技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種制作不連續(xù)直線圖案的方法與不連續(xù)直線圖案結(jié)構(gòu)。該方法包含在基底上形成DSA材料層，在相分離制作工藝后形成周期性排列圖案，其包括交替排列的多個第一聚合物結(jié)構(gòu)與第二聚合物結(jié)構(gòu)。然后在DSA材料層上形成第一掩模覆蓋周期性排列圖案的第一部分，然后移除被第一掩模曝露的第一聚合物結(jié)構(gòu)，再移除第一掩模。接著形成第二掩模覆蓋周期性排列圖案的第二部分，其中第一與第二部分之間具有間隙。然后移除被第二掩模所暴露的第二聚合物結(jié)構(gòu)，最后移除第二掩模。所留下的部分第一聚合物結(jié)構(gòu)與部分第二聚合物結(jié)構(gòu)彼此不互相連接。

技術(shù)研發(fā)人員：陳育德;劉恩銓;曾嘉勛;蘇信逢;洪鈺婷;蔡孟霖
受保護的技術(shù)使用者：聯(lián)華電子股份有限公司
文檔號碼：201510258199
技術(shù)研發(fā)日：2015.05.20
技術(shù)公布日：2017.01.04