與頻率穩(wěn)定性控制，以生成高光束質(zhì)量、窄線寬的1064nm種子激光，所述1064nm基頻激光放大器對(duì)1064nm種子激光做功率放大； 所述1319nm基頻激光子系統(tǒng)(2)包括:1319nm基頻激光振蕩器(2_1)、1319nm基頻激光放大器以及1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器(2_3);所述1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器(2-3)位于所述1319nm基頻激光振蕩器(2_1)內(nèi)，對(duì)1319nm基頻激光振蕩器(2_1)所產(chǎn)生的激光做頻率選擇與頻率穩(wěn)定性控制，以生成高光束質(zhì)量、窄線寬的1319nm種子激光，1319nm基頻激光放大器對(duì)1319nm種子激光做功率放大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述1064nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器(1-3)對(duì)1064nm基頻激光振蕩器(1_1)所發(fā)出的激光具有小于0.0Olppm的超低損耗系數(shù)與選頻能力優(yōu)于1.5GHz的高精度選頻穩(wěn)頻能力；所述1319nm激光精密波長(zhǎng)線寬調(diào)控器(2-3)對(duì)1319nm基頻激光振蕩器(2_1)所發(fā)出的激光具有小于0.0Olppm的超低損耗系數(shù)與選頻能力優(yōu)于600MHz的高精度選頻穩(wěn)頻能力。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述1064nm基頻激光振蕩器(1-1)進(jìn)一步包括激光諧振腔(1-11)、激光增益介質(zhì)(1-12)，所述激光增益介質(zhì)(1-12)置于所述激光諧振腔(1-11)內(nèi)，在泵浦條件下，形成1064nm激光振蕩；所述1064nm基頻激光放大器進(jìn)一步包括:用于對(duì)1064nm種子激光的模式進(jìn)行控制及優(yōu)化的1064nm激光模式控制系統(tǒng)(1-21)、用于對(duì)模式優(yōu)化后的1064nm種子激光進(jìn)行功率放大的1064nm功率放大模塊(1-22)； 所述1319nm基頻激光振蕩器(2_1)進(jìn)一步包括:激光諧振腔(2_11)，激光增益介質(zhì)(2-12)，該激光增益介質(zhì)(2-12)置于所述激光諧振腔(2-11)內(nèi)，在泵浦條件下，形成1319nm激光振蕩；所述1319nm基頻激光放大器進(jìn)一步包括:1319nm激光模式控制系統(tǒng)(2-21)，用于對(duì)1319nm種子激光模式進(jìn)行控制及優(yōu)化；1319nm功率放大模塊(2_22)，用于對(duì)模式優(yōu)化后的1319nm種子激光進(jìn)行功率放大；1319nm高增益譜線抑制器(2_23)，用于對(duì)1319nm基頻激光放大器(2_2)中的其他譜線在高增益條件下的超輻射進(jìn)行抑制，實(shí)現(xiàn)特定波長(zhǎng)低增益多通道的選擇性躍遷及放大。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述1319nm高增益譜線抑制器(2-23)至少包括一個(gè)分頻元件，該分頻元件通過(guò)反射或透射分離1319nm激光與其它波長(zhǎng)的超輻射，使得僅有1319nm激光能夠低損耗進(jìn)入下一級(jí)功率放大模塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述分頻元件采用以下任意一種實(shí)現(xiàn): 鍍有選擇性介質(zhì)膜的光學(xué)鏡片，所述膜系為:1319nm反射率大于95%的高反膜以及1064nm透過(guò)率大于90 %的高透膜，或1319nm透過(guò)率大于95 %的高透膜以及1064nm反射率大于90%的聞反月旲； 或者色散棱鏡； 或者偏振片，所述偏振片為:對(duì)1319nm偏振激光反射率大于95%的高反膜以及1604nm透過(guò)率大于90%的高透膜；或1319nm偏振激光透過(guò)率大于95%的高透膜以及1604nm反射率大于90%的高反膜； 或者干涉元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述1064nm基頻激光振蕩器(1-1)內(nèi)還包括:1064nm脈沖調(diào)制器(1_7)，該脈沖調(diào)制器位于所述1064nm激光振蕩器諧振腔(1-11)內(nèi)，垂直光軸放置，其用于實(shí)現(xiàn)1064nm種子激光弛豫振蕩抑制、獲得平滑脈沖； 所述1319nm基頻激光振蕩器2-1內(nèi)還包括:1319nm脈沖調(diào)制器，該脈沖調(diào)制器位于所述1319nm激光振蕩器諧振腔內(nèi)，垂直光軸放置，其用于實(shí)現(xiàn)1319nm種子激光弛豫振蕩抑制、獲得平滑脈沖。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述和頻子系統(tǒng)(3)包括:基頻激光模式控制系統(tǒng)(3-1)，用于控制及優(yōu)化功率放大后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光的模式；合束器(3-3)，用于對(duì)1064nm基頻激光與1319nm基頻激光合束；和頻介質(zhì)(3-2)，用于對(duì)模式優(yōu)化后的1064nm基頻激光與1319nm基頻激光進(jìn)行非線性頻率變換，產(chǎn)生589nm鈉信標(biāo)激光。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述頻率控制子系統(tǒng)(4)采用波長(zhǎng)計(jì)(4-1)實(shí)現(xiàn)；所述波長(zhǎng)計(jì)(4-1)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)589nm鈉信標(biāo)激光，然后反饋控制1064nm基頻激光振蕩器(1-1)或1319nm基頻激光振蕩器(2_1)，實(shí)現(xiàn)589nm鈉信標(biāo)激光閉環(huán)控制對(duì)準(zhǔn)鈉原子D2a與D2b雙峰譜線。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的和頻鈉信標(biāo)激光器，其特征在于，所述頻率控制子系統(tǒng)(4)采用589nm頻率調(diào)制器實(shí)現(xiàn)。
【文檔編號(hào)】H01S3/13GK104269731SQ201410539472
【公開(kāi)日】2015年1月7日 申請(qǐng)日期:2014年10月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月14日
【發(fā)明者】彭欽軍, 薄勇, 許祖彥, 宗楠, 申玉, 左軍衛(wèi) 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院理化技術(shù)研究所