本發(fā)明涉及質(zhì)譜儀技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及離子遷移譜裝置及方法。
背景技術(shù):
四極桿-飛行時(shí)間串聯(lián)質(zhì)譜儀由于其快速、高質(zhì)量精度、高穩(wěn)定性和重復(fù)性等特點(diǎn),已成為商業(yè)質(zhì)譜儀的主流之一。這些質(zhì)譜儀通常前置氣相色譜或者液相色譜,以預(yù)先將復(fù)雜的樣品分離。近年來(lái),離子遷移譜(ionmobility)技術(shù)與質(zhì)譜的聯(lián)用得到了長(zhǎng)足發(fā)展,由于離子遷移譜技術(shù)與色譜技術(shù)的正交分離特性,可大大提高色譜-質(zhì)譜分析的分離能力和峰容量。目前離子遷移譜技術(shù)有多個(gè)種類,其中應(yīng)用最廣泛的是較低氣壓下(通常為1torr到4torr)的遷移管(driftcell)遷移譜技術(shù),其工作方式與現(xiàn)代四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀非常匹配。因此,離子遷移管-四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜幾乎成為研究級(jí)儀器的標(biāo)準(zhǔn)配置。
目前的離子遷移管-四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜,或者離子遷移管-飛行時(shí)間質(zhì)譜,在比如文獻(xiàn)j.am.soc.massspectrom.(2014)25:563-571中描述,通常有如下的問(wèn)題:(1)由于遷移管的分辨能力與長(zhǎng)度為正比關(guān)系,導(dǎo)致儀器裝置的長(zhǎng)度大大增加,不利于在普通實(shí)驗(yàn)室使用;(2)很多情況下,比如對(duì)于含量很低但組分較簡(jiǎn)單的樣品,分析者不需要離子遷移率分析而只需要單獨(dú)的四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜模式,但現(xiàn)有的裝置和方法中,離子仍然需要通過(guò)離子遷移管,通常離子遷移管的傳輸效率很低,所以造成了顯著的靈敏度損失;(3)遷移管上需要施加較高的遷移電壓,因此其上游或下游裝置需要更高幅值的電壓以推動(dòng)離子,不僅對(duì)電源提出較高要求,而且容易造成電壓擊穿。因此,存在對(duì)新的離子遷移譜裝置和方法的需求,用以解決上述問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種離子遷移譜裝置及方法,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的無(wú)法選擇是否經(jīng)過(guò)離子遷移管而造成離子傳輸效率低的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種離子遷移譜裝置,包括:離子源,用于提供離子;離子導(dǎo)引裝置,其包括:內(nèi)部連通的至少三端:第一導(dǎo)引端、第二導(dǎo)引端和第三導(dǎo)引端,離子能從其中任意一端進(jìn)入或離開所述離子導(dǎo)引裝置;所述第一導(dǎo)引端供離子源提供的離子進(jìn)入;所述第三導(dǎo)引端連通于后級(jí)裝置;與所述第二導(dǎo)引端一一對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)離子遷移管,用于傳輸離子和/或進(jìn)行離子遷移率分析,每個(gè)離子遷移管包括內(nèi)部連通的第一 遷移管端和第二遷移管端,所述第二遷移管端連通于一第二導(dǎo)引端;離子存儲(chǔ)裝置,與每個(gè)離子遷移管的第一遷移管端相連通,用于存儲(chǔ)離子或逐出離子。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子導(dǎo)引裝置導(dǎo)引離子從第二導(dǎo)引端經(jīng)進(jìn)入離子遷移管,經(jīng)所述離子遷移管后,沿第一遷移管端進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置,一段時(shí)間后離子從所述離子存儲(chǔ)裝置被脈沖式逐出,所述逐出離子經(jīng)過(guò)一離子遷移管進(jìn)行離子遷移率分離,分離后的離子進(jìn)入所述離子導(dǎo)引裝置,從所述第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子導(dǎo)引裝置令其內(nèi)的離子進(jìn)行以下方式傳輸:導(dǎo)引從離子源產(chǎn)生并進(jìn)入離子導(dǎo)引裝置的離子,不經(jīng)過(guò)所述離子遷移管和離子存儲(chǔ)裝置,直接從第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述后級(jí)裝置包括:用于質(zhì)譜分析的質(zhì)量分析器。