電容薄膜電暈處理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種電容薄膜電暈處理裝置，包括電暈處理輥、導(dǎo)輥、冷凝輥及電極發(fā)生器，導(dǎo)輥和冷凝輥分別位于電暈處理輥的左右兩側(cè)上方，電極發(fā)生器與電暈處理輥底部位置相對，電容薄膜由導(dǎo)輥牽引繞過電暈處理輥底部，經(jīng)電暈處理輥與電極發(fā)生器的電暈作用后，經(jīng)冷凝輥導(dǎo)出。該裝置還包括鴨嘴狀空氣刀，空氣刀介于導(dǎo)輥與電暈處理輥之間，其鴨嘴尖端留有開口縫隙，并正對著電容薄膜與電暈處理輥接觸面的背面，空氣壓力由鴨嘴尖端縫隙傳出，使得電容薄膜緊貼于電暈處理輥表面。本實用新型將電容薄膜壓緊于電暈處理輥接觸表面，不僅有效保證電暈處理效果，而且能使得電容薄膜不容易被損壞，同時，還減小操作難度，省時省力。
【專利說明】電容薄膜電暈處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實用新型涉及電容薄膜的工藝操作裝置，具體涉及電容薄膜電暈處理裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的金屬化電容器，與箔式電容器相比，具有體積小、加工方便、在擊穿時通過放電實現(xiàn)“自愈”等優(yōu)點。而電容器金屬化的關(guān)鍵步驟就是電容薄膜的電暈處理。由于電容薄膜厚度只有3-10微米，而幅寬在5000毫米以上，加工時生產(chǎn)線速度達(dá)到300米/分鐘，比較快，因而在電暈處理時，薄膜必須緊貼電暈處理輥，不能留有空氣，否則薄膜會產(chǎn)生背面電暈處理，影響處理效果?，F(xiàn)有的電暈處理裝置，就是在電暈處理輥前設(shè)有壓輥，通過壓輥來實現(xiàn)將電容薄膜壓緊在電暈處理輥表面。由于壓輥具有一定重量，而電容薄膜不僅薄，而且幅寬較寬，因此，想實現(xiàn)電容薄膜與電暈處理輥的緊密貼合，又不破壞電容薄膜，難度較大，即使壓輥采用昂貴的碳纖維來減重，效果也不是太好。另外，由于生產(chǎn)線速度比較快，對壓輥的動平衡級別要求也比較高，加大了工件加工精度，費時費力。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對上述缺陷，本實用新型提供一種結(jié)構(gòu)簡單、工件加工難度小、操作效果明顯的電容薄膜電暈處理裝置。
[0004]本實用新型通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):電容薄膜電暈處理裝置，包括電暈處理輥、導(dǎo)輥、冷凝輥及電極發(fā)生器，導(dǎo)輥和冷凝輥分別位于電暈處理輥的左右兩側(cè)上方，電極發(fā)生器與電暈處理輥底部位置相對，電容薄膜由導(dǎo)輥牽引繞過電暈處理輥底部，經(jīng)電暈處理輥與電極發(fā)生器的電暈作用后，經(jīng)冷凝輥導(dǎo)出。該裝置還包括鴨嘴狀空氣刀，空氣刀介于導(dǎo)輥與電暈處理輥之間，其鴨嘴尖端留有開口縫隙，并正對著電容薄膜與電暈處理輥接觸面的背面，空氣壓力由鴨嘴尖端縫隙傳出，使得電容薄膜緊貼于電暈處理輥表面。
[0005]本實用新型進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案是:所述鴨嘴狀空氣刀固定于活動支承座上，活動支承座的彎曲角度可以調(diào)節(jié)。
[0006]所述鴨嘴狀空氣刀的鴨嘴尖端縫隙可以調(diào)節(jié)。
[0007]所述鴨嘴狀空氣刀由變頻風(fēng)機(jī)控制，風(fēng)量大小可以調(diào)節(jié)。
