1.一種用于X射線產(chǎn)生裝置的調(diào)整布置結(jié)構(gòu)(1)，包括
-陰極；
-具有焦點軌跡的陽極(2)；
-調(diào)整裝置；
其中，所述陰極被配置成提供電子束(15)；
其中，所述陽極(2)被配置成在所述電子束(15)的撞擊下旋轉(zhuǎn)；
其中，所述陽極(2)由縫隙(21)分段，所述縫隙(21)徑向向內(nèi)延伸到所述陽極的外圓周中，從而橫過所述焦點軌跡并且基本等距地布置在所述陽極的圓周周圍；
其中，所述調(diào)整裝置被配置成當所述電子束(15)正在撞擊所述陽極的正在旋轉(zhuǎn)的所述縫隙(21)時，對所述電子束(15)進行調(diào)整。
2.一種用于X射線產(chǎn)生裝置的調(diào)整布置結(jié)構(gòu)(1)，包括
-陰極；
-陽極(2)；
-調(diào)整器件；
其中，所述陰極被配置成提供電子束(15)；
其中，所述陽極(2)被配置成在所述電子束(15)的撞擊下旋轉(zhuǎn)；
其中，所述陽極(2)由被布置在所述陽極的圓周的縫隙(21)分段；
其中，所述調(diào)整器件被配置成，當所述電子束(15)正在撞擊所述陽極的旋轉(zhuǎn)中的所述縫隙(21)時，對所述電子束(15)進行調(diào)整。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述調(diào)整裝置被配置成，當所述縫隙(21)中的一個接近和/或遠離所述電子束(15)時，對所述電子束(15)進行調(diào)整。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述調(diào)整是使所述電子束(15)偏轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)前一權(quán)利要求所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述偏轉(zhuǎn)是相對于所述陽極(2)的旋轉(zhuǎn)運動的切向偏轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求1、3、4或5所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述調(diào)整裝置被配置成使所述電子束(15)在所述陽極的旋轉(zhuǎn)運動的方向中向前或逆向于所述陽極的旋轉(zhuǎn)運動的方向向后切向地偏轉(zhuǎn)，并且然后逆向于所述陽極的旋轉(zhuǎn)運動的方向向后或在所述陽極的旋轉(zhuǎn)運動的方向中向前切向地偏轉(zhuǎn)，以縮短所述電子束(15)撞擊所述縫隙(21)中的一個的時間。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述調(diào)整是在徑向方向和/或在切向方向中加寬或縮短所述電子束(15)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述調(diào)整是改變所述電子束(15)在所述縫隙(21)的平面中的截面形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1、3、4、6、7或8中的一項所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述調(diào)整裝置包括電動和/或磁性子裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1、3、4、5、6、7、8或9中的一項所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述陽極(2)被配置成，當所述電子束(15)撞擊所述陽極(2)時，輸出光子通量，并且所述調(diào)整裝置被配置成對所述電子束(15)進行調(diào)整，使得當所述電子束(15)撞擊所述陽極的縫隙(21)中的一個時，所產(chǎn)生的光子通量是基本上穩(wěn)定的。
11.根據(jù)權(quán)利要求1、3、4、5、6、7、8或9中的一項所述的布置結(jié)構(gòu)(1)，其中，所述陽極(2)被配置成，當所述電子束(15)撞擊所述陽極(2)時，輸出光子通量，并且所述調(diào)整裝置被配置成對所述電子束(15)進行調(diào)整，使得與當所述電子束(15)在所述陽極的縫隙(21)的外側(cè)撞擊所述陽極(2)時相比，當所述電子束(15)撞擊所述陽極的縫隙(21)時，所產(chǎn)生的光子通量波動小于90％、優(yōu)選地小于70％、更為優(yōu)選地小于30％、并且還更為優(yōu)選地小于10％。
12.一種用于X射線成像的系統(tǒng)(10)，所述系統(tǒng)包括X射線源(12)和X射線探測器，其中，所述X射線源(12)包括根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項所述的調(diào)整布置結(jié)構(gòu)(1)。
13.一種用于X射線產(chǎn)生裝置的調(diào)整方法，包括下列步驟：
-提供電子束(15)；
-使陽極(2)在所述電子束(15)的撞擊下旋轉(zhuǎn)，其中，所述陽極(2)通過縫隙(21)分段，所述縫隙(21)徑向向內(nèi)延伸到所述陽極的外圓周，從而橫過焦點軌跡并且基本等距地布置在所述陽極的圓周周圍；以及
-當撞擊所述陽極的旋轉(zhuǎn)中的縫隙(21)時，對所述電子束(15)進行調(diào)整。
14.根據(jù)前一權(quán)利要求所述的方法，其中，當撞擊所述縫隙(21)中的一個時，對所述電子束(15)做出的調(diào)整是使所述電子束(15)偏轉(zhuǎn)和/或加寬或縮短。
15.一種用于控制根據(jù)權(quán)利要求1到11中的一項所述的布置結(jié)構(gòu)的計算機程序單元，當由調(diào)整單元進行實施時，所述計算機程序單元適于實施根據(jù)前述權(quán)利要求13或14中的一項所述的方法的步驟。
16.一種已經(jīng)存儲有根據(jù)前一權(quán)利要求所述的計算機程序單元的計算機可讀介質(zhì)。