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述質(zhì)量分析器為飛行時(shí)間質(zhì)量分析器。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述后級(jí)裝置包括:相連的四極桿質(zhì)量分析器、碰撞腔及飛行時(shí)間質(zhì)量分析器。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜裝置,包括:檢測(cè)器,其與所述離子存儲(chǔ)裝置相鄰,檢測(cè)從第二遷移管端傳輸?shù)竭_(dá)第一遷移管端過(guò)程中進(jìn)行離子遷移率分離后的離子。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子導(dǎo)引裝置呈t字形結(jié)構(gòu),所述t字形結(jié)構(gòu)的三端分別為所述第一導(dǎo)引端、第二導(dǎo)引端和第三導(dǎo)引端。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述第一導(dǎo)引端和第三導(dǎo)引端分別為所述t字形結(jié)構(gòu)兩側(cè)的相對(duì)兩端,所述第二導(dǎo)引端為t字形結(jié)構(gòu)的中部一端。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述第一導(dǎo)引端和第二導(dǎo)引端分別為所述t字形結(jié)構(gòu)兩側(cè)的相對(duì)兩端,所述第三導(dǎo)引端為t字形結(jié)構(gòu)的中部一端。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子遷移譜裝置用于實(shí)現(xiàn)第一功能:所述離子導(dǎo)引裝置導(dǎo)引離子從第二導(dǎo)引端經(jīng)進(jìn)入離子遷移管,經(jīng)所述離子遷移管后,沿第一遷移管端進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置,一段時(shí)間后離子從所述離子存儲(chǔ)裝置被脈沖式逐出,所述逐出離子經(jīng)過(guò)一離子遷移管進(jìn)行離子遷移率分離,分離后的離子進(jìn)入所述離子導(dǎo)引裝置,從所述第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置;所述離子遷移譜裝置用于實(shí)現(xiàn)第二功能:從離子源產(chǎn)生并進(jìn)入所述離子導(dǎo)引裝置的離子直接從第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置;其中,所述第一功能和第二功能是交替進(jìn)行的。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子導(dǎo)引裝置有至少兩個(gè),所述兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置間直接或間接連通。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述至少兩個(gè)離子遷移管中,其中一個(gè)用于離子傳輸,其中另一個(gè)用于離子遷移率分析。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子遷移譜裝置用于實(shí)現(xiàn):離子從所述離子源通過(guò)所述其中一個(gè)離子導(dǎo)引裝置,經(jīng)過(guò)與其連通的所述作為離子傳輸裝置的離子遷移管進(jìn)入所述離子存儲(chǔ)裝置;之后,從所述離子存儲(chǔ)裝置被逐出并經(jīng)過(guò)所述作為離子遷移率分析器的離子遷移管,進(jìn)行離子遷移率分離,分離后的離子通過(guò)與所述作為離子遷移率分析器的離子遷移管連通的另一個(gè)離子導(dǎo)引裝置進(jìn)入后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述至少兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置間通過(guò)四極桿質(zhì)量分析器連通。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述至少兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置間通過(guò)四極桿質(zhì)量分析器和碰撞腔連通。