Oled顯示面板的制作方法
【專利摘要】本實用新型請求保護一種OLED顯示面板，具有襯底基板，以及位于襯底基板上的OLED器件和覆蓋在其上的封裝層，該OLED顯示面板在其周邊區(qū)域上具有非平面圖形結構，封裝層覆蓋于非平面圖形結構上。本實用新型的OLED顯示面板通過在顯示面板的邊緣部分形成凹槽或凸起等非平面圖形結構，提高器件側邊封裝層與基板的結合力，改善側邊封裝效果，降低了氧氣水汽等對器件性能的影響，提升器件的性能，延長了OLED顯示面板的壽命。
【專利說明】OLED顯示面板

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及有機光電器件領域，特別涉及一種0LED顯示面板。

【背景技術】
[0002] OLED (Organic Light-Emitting Diode，有機發(fā)光二極管）器件具有響應速度快、 視角寬、亮度高、低功耗等優(yōu)異性能，并且為自發(fā)光器件，被認為是具有很大發(fā)展前景的下 一代顯不技術。
[0003] 0LED器件在透明陽極和陰極之間堆疊多層有機層，當器件上加正向電壓時，在外 電場的作用下，空穴和電子分別由陽極和陰極注入有機小分子、高分子層內，帶有相反電荷 的載流子在小分子、高分子層內遷移，在發(fā)光層復合，形成激子，激子把能量傳給發(fā)光分子， 激發(fā)電子到激發(fā)態(tài)，激發(fā)態(tài)能量通過輻射失活，產(chǎn)生光子，形成發(fā)光。為提高陰極電子注入 效率，需要降低陰極功函數(shù)，通常選用活波金屬，例如鎂、銀，但鎂、銀易與滲入進來的水汽、 氧氣發(fā)生反應。另外空穴傳輸層（HTL)及電子傳輸層（ETL)對水汽、氧氣也非常敏感，很容 易發(fā)生衰減，引起器件失效。有效的封裝可以防止水汽和氧氣的浸入，防止有機材料老化， 延長0LED器件壽命。同樣，柔性0LED必須進行封裝，主要有蓋板式和薄膜封裝（TFE)。蓋 板封裝包括超薄玻璃蓋（ultra thin cover glass)材料、薄膜（film)材料。薄膜材料易于 實現(xiàn)柔性0LED器件的封裝。但是不論何種封裝方式，都需要對于器件表面及側面很好的阻 水，在封裝（barrier)結構與器件接觸部分，由于界面接觸及應力不匹配等原因是一條水 汽氧氣入侵的路徑，直接影響0LED壽命。
[0004] 如圖1所示，為現(xiàn)有技術中的0LED顯示面板。在襯底基板1上具有緩沖層2,其上 分別為柵極、柵絕緣層、源極、漏極、層間絕緣層。在層間絕緣層上具有陽極3,陽極3上為窗 口絕緣層，0LED器件4位于窗口絕緣層的開口中并與陽極3電連接，陰極5位于窗口絕緣 層和0LED器件4之上并與0LED器件4電連接，封裝層6位于陰極5之上，封裝層可以為多 層。在該0LED顯示面板中，水汽和氧氣沿著箭頭所示的方向浸入，與器件中的部分金屬材 料發(fā)生反應，從而影響0LED壽命。防止有機材料老化，延長0LED器件壽命。
[0005] 因此，本領域中急需一種能夠避免水汽氧氣入侵的影響、具有較長使用壽命的 0LED面板結構。 實用新型內容
[0006] (一）解決的技術問題
[0007] 本實用新型解決的技術問題是：如何提供一種0LED顯示面板，解決現(xiàn)有技術中在 封裝結構與器件接觸部分界面接觸力及應力不匹配的問題。
[0008] (二）技術方案
[0009] 為解決上述技術問題，本實用新型實施例提供了一種0LED顯示面板，具有襯底基 板，所述襯底基板上具有0LED器件，在所述0LED器件之上具有封裝層，該0LED顯示面板在 其周邊區(qū)域上具有非平面圖形結構，所述封裝層覆蓋于所述非平面圖形結構上。
[0010] 其中，所述封裝層為一層或多層。
[0011] 其中，所述非平面圖形結構為凹槽，所述凹槽的寬度w與單層封裝層的最小厚度t 滿足W > t彡0. 5w的關系。
[0012] 其中，所述非平面圖形結構為凸起，所述凸起之間的間距d與單層封裝層的最小 厚度t滿足d > t > 0. 5d的關系。
[0013] 其中，在所述襯底基板和所述0LED器件之間還依次具有緩沖層、柵極、柵絕緣層、 源漏極、層間絕緣層，所述0LED器位于所述層間絕緣層上。
[0014] 其中，所述非平面圖形結構形成于所述柵絕緣層上。
[0015] 其中，所述柵絕緣層為氧化硅和/或氮化硅。
