帶絕緣罩的zw20型真空斷路器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，所述帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器包括箱體，所述箱體底部設(shè)置有滅弧室，所述滅弧室外部設(shè)置有絕緣箱，所述滅弧室內(nèi)部設(shè)置有真空滅弧室，所述滅弧室兩端設(shè)置有進(jìn)線側(cè)絕緣罩和出線側(cè)絕緣罩。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了絕緣性能穩(wěn)定、對(duì)環(huán)境無(wú)污染、對(duì)設(shè)備本身無(wú)傷害，且絕緣罩易見(jiàn)，結(jié)構(gòu)緊湊、檢修維護(hù)方便的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器。
【專利說(shuō)明】帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及高壓電氣設(shè)備器件【技術(shù)領(lǐng)域】，更具體的說(shuō)是涉及一種帶絕緣罩的 ZW20型真空斷路器。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，國(guó)家配電網(wǎng)線路中用的ZW20型真空斷路器的內(nèi)部絕緣方式均為六氟化硫 氣體簡(jiǎn)稱SF 6氣體。SF6氣體本身是溫室氣體的一種，其在電弧的作用下小部分會(huì)分解成 SF4, S2F2, SF2, S0F2, S02F2, S0F4和HF等氣體，它們都有強(qiáng)烈的腐蝕性和毒性，對(duì)ZW20斷路器 本身金屬部件也有腐蝕和劣化作用。由于SF 6氣體在ZW20型真空斷路器長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行的過(guò) 程中會(huì)慢慢泄露，也會(huì)導(dǎo)致斷路器的內(nèi)部絕緣強(qiáng)度也會(huì)降低，需要對(duì)設(shè)備定期檢測(cè)、維護(hù)。
[0003] 近年來(lái)，隨著世界環(huán)境的日益惡化，國(guó)家電網(wǎng)公司對(duì)斷路器產(chǎn)品質(zhì)量和環(huán)保越來(lái) 越重視，而現(xiàn)有技術(shù)并不能解決斷路器內(nèi)部絕緣強(qiáng)度低、嚴(yán)重污染環(huán)境和SF 6氣體的分解物 對(duì)設(shè)備的腐蝕和劣化的問(wèn)題。
[0004] 綜上所述，如何提供一種絕緣性能良好、對(duì)環(huán)境無(wú)污染的ZW20型真空斷路器，是 本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問(wèn)題。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0005] 有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種用絕緣罩代替SF6氣體絕緣方式且免維護(hù)的帶 絕緣罩的ZW20型真空斷路器。
[0006] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：
[0007] -種帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，所述帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器包括箱 體，所述箱體底部設(shè)置有滅弧室，所述滅弧室外部設(shè)置有絕緣箱，所述滅弧室內(nèi)部設(shè)置有真 空滅弧室，所述滅弧室兩端設(shè)置有進(jìn)線側(cè)絕緣罩和出線側(cè)絕緣罩。
[0008] 優(yōu)選的，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩與所述絕緣箱連接處有紋絡(luò)狀卡 槽。
[0009] 優(yōu)選的，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩通過(guò)卡槽與所述進(jìn)線側(cè)絕緣箱外表面連接，所述出線 側(cè)絕緣罩通過(guò)卡槽與所述出線側(cè)絕緣箱外表面連接。
[0010] 優(yōu)選的，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩的內(nèi)表面緊貼于所述絕緣箱兩側(cè) 的外表面。
[0011] 優(yōu)選的，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩位于滅弧室的開(kāi)口上方左右兩 側(cè)。
[0012] 優(yōu)選的，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩固定安裝后，所述進(jìn)線側(cè)絕緣 罩的底端低于所述出線側(cè)絕緣罩的底端l〇mm，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩高于所述出線側(cè)絕緣罩 90mm〇
[0013] 本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，在ZW20型真空斷路器安裝工藝基礎(chǔ)上，用絕緣罩通 過(guò)卡槽固定安裝于真空斷路器的進(jìn)線側(cè)和出線側(cè)，該物理的絕緣方法完全可以實(shí)現(xiàn)SF 6氣 體絕緣方式的功能，所以本實(shí)用新型避免了使用SF6氣體絕緣方式中的因SF6氣體泄漏而導(dǎo) 致的斷路器內(nèi)部絕緣強(qiáng)度低、SF6氣體對(duì)環(huán)境的嚴(yán)重污染和SF6氣體的分解物對(duì)設(shè)備的腐蝕 和劣化的問(wèn)題，達(dá)到了了絕緣性能穩(wěn)定、對(duì)環(huán)境無(wú)污染、對(duì)設(shè)備本身無(wú)傷害的功能，提供了 一種絕緣罩易見(jiàn)，結(jié)構(gòu)緊湊、檢修維護(hù)方便的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器。本實(shí)用新型 降低了成本，方便了設(shè)備維護(hù)。
[0014] 同時(shí)下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015] 為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例 或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅 是本實(shí)用新型的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還 可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0016] 圖1附圖為本實(shí)用新型的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017] 圖2附圖為本實(shí)用新型的絕緣罩俯視圖。
[0018] 圖3附圖為本實(shí)用新型的絕緣罩左視圖。
[0019] 圖4附圖為本實(shí)用新型的絕緣罩主視圖。