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子遷移譜裝置用于實(shí)現(xiàn):離子被所述四極桿質(zhì)量分析器選擇產(chǎn)生母離子,經(jīng)碰撞腔解離產(chǎn)生子離子;子離子進(jìn)入與碰撞腔出口端通過(guò)一離子導(dǎo)引裝置連通的一離子遷移管進(jìn)行離子遷移率分離;在所述離子存儲(chǔ)裝置內(nèi)選擇所需要的遷移率范圍內(nèi)的離子并逐出至另一離子遷移管內(nèi)進(jìn)行第二次離子遷移率分離以供實(shí)現(xiàn)串聯(lián)離子遷移譜分析;其中,所述另一遷移管通過(guò)另一離子引導(dǎo)裝置連通至四極桿分析器入口端。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子遷移譜裝置用于實(shí)現(xiàn):各所述離子遷移管和離子存儲(chǔ)裝置均作為離子傳輸用,離子被所述四極桿質(zhì)量分析器選擇產(chǎn)生母離子,經(jīng)碰撞腔解離產(chǎn)生子離子,經(jīng)過(guò)一離子導(dǎo)引裝置、一離子遷移管、離子存儲(chǔ)裝置、另一離子導(dǎo)引裝置、及另一離子遷移管而再次進(jìn)入所述四極桿質(zhì)量分析器和碰撞腔,選擇離子并解離產(chǎn)生孫離子,以供實(shí)現(xiàn)多次串聯(lián)質(zhì)譜分析。
為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種離子遷移譜方法,包括:通過(guò)離子源產(chǎn)生離子;通過(guò)離子導(dǎo)引裝置來(lái)導(dǎo)引離子,其中,所述離子導(dǎo)引裝置包括:內(nèi)部連通的至少三端:第一導(dǎo)引端、第二導(dǎo)引端和第三導(dǎo)引端,離子能從其中任意一端進(jìn)入或離開所述離子導(dǎo)引裝置;所述第一導(dǎo)引端供離子源提供的離子進(jìn)入;所述第三導(dǎo)引端連通于后級(jí)裝置;通過(guò)與所述第二導(dǎo)引端一一對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)離子遷移管來(lái)傳輸離子和/或進(jìn)行離子遷移率分析,其中,每個(gè)離子遷移管包括內(nèi)部連通的第一遷移管端和第二遷移管端,所述第二遷移管端連通于一第二導(dǎo)引端;通過(guò)離子存儲(chǔ)裝置來(lái)存儲(chǔ)離子或逐出離子,其中,所述離子存儲(chǔ)裝置與每個(gè)離子遷移管的第一遷移管端相連通。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜方法,包括:通過(guò)所述離子導(dǎo)引裝置導(dǎo)引離子從第二導(dǎo)引端經(jīng)進(jìn)入連通的離子遷移管;經(jīng)所述離子遷移管后,沿所述離子遷移管的第一 遷移管端進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置;一段時(shí)間后,通過(guò)所述離子存儲(chǔ)裝置脈沖式逐出逐出離子;所述逐出離子經(jīng)一所述離子遷移管進(jìn)行離子遷移率分離,分離后的離子進(jìn)入所述離子導(dǎo)引裝置,從所述第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜方法,包括:通過(guò)所述離子導(dǎo)引裝置導(dǎo)引從離子源產(chǎn)生并進(jìn)入離子導(dǎo)引裝置的離子,不經(jīng)過(guò)所述離子遷移管和離子存儲(chǔ)裝置,直接從第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜方法,包括:通過(guò)所述離子遷移譜裝置交替進(jìn)行第一功能及第二功能;其中,所述第一功能包括:導(dǎo)引離子從第二導(dǎo)引端經(jīng)進(jìn)入連通的離子遷移管,經(jīng)所述離子遷移管后,沿所述離子遷移管的第一遷移管端進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置,一段時(shí)間后離子從所述離子存儲(chǔ)裝置被脈沖式逐出,所述離子經(jīng)過(guò)一所述離子遷移管進(jìn)行離子遷移率分離,分離后的離子進(jìn)入所述離子導(dǎo)引裝置,從所述第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置;所述第二功能包括:從離子源產(chǎn)生并進(jìn)入所述離子導(dǎo)引裝置的離子直接從第三導(dǎo)引端輸出至所述后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述離子導(dǎo)引裝置有至少兩個(gè),所述兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置間直接或間接連通。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述至少兩個(gè)離子遷移管中,其中一個(gè)用于離子傳輸,其中另一個(gè)用于離子遷移率分析。