[0016] 其中，所述凹槽的寬度w與單層封裝層的最小厚度t滿足t = 0. 5w的關系。
[0017] 其中，所述凸起之間的間距d與單層封裝層的最小厚度t滿足t = 0. 5d的關系。
[0018] 其中，所述凹槽或者凸起的橫截面形狀為弧形、三角形、矩形或者梯形。
[0019] (三）有益效果
[0020] 本實用新型提供的0LED顯示面板通過在顯示面板的邊緣部分形成凹槽或凸起等 非平面圖形結構，降低了氧氣水汽等對器件性能的影響，提升器件的性能，延長了 0LED顯 示面板的壽命。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0021] 圖1是現(xiàn)有技術提供的0LED顯示面板結構示意圖；
[0022] 圖2是本實用新型的0LED顯示面板結構示意圖；
[0023] 圖3是本實用新型的0LED顯示面板中非平面圖形結構位置示意圖；
[0024] 圖4表示本實用新型中凹槽的橫截面形狀；
[0025] 圖5表示本實用新型中凸起的橫截面形狀；
[0026] 圖6表示實用新型非平面圖形結構與封裝層尺寸關系示意圖。
[0027] 上述附圖中使用的附圖標記內容如下：
[0028] 1 :襯底基板；2 :緩沖層；3 :陽極；4 :0LED器件；5 :陰極；6 :封裝層；7 :非平面圖 形結構；10 :非平面圖形結構區(qū)域；20 :像素單元。

【具體實施方式】
[0029] 下面結合附圖和實施例，對本實用新型的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下 實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。
[0030] 本實用新型實施例提供的一種0LED顯示面板制作方法，制作如圖2所示的0LED 顯示面板，該0LED面板包括襯底基板1，襯底基板1上具有緩沖層2,其上分別為柵極、柵絕 緣層、源極、漏極、層間絕緣層。在層間絕緣層上具有陽極3,陽極3上為窗口絕緣層，0LED 器件4位于窗口絕緣層的開口中并與陽極3電連接，陰極5位于窗口絕緣層和0LED器件4 之上并與0LED器件4電連接，封裝層6位于陰極5之上，封裝層可以為多層。該0LED顯示 面板在其周邊區(qū)域上具有非平面圖形結構7,優(yōu)選為凸起或凹槽圖形，如圖2所示的是非平 面圖形結構為凹槽的情形，非平面圖形結構形成的位置參見圖3所示。
[0031] 如圖4、圖5所示，所述凹槽或者凸起的橫截面形狀可為弧形、三角形、矩形或者梯 形（包括倒梯形）。
[0032] 本實用新型的0LED顯示面板通過以下方法制造，首先，在襯底基板1上形成包括 緩沖層、柵極層，對柵極層圖形化得到柵極，然后通過PECVD沉積無機絕緣層，該無機絕緣 層的材料可以為SiNx或Si02或者兩者疊層而成，然后進行光刻膠涂覆，曝光，顯影，刻蝕， 在器件有效顯示區(qū)域的邊緣刻蝕，以使邊緣部分形成非平面的圖形，優(yōu)選為凸起或凹槽圖 形。進行刻蝕時，既可以在柵絕緣層上進行刻蝕，也可以在其他層進行刻蝕。在選擇刻蝕的 層時，優(yōu)選柵絕緣層，即優(yōu)選在柵絕緣層上形成凸起或凹槽，這樣形成的0LED面對在應力 方面具有更為明顯的改善。在本實施例中，所述非平面圖形結構為凹槽，如圖2所示。凹槽 的形成位置位于顯示面板周邊區(qū)域即有效顯示區(qū)域外圍，參見圖3,其中像素單元20位于 0LED顯示面板的靠中心區(qū)域，非平面圖形結構區(qū)域10位于0LED顯示面板的周邊區(qū)域。
[0033] 然后，進行背板工藝，在顯示面板的像素區(qū)域通過本領域的常規(guī)方法依次形成有 源層、源極漏極、平坦化層、透明陽極的步驟，隨后制作像素定義層，并進行有機層和陰極蒸 鍍，形成0LED器件。
[0034] 接下來在整個顯示面板的像素區(qū)域和外圍的邊緣部分沉積封裝層，封裝層可以為 一層或多層，封裝層填充圖2所示的非平面圖形結構，由于非平面圖形結構的存在，氧氣和 水汽進入器件中的路徑明顯延長，從而降低了氧氣和水汽的進入對0LED顯示面板的性能 和壽命的影響。
[0035] 當非平面圖形結構為凹槽時，如圖6(1)所示，凹槽的寬度為w，單層封裝層的最小 厚度為t，在一個優(yōu)選的實施例中，t和w滿足w > t > 〇. 5w的關系，此時封裝層能實現(xiàn)對 凹槽的充分填充，同時使得氧氣和水汽的浸入路徑足夠長，在一個更為優(yōu)選實施例中，t = 0. 5w，在其他因素完全相同的情形下，此時的0LED顯示面板受到氧氣和水汽的影響最小。
