透明雙面導(dǎo)電膜的制作方法
【專利摘要】透明雙面導(dǎo)電膜，包括作為基材的PET膜、附著于PET膜上表面作為上導(dǎo)電層的ITO膜、以及附著于PET膜下表面的UV壓印膠層，UV壓印膠層上設(shè)置有多個(gè)下凹槽，該多個(gè)下凹槽內(nèi)填充有作為下導(dǎo)電層的導(dǎo)電金屬條。本實(shí)用新型下表面的導(dǎo)電層采用壓印并填埋金屬的方式制成，回避了在PET膜下表面鍍高質(zhì)量ITO這一技術(shù)難題，在保證透明雙面導(dǎo)電膜的使用性能的前提下，簡化了生產(chǎn)工藝，并且可以提高良率，降低成本。
【專利說明】透明雙面導(dǎo)電膜

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及觸摸屏【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種透明雙面導(dǎo)電膜。

【背景技術(shù)】
[0002] 透明導(dǎo)電膜是既有高的導(dǎo)電性、又對可見光有很好的透光性、并且對紅外光有較 高反射性的薄膜，因此，被普遍的應(yīng)用于平板顯示、光伏器件、觸控面板等領(lǐng)域，市場的需求 量極大。
[0003] 在應(yīng)用GFF全貼合技術(shù)生產(chǎn)透明雙面導(dǎo)電膜的工藝中，通常需要制作上電路和下 電路兩層單面導(dǎo)電ΙΤ0膜，然后將上、下兩層單面導(dǎo)電ΙΤ0膜貼合在PET基材上形成透明雙 面導(dǎo)電膜，這種結(jié)構(gòu)的透明雙面導(dǎo)電膜的制作工藝復(fù)雜且冗長，因此良率較低，同時(shí)，由于 雙面ΙΤ0膜都需要進(jìn)行蝕刻，會(huì)造成ΙΤ0這種昂貴金屬的較大浪費(fèi)，總之，目前的透明雙面 導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)既導(dǎo)致制作工藝復(fù)雜，又會(huì)存在良率較低、成本較高的缺陷。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的旨在于提供一種透明雙面導(dǎo)電膜，其能 夠在保證透明雙面導(dǎo)電膜的使用性能的前提下，簡化其生產(chǎn)工藝，并且可以提高良率，降低 成本。
[0005] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：
[0006] 透明雙面導(dǎo)電膜，包括作為基材的PET膜、附著于PET膜上表面作為上導(dǎo)電層的 ΙΤ0膜、以及附著于PET膜下表面的UV壓印膠層，UV壓印膠層上設(shè)置有多個(gè)下凹槽，該多個(gè) 下凹槽內(nèi)填充有作為下導(dǎo)電層的導(dǎo)電金屬條。
[0007] ΙΤ0膜上蝕刻有上凹槽。
[0008] UV壓印膠層的厚度為3-6 μ m，導(dǎo)電金屬條的厚度小于UV壓印膠層的厚度。
[0009] 本實(shí)用新型的有益效果在于：
[0010] 相比于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型下表面的導(dǎo)電層采用壓印并填埋金屬的方式制成， 回避了在PET膜下表面鍍高質(zhì)量ΙΤ0這一技術(shù)難題，在保證透明雙面導(dǎo)電膜的使用性能的 前提下，簡化了生產(chǎn)工藝，并且可以提高良率，降低成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011] 圖1為本實(shí)用新型透明雙面導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012] 其中：10、PET膜；20、IT0膜；21、上凹槽；30、UV壓印膠層；31、下凹槽；40、導(dǎo)電金 屬條。

【具體實(shí)施方式】
[0013] 下面，結(jié)合附圖以及【具體實(shí)施方式】，對本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述：
[0014] 如圖1所示，為本實(shí)用新型的一種透明雙面導(dǎo)電膜，其包括作為基材的PET膜10、 附著于PET膜10上表面作為上導(dǎo)電層的ITO膜20、以及附著于PET膜10下表面的UV壓印 膠層30,其中，UV壓印膠層30上設(shè)置有多個(gè)下凹槽31，在該多個(gè)下凹槽31中填充有作為 下導(dǎo)電層的導(dǎo)電金屬條40,導(dǎo)電金屬條40可以選用納米級(jí)導(dǎo)電金屬制成，如納米AG，其顆 粒大小為500nm左右。
[0015] 上述的ΙΤ0膜20的制程工藝與現(xiàn)有技術(shù)相同，其采用光刻膠涂覆、預(yù)烘、曝光、顯 影、固化、刻蝕、光刻膠剝離，在蝕刻后的ΙΤ0膜20上形成多個(gè)上凹槽21。
[0016] UV壓印膠層30的厚度為3-6 μ m，導(dǎo)電金屬條40的厚度小于UV壓印膠層30的厚 度。
[0017] 將導(dǎo)電金屬條40嵌置在UV壓印膠層30中的下凹槽31中，利用導(dǎo)電金屬條40作 為下導(dǎo)電層，最終形成透明雙面導(dǎo)電膜，從而可以減少ΙΤ0的用量，并且避免蝕刻ΙΤ0造成 浪費(fèi)。同時(shí)，可以簡化工藝，具體的是，在PET膜10上表面的ΙΤ0膜20加工完成后，利用保 護(hù)膜覆蓋于ΙΤ0膜20上，然后在PET膜10的下表面均勻涂覆3-6 μ m的UV壓印膠層30， 利用與設(shè)計(jì)的電路走線圖案相符的公模壓印涂覆完成的UV壓印膠層30,待UV壓印膠層30 固化后脫模，從而在UV壓印膠層30上形成與設(shè)計(jì)的電路走線圖案相符的多個(gè)下凹槽31，之 后再下凹槽31中填埋納米AG，利用燒結(jié)工藝使納米AG固化，最終在下凹槽31中形成導(dǎo)電 金屬條40,完成透明雙面導(dǎo)電膜的制作。
[0018] 與現(xiàn)有技術(shù)不同的是，本實(shí)用新型下表面的導(dǎo)電層采用壓印并填埋金屬的方式制 成，回避了在PET膜10的下表面鍍高質(zhì)量ΙΤ0這一技術(shù)難題，在保證透明雙面導(dǎo)電膜的使 用性能的前提下，簡化了生產(chǎn)工藝，并且可以提高良率，降低成本。
[0019] 對本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思，做出其它各種 相應(yīng)的改變以及形變，而所有的這些改變以及形變都應(yīng)該屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù) 范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 透明雙面導(dǎo)電膜，其特征在于，包括作為基材的PET膜、附著于PET膜上表面作為上 導(dǎo)電層的ITO膜、以及附著于PET膜下表面的UV壓印膠層，UV壓印膠層上設(shè)置有多個(gè)下凹 槽，該多個(gè)下凹槽內(nèi)填充有作為下導(dǎo)電層的導(dǎo)電金屬條。
2. 如權(quán)利要求1所述的透明雙面導(dǎo)電膜，其特征在于，ITO膜上蝕刻有上凹槽。
3. 如權(quán)利要求1所述的透明雙面導(dǎo)電膜，其特征在于，UV壓印膠層的厚度為3-6 μ m， 導(dǎo)電金屬條的厚度小于UV壓印膠層的厚度。
【文檔編號(hào)】H01B5/14GK203850008SQ201420176991
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年4月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月11日
【發(fā)明者】毛肖林 申請人:深圳市深越光電技術(shù)有限公司