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜方法,包括:令離子從所述離子源通過(guò)所述其中一個(gè)離子導(dǎo)引裝置,經(jīng)過(guò)與其連通的所述作為離子傳輸裝置的離子遷移管進(jìn)入所述離子存儲(chǔ)裝置;從所述離子存儲(chǔ)裝置被逐出并經(jīng)過(guò)所述作為離子遷移率分析器的離子遷移管,進(jìn)行離子遷移率分離,分離后的離子通過(guò)與所述作為離子遷移率分析器的離子遷移管連通的另一個(gè)離子導(dǎo)引裝置進(jìn)入后級(jí)裝置。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述至少兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置間通過(guò)四極桿質(zhì)量分析器和碰撞腔連通。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜方法,包括:通過(guò)所述四極桿質(zhì)量分析器對(duì)離子進(jìn)行選擇以產(chǎn)生母離子;令所述母離子經(jīng)所述碰撞腔解離產(chǎn)生子離子;令所述子離子進(jìn)入與碰撞腔出口端通過(guò)一離子導(dǎo)引裝置連通的一離子遷移管進(jìn)行離子遷移率分離;在所述離子存儲(chǔ)裝置內(nèi)選擇所需要的遷移率范圍內(nèi)的離子并逐出至另一離子遷移管內(nèi)進(jìn)行第二次離子遷移率分離以供實(shí)現(xiàn)串聯(lián)離子遷移譜分析;其中,所述另一遷移管通過(guò)另一離子引導(dǎo)裝置連通至四極桿分析器入口端。
于本發(fā)明的一實(shí)施例中,所述的離子遷移譜方法,包括:將各所述離子遷移管和離子存儲(chǔ)裝置均作為離子傳輸用,通過(guò)所述四極桿質(zhì)量分析器選擇離子以產(chǎn)生母離子;令所述母離子經(jīng)碰撞腔解離產(chǎn)生子離子;令所述自離子經(jīng)過(guò)一離子導(dǎo)引裝置、一離子遷移管、離子存儲(chǔ)裝置、另一離子導(dǎo)引裝置、及另一離子遷移管而再次進(jìn)入所述四極桿質(zhì)量分析器和碰撞腔,選擇離子并解離產(chǎn)生孫離子,以供實(shí)現(xiàn)多次串聯(lián)質(zhì)譜分析。
如上所述,本發(fā)明的離子遷移譜裝置及方法,所述離子遷移譜裝置包括:離子源,用于提供離子;離子導(dǎo)引裝置,其包括:內(nèi)部連通的至少三端:第一導(dǎo)引端、第二導(dǎo)引端和第三導(dǎo)引端,離子能從其中任意一端進(jìn)入或離開所述離子導(dǎo)引裝置;所述第一導(dǎo)引端供離子源提供的離子進(jìn)入;所述第三導(dǎo)引端連通于后級(jí)裝置;與所述第二導(dǎo)引端一一對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)離子遷移管,用于傳輸離子和/或進(jìn)行離子遷移率分析,每個(gè)離子遷移管包括內(nèi)部連通的第一遷移管端和第二遷移管端,所述第二遷移管端連通于一第二導(dǎo)引端;離子存儲(chǔ)裝置,與每個(gè)離子遷移管的第一遷移管端相連通,用于存儲(chǔ)離子或逐出離子;通過(guò)選擇不同的離子路徑,可進(jìn)行離子遷移譜分析或進(jìn)行直接離子傳輸。
此外相比現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明在實(shí)際使用中還有如下優(yōu)點(diǎn):
1、該裝置與四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用時(shí),離子遷移管的延伸方向與儀器主軸方向垂直,與飛行管的延伸方向平行,因此儀器的長(zhǎng)度仍然保持與普通的四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜相同,而高度只取決于飛行管的高度;儀器的尺寸不會(huì)增加。
2、切換到四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜單獨(dú)使用的模式時(shí),離子不經(jīng)過(guò)遷移管,避免了靈敏度損失;這種方式也減少了離子在通路上的駐留時(shí)間,可提高某些模式下的分析速度。
3、高幅值的電壓僅僅需要在離子遷移管和存儲(chǔ)裝置上,而遷移管上、下游的其它裝置可保持原來(lái)的電壓,不僅電源裝置簡(jiǎn)單,而且可有效避免電壓擊穿的風(fēng)險(xiǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明第一實(shí)施方式的一個(gè)實(shí)施例中的離子遷移譜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明第一實(shí)施方式的一個(gè)實(shí)施例中的離子遷移譜裝置在一個(gè)典型的分析周期內(nèi)的電壓-時(shí)序圖;