[0036] 當非平面圖形結構為凸起時，如圖6 (2)所示，凸起之間的間距為d，單層封裝層的 最小厚度為t，在一個優(yōu)選的實施例中，t和d滿足d > t > 0. 5d的關系，此時封裝層能實 現(xiàn)對凹槽的充分填充，同時使得氧氣和水汽的浸入路徑足夠長，在一個更為優(yōu)選實施例中， t = 0. 5d，在其他因素完全相同的情形下，此時的0LED顯示面板受到氧氣和水汽的影響最 小。
[0037] 在本實用新型的實施例的技術方案中，通過在柵氧化層或其他層中形成凹槽或凸 起等非平面形狀，明顯延長了氧氣和水汽等的通過路徑，從而降低了氧氣水汽等對器件性 能的影響，同時，通過精確限定凹槽寬度、凸起之間的距離與封裝層之間的尺寸關系，進一 步大大降低了這種影響，另外，在玻璃上形成非平面圖形結構容易出現(xiàn)刻制精度低、工藝難 實現(xiàn)、花費高的問題，而通過在柵絕緣層中形成這些非平面圖形結構，通過一次刻蝕或者構 圖即可完成，尺寸精度高、工藝上容易實現(xiàn)、花費低，并且進一步改善了 0LED器件在應力方 面的表現(xiàn)。
[0038] 以上實施方式僅用于說明本實用新型，而并非對本實用新型的限制，有關技術領 域的普通技術人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和 變型，因此所有等同的技術方案也屬于本實用新型的范疇，本實用新型的專利保護范圍應 由權利要求限定。
【權利要求】
1. 一種OLED顯示面板，具有襯底基板，所述襯底基板上具有OLED器件，在所述OLED器 件之上具有封裝層，其特征在于，該0LED顯示面板在其周邊區(qū)域上具有非平面圖形結構， 所述封裝層覆蓋于所述非平面圖形結構上。
2. 如權利要求1所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述封裝層為一層或多層。
3. 如權利要求2所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述非平面圖形結構為凹槽，所述 凹槽的寬度w與單層封裝層的最小厚度t滿足w > t > 0. 5w的關系。
4. 如權利要求2所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述非平面圖形結構為凸起，所述 凸起之間的間距d與單層封裝層的最小厚度t滿足d > t > 0. 5d的關系。
5. 如權利要求1所述的OLED顯示面板，其特征在于，在所述襯底基板和所述OLED器件 之間還依次具有緩沖層、柵極、柵絕緣層、源漏極、層間絕緣層，所述OLED器件位于所述層 間絕緣層上。
6. 如權利要求5所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述非平面圖形結構形成于所述 柵絕緣層上。
7. 如權利要求5所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述柵絕緣層為氧化硅和/或氮 化硅。
8. 如權利要求3所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述凹槽的寬度w與單層封裝層 的最小厚度t滿足t = 0. 5w的關系。
9. 如權利要求4所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述凸起之間的間距d與單層封 裝層的最小厚度t滿足t = 0. 5d的關系。
10. 如權利要求3所述的OLED顯示面板，其特征還在于，所述凹槽的橫截面形狀為弧 形、三角形、矩形或者梯形。
11. 如權利要求4所述的OLED顯示面板，其特征還在于，所述凸起的橫截面形狀為弧 形、三角形、矩形或者梯形。
【文檔編號】H01L51/52GK203883009SQ201420282295
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年5月29日 優(yōu)先權日:2014年5月29日
【發(fā)明者】孫韜, 周偉峰 申請人:京東方科技集團股份有限公司