[0020] 圖中：1_箱體；2-滅弧室；3-絕緣箱；4-真空滅弧室；5-進(jìn)線側(cè)絕緣罩；6-出線側(cè) 絕緣罩；7-卡槽。

【具體實(shí)施方式】
[0021] 下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行 清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的 實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下 所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0022] 本實(shí)用新型實(shí)施例公開(kāi)了一種帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，如圖1-4所示，帶 絕緣罩的ZW20型真空斷路器包括箱體1，其中，箱體1底部設(shè)置有滅弧室2,滅弧室2外部 設(shè)置有絕緣箱3,滅弧室2內(nèi)部設(shè)置有真空滅弧室4,滅弧室2兩端設(shè)置有進(jìn)線側(cè)絕緣罩5 和出線側(cè)絕緣罩6。
[0023] 為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，進(jìn)線側(cè)絕緣罩5和出線側(cè)絕緣罩6與絕緣箱3連 接處有紋絡(luò)狀卡槽7。進(jìn)線側(cè)絕緣罩5通過(guò)卡槽7與進(jìn)線側(cè)絕緣箱3外表面連接，出線側(cè)絕 緣罩6通過(guò)卡槽7與出線側(cè)絕緣箱3外表面連接，進(jìn)線側(cè)絕緣罩5和出線側(cè)絕緣罩6清晰 可見(jiàn)，方便拆卸和維護(hù)。
[0024] 為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，進(jìn)線側(cè)絕緣罩5和出線側(cè)絕緣罩6的內(nèi)表面緊貼 于絕緣箱3兩側(cè)的外表面，設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，不占用空間，不增加體積成本。
[0025] 為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，進(jìn)線側(cè)絕緣罩5和出線側(cè)絕緣罩6位于滅弧室2 的開(kāi)口上方左右兩側(cè)。
[0026] 為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，進(jìn)線側(cè)絕緣罩5和出線側(cè)絕緣罩6固定安裝后，進(jìn) 線側(cè)絕緣罩5的底端低于出線側(cè)絕緣罩6的底端10_，進(jìn)線側(cè)絕緣罩5的頂端高于出線側(cè) 絕緣罩6胡頂端90mm，方便維護(hù)，拆卸便捷。
[0027] 本實(shí)用新型為一種帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，在ZW20真空斷路器安裝工藝 基礎(chǔ)上，用進(jìn)線側(cè)絕緣罩5和出線側(cè)絕緣罩6通過(guò)卡槽7固定安裝于真空斷路器的進(jìn)線側(cè) 絕緣箱3和出線側(cè)絕緣箱3,實(shí)現(xiàn)了斷路器內(nèi)部各個(gè)部件間絕緣的功能，該物理的絕緣方法 完全可以實(shí)現(xiàn)用3匕氣體絕緣的方法，且本實(shí)用新型避免了使用SF 6氣體絕緣方式中的因 SF6氣體泄漏而導(dǎo)致的斷路器內(nèi)部絕緣強(qiáng)度低、SF6氣體對(duì)環(huán)境的嚴(yán)重污染和SF 6氣體的分 解物對(duì)設(shè)備的腐蝕和劣化的問(wèn)題，達(dá)到了絕緣性能穩(wěn)定、對(duì)環(huán)境無(wú)污染、對(duì)設(shè)備本身無(wú)傷害 的功能，提供了一種絕緣罩易見(jiàn)，結(jié)構(gòu)緊湊、檢修維護(hù)方便的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路 器。本實(shí)用新型降低了成本，方便了設(shè)備維護(hù)。
[0028] 對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新 型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定 義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因 此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理 和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，所述帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器包括箱體， 其特征在于，所述箱體底部設(shè)置有滅弧室，所述滅弧室外部設(shè)置有絕緣箱，所述滅弧室內(nèi)部 設(shè)置有真空滅弧室，所述滅弧室兩端設(shè)置有進(jìn)線側(cè)絕緣罩和出線側(cè)絕緣罩。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，其特征在于，所述進(jìn)線側(cè)絕 緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩與所述絕緣箱連接處有紋絡(luò)狀卡槽。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，其特征在于，所述進(jìn)線 側(cè)絕緣罩通過(guò)卡槽與所述進(jìn)線側(cè)絕緣箱外表面連接，所述出線側(cè)絕緣罩通過(guò)卡槽與所述出 線側(cè)絕緣箱外表面連接。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，其特征在于，所述進(jìn)線側(cè)絕 緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩的內(nèi)表面緊貼于所述絕緣箱兩側(cè)的外表面。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，其特征在于，所述進(jìn)線側(cè)絕 緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩位于滅弧室的開(kāi)口上方左右兩側(cè)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絕緣罩的ZW20型真空斷路器，其特征在于，所述進(jìn)線側(cè)絕 緣罩和所述出線側(cè)絕緣罩固定安裝后，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩的底端低于所述出線側(cè)絕緣罩的 底端10_，所述進(jìn)線側(cè)絕緣罩高于所述出線側(cè)絕緣罩90_。
【文檔編號(hào)】H01H33/664GK203871261SQ201420256666
【公開(kāi)日】2014年10月8日 申請(qǐng)日期:2014年5月20日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月20日
【發(fā)明者】楊國(guó)安 申請(qǐng)人:河北國(guó)文電氣設(shè)備有限公司