圖3a及圖3b為本發(fā)明第一實(shí)施方式中離子導(dǎo)引裝置實(shí)現(xiàn)的兩個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3c為圖3b中部分電極的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4a及圖4b為對(duì)本發(fā)明第一實(shí)施方式中離子導(dǎo)引裝置進(jìn)行遷移率分析工作模式下的計(jì)算機(jī)仿真所得到的離子軌跡圖;
圖4c為對(duì)本發(fā)明第一實(shí)施方式中離子導(dǎo)引裝置進(jìn)行離子直接傳輸模式下的計(jì)算機(jī)仿真所得到的離子軌跡圖;
圖5a至5c為本發(fā)明第一實(shí)施方式中離子存儲(chǔ)裝置的三個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5d為圖5c實(shí)施例中環(huán)形電極的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6為本發(fā)明第一實(shí)施方式中離子遷移譜裝置與四極桿-正交飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用的一個(gè)實(shí)施例;
圖7為本發(fā)明第一實(shí)施方式中離子遷移譜裝置與四極桿-正交飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用的又一實(shí)施例;
圖8為本發(fā)明的第二實(shí)施方式的一個(gè)實(shí)施例中離子遷移譜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖9為本發(fā)明的第三實(shí)施方式的一個(gè)實(shí)施例中離子遷移譜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖10為本發(fā)明的第三實(shí)施方式的另一實(shí)施例中離子遷移譜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下由特定的具體實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式,熟悉此技術(shù)的人士可由本說(shuō)明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。
請(qǐng)參閱圖1至圖10。須知,本說(shuō)明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等,均僅用以配合說(shuō)明書所揭示的內(nèi)容,以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀,并非用以限定本發(fā)明可實(shí)施的限定條件,故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義,任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整,在不影響本發(fā)明所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下,均應(yīng)仍落在本發(fā)明所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí),本說(shuō)明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語(yǔ),亦僅為便于敘述的明了,而非用以限定本發(fā)明可實(shí)施的范圍,其相對(duì)關(guān)系的改變或調(diào)整,在無(wú)實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下,當(dāng)亦視為本發(fā)明可實(shí)施的范疇。
如圖1所示,顯示本發(fā)明的離子遷移譜裝置在第一實(shí)施例方式中的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖中,1為離子導(dǎo)引裝置,優(yōu)選為分段的多級(jí)桿,其具有三端(如圖示分別為第一導(dǎo)引端11、第二導(dǎo)引端12、第三導(dǎo)引端13)做為離子入口或出口,所述離子導(dǎo)引裝置優(yōu)選為呈t字形結(jié)構(gòu);第一導(dǎo)引端11與離子源2相接,離子源2可以直接產(chǎn)生離子,如大氣壓電噴霧離子源(esi)、電子轟擊離子源(ei)等。第三導(dǎo)引端13與下級(jí)裝置5相接,下級(jí)裝置5可以是質(zhì)量分析器或者后級(jí)離子導(dǎo)引裝置等,優(yōu)選為四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜裝置。第二導(dǎo)引端12接離子遷移管3。離子遷移管3具有兩端,定義為與第二導(dǎo)引端12相接的第二遷移管端32和與之相對(duì)的第一遷移管端31,所述第一遷移管端31與離子存儲(chǔ)裝置4相接。