[0008]本實用新型通過在電暈處理輥前設(shè)有鴨嘴狀空氣刀，再通過鴨嘴狀空氣刀的鴨嘴尖端傳送空氣壓力，進(jìn)而將電容薄膜壓緊于電暈處理輥接觸表面，不僅有效保證電容薄膜在電暈處理輥與電極發(fā)生器作用區(qū)域的電暈處理效果，而且能使得電容薄膜不容易被損壞，同時，還減小操作難度，省時省力。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0010]如圖1所示，電容薄膜電暈處理裝置，包括電暈處理輥1、導(dǎo)輥2、冷凝輥3、電極發(fā)生器4，其中:電暈處理輥I的左右兩側(cè)上方分別設(shè)有導(dǎo)輥2和冷凝輥3，電容薄膜5由導(dǎo)輥2牽引繞過電暈處理輥I底部，再經(jīng)冷凝輥3導(dǎo)出。
[0011]電暈處理輥I底部相對設(shè)有電極發(fā)生器4，形成電暈處理作業(yè)區(qū)域，對繞過電暈處理輥I底部的電容薄膜5進(jìn)行電暈處理。
[0012]在導(dǎo)輥2與電暈處理輥I之間，還設(shè)有鴨嘴狀空氣刀6，該空氣刀6固定安裝于活動支承座7上，活動支承座7傾角可以調(diào)節(jié)，進(jìn)而調(diào)整空氣刀的安裝角度。所述空氣刀6的鴨嘴尖端留有開口縫隙，方向正對著電容薄膜5與電暈處理輥I接觸面的背面，根據(jù)生產(chǎn)的電容薄膜產(chǎn)品不同，縫隙的大小可以調(diào)節(jié)，范圍為0.5毫米到I毫米。所述空氣刀6由變頻風(fēng)機(jī)控制，風(fēng)量大小可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)節(jié)?？諝鈮毫τ渗喿旒舛丝p隙傳出，使得電容薄膜5緊貼于電暈處理輥I表面，確保電暈處理效果。
[0013]本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，加工難度小，操作方便，電暈處理效果明顯，生產(chǎn)質(zhì)量穩(wěn)定。
【權(quán)利要求】
1.電容薄膜電暈處理裝置，包括電暈處理輥(I)、導(dǎo)輥(2)、冷凝輥(3)及電極發(fā)生器(4)，導(dǎo)輥(2)和冷凝輥(3)分別位于電暈處理輥(I)的左右兩側(cè)上方，電極發(fā)生器(4)與電暈處理輥(I)底部位置相對，電容薄膜(5)由導(dǎo)輥(2)牽引繞過電暈處理輥(I)底部，經(jīng)電暈處理輥(I)與電極發(fā)生器(4)的電暈作用后，經(jīng)冷凝輥(3)導(dǎo)出，其特征在于:該裝置還包括鴨嘴狀空氣刀(6)，空氣刀(6)介于導(dǎo)輥(2)與電暈處理輥(I)之間，其鴨嘴尖端留有開口縫隙，并正對著電容薄膜(5)與電暈處理輥(I)接觸面的背面，空氣壓力由鴨嘴尖端縫隙傳出，使得電容薄膜(5 )緊貼于電暈處理輥(I)表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容薄膜電暈處理裝置，其特征在于:所述鴨嘴狀空氣刀(6)固定于活動支承座(7)上，活動支承座(7)傾角可以調(diào)節(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容薄膜電暈處理裝置，其特征在于:所述鴨嘴狀空氣刀(6)的鴨嘴尖端縫隙可以調(diào)節(jié)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的電容薄膜電暈處理裝置，其特征在于:所述鴨嘴狀空氣刀(6)由變頻風(fēng)機(jī)控制，風(fēng)量大小可以調(diào)節(jié)。
【文檔編號】H01G13/00GK203931843SQ201420084630
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年2月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月27日
【發(fā)明者】李坤彪, 汪澤富, 邵友林 申請人:江蘇中立方實業(yè)有限公司