本實(shí)施方式中的設(shè)備具有至少兩種工作模式,且可以在兩種模式間快速切換。第一種為遷移率分析模式,第二種為非遷移率分析模式,或者稱為直接傳輸模式。
在第一種模式中,從離子源2產(chǎn)生的離子(通常為連續(xù)離子流),經(jīng)過(guò)第一導(dǎo)引端11進(jìn)入離子導(dǎo)引裝置1,在離子導(dǎo)引裝置1的中部位置處發(fā)生向上偏轉(zhuǎn),從第二導(dǎo)引端12離開該離子導(dǎo)引裝置1,并從第二遷移管端32進(jìn)入離子遷移管3,此時(shí)離子遷移管3僅作為離子傳輸用;連續(xù)的離子流經(jīng)過(guò)離子遷移管3從第一遷移管端31進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4,離子在該離子存儲(chǔ)裝置4內(nèi)被囚禁、存儲(chǔ);一段時(shí)間后,將離子存儲(chǔ)裝置4靠近第一遷移管端31處的離子門關(guān)閉(離子門的實(shí)現(xiàn)形式后文將作說(shuō)明),優(yōu)選的,同時(shí)清空離子遷移管3中殘余的離子;然后將靠近第一遷移管端31的離子門打開,脈沖式將離子從存儲(chǔ)裝置4逐出到離子遷移管3,離子將按遷移率產(chǎn)生分離,被分離的離子通過(guò)第二遷移管端32、第二導(dǎo)引端12重新進(jìn)入離子導(dǎo)引裝置1,在中心位置被90度偏轉(zhuǎn),沿第三導(dǎo)引端13進(jìn)入后級(jí)裝置5,以進(jìn)行質(zhì)量分析。
在第二種模式中,從離子源2產(chǎn)生的離子,經(jīng)過(guò)第一導(dǎo)引端11進(jìn)入離子導(dǎo)引裝置1,不發(fā)生偏轉(zhuǎn),直接從第三導(dǎo)引端13進(jìn)入后級(jí)裝置5,進(jìn)行質(zhì)量分析或再進(jìn)行離子導(dǎo)引。該模式不經(jīng)過(guò)離子遷移管3和離子存儲(chǔ)裝置4,一是避免了離子在遷移管內(nèi)的損失,因此可得到很高的靈敏度;二是減少了離子的駐留時(shí)間,在一些分析模式,比如快速極性切換模式下,可得到很高的分析速度。
在第一種模式中,為了提高離子的利用效率,可以不進(jìn)行清空離子的步驟,而通過(guò)離子門的操作將暫時(shí)沒(méi)用到的離子先存儲(chǔ)起來(lái)。即:連續(xù)離子流通過(guò)遷移管進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4,一段時(shí)間后將第一導(dǎo)引端11電位抬高,離子源處的離子被阻擋在第一導(dǎo)引端11前面,暫時(shí)存儲(chǔ)下來(lái);再過(guò)一段時(shí)間,等離子導(dǎo)引裝置1和離子遷移管3內(nèi)的離子全部進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4,將離子存儲(chǔ)裝置4的離子門關(guān)閉;然后再將離子存儲(chǔ)裝置4的離子脈沖逐出進(jìn)行遷移率分析;等離子全部通過(guò)第三導(dǎo)引端13,或等整個(gè)分析周期完成,將第一導(dǎo)引端11的電位恢復(fù),離子正常傳輸,開始下個(gè)分析周期。這樣,離子的利用效率將接近100%。為了提高離子在離子遷移管3中的傳輸效率,可以施加射頻電場(chǎng),需注意到射頻電場(chǎng)通常對(duì)離子有加熱作用,從而會(huì)限制分辨率??梢詢?yōu)選的使用類似美國(guó)專利us6639213中的周期性聚焦的直流電場(chǎng),具有接近100%的離子傳輸效率,同時(shí)保證較高的遷移譜分辨率。
上述實(shí)施方式還可以包含一個(gè)檢測(cè)器6,其位于離子存儲(chǔ)裝置4的一側(cè),和離子存儲(chǔ)裝置4間是可選擇地連通于所述離子遷移管3的;如果是中間有開孔的檢測(cè)器,也可以位于離子遷移管3的第一遷移管端31。在另一種模式中,離子源2處產(chǎn)生的離子從離子導(dǎo)引裝置1 的第二導(dǎo)引端12,以脈沖方式進(jìn)入離子遷移管3,到達(dá)檢測(cè)器6進(jìn)行檢測(cè),這樣可直接進(jìn)行離子遷移率分析。
上述實(shí)施方式的第一種模式中,一個(gè)典型的電壓時(shí)間序列如圖2所示。圖中的離子門即位于上述各端,其結(jié)構(gòu)可為業(yè)內(nèi)熟知的圓孔透鏡,或者柵網(wǎng)電極等;圖中推斥電極為離子存儲(chǔ)裝置4中的電極,可位于圖1中的6處附近,其結(jié)構(gòu)可為圓孔電極,或者板狀電極等。0~t1為離子從離子源2進(jìn)入離子導(dǎo)引裝置1,再通過(guò)離子遷移管3進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4的過(guò)程,t1時(shí)刻將第一導(dǎo)引端11離子門關(guān)閉,t1~t2為裝置1和3內(nèi)殘留的離子進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4的過(guò)程,t2時(shí)刻將第一遷移管端31離子門打開,進(jìn)行遷移率分析。
離子遷移管需要施加幾千伏甚至更高的遷移電壓以達(dá)到較高的分辨,通常的離子遷移管-四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜中,需要隨之上浮遷移管上游或下游裝置的電壓,比如,上游電噴霧離子源的電壓可能達(dá)到1萬(wàn)伏以上,因此很容易發(fā)生電壓擊穿而損壞儀器。而在本發(fā)明上述第一種模式中,需要施加高電壓的部分,僅僅包括離子遷移管3的第一遷移管端,以及離子存儲(chǔ)裝置4。這部分的高電壓需要快速的切換以完成所述的電壓時(shí)間序列。而在離子源2、離子導(dǎo)引裝置1和后級(jí)裝置5中,不需要高電壓,因此前、后級(jí)其它的裝置不需要上浮高電壓。在第二種模式中,由于不需使用離子遷移管3和離子存儲(chǔ)裝置4,所以高電壓也不需要施加。
以上描述的第一種模式(即遷移率分析模式)和第二種模式(即直接傳輸模式),可相互交替進(jìn)行。比如,在同一個(gè)色譜流出峰內(nèi),進(jìn)行完一次遷移率分析模式,再進(jìn)行一次直接傳輸模式,然后一直循環(huán)下去。或者兩種方式彼此有一定的重合時(shí)間,比如,遷移率分析模式下,離子從離子導(dǎo)引裝置1進(jìn)入離子遷移管3,在等待離子完全通過(guò)離子遷移管3進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4的時(shí)間內(nèi),t型離子導(dǎo)引裝置1切換到直接傳輸模式,被直接傳輸?shù)碾x子可以到后級(jí)裝置5進(jìn)行質(zhì)譜分析,等到在離子存儲(chǔ)裝置4里的離子被完全冷卻好,并準(zhǔn)備進(jìn)行遷移率分析前,離子導(dǎo)引裝置1切換回遷移率分析模式,以等待進(jìn)行遷移率分析。以此再一直循環(huán)進(jìn)行。
圖3a及圖3b為本發(fā)明第一實(shí)施方式中,離子導(dǎo)引裝置的兩個(gè)實(shí)施例。其中圖3a顯示為分段四極桿離子導(dǎo)引,實(shí)際中也可使用六極桿、八極桿等其它多極場(chǎng)形式;圖3b顯示為矩形的電極陣列,實(shí)際中也可使用圓形等電極形狀,圖3c中顯示圖3b中虛框部分電極的左或右視圖,具有向上的開口,而其他電極的側(cè)視可以為方形。另外,t字形狀的離子導(dǎo)引裝置僅為一種示例方式,實(shí)際也可使用l型,或者y型等具有三端的導(dǎo)引裝置;該離子導(dǎo)引裝置的典型工作氣壓為0.01torr~10torr,優(yōu)選為與離子遷移管3相同的氣壓,即為1torr~4torr。
圖4a至4c為對(duì)離子導(dǎo)引裝置在第一工作模式下進(jìn)行計(jì)算機(jī)仿真得到的離子軌跡圖;其 中圖4a為離子從離子源2經(jīng)過(guò)該離子導(dǎo)引裝置1的第一導(dǎo)引端11到第二導(dǎo)引端12至離子遷移管3的離子軌跡,圖4b為離子從離子遷移管3經(jīng)過(guò)該第二導(dǎo)引端12再回到離子導(dǎo)引裝置1中然后從第三導(dǎo)引端13進(jìn)入后級(jí)裝置5的離子軌跡,圖4c為離子從離子源2經(jīng)過(guò)離子導(dǎo)引裝置1的第一導(dǎo)引端11直接從第三導(dǎo)引端13進(jìn)入后級(jí)裝置5的離子軌跡。仿真中的氣壓為1torr,離子的質(zhì)量數(shù)為500。三種情況下,離子的傳輸效率均達(dá)到了100%。
圖5a至5c為本發(fā)明第一實(shí)施方式中,離子存儲(chǔ)裝置的三個(gè)實(shí)施例;對(duì)該離子存儲(chǔ)裝置的要求是,較高的離子存儲(chǔ)容量,以及較高的離子出射效率。這三個(gè)實(shí)施例中,都采用了雙層的網(wǎng)狀電極7作為離子門,雙層網(wǎng)狀電極的好處是可以有效減少離子存儲(chǔ)裝置內(nèi)的電場(chǎng)和遷移管內(nèi)電場(chǎng)的相互影響,而且可以使得離子在存儲(chǔ)時(shí)盡量靠近網(wǎng)狀電極7,減少出射離子束的軸向展寬。這三個(gè)實(shí)施例都采用了環(huán)形電極陣列的形式,該形式具有較高的離子存儲(chǔ)容量,電極上都施加射頻電場(chǎng)以高效的束縛、存儲(chǔ)離子。但是在離子逐出時(shí)采用的聚焦方式不同。其中,圖5a是離子存儲(chǔ)裝置4a的電極沿軸向的截面示意圖,圖中“+”“-”表示幅值相等、相位相反的射頻電壓,該實(shí)施例中,通過(guò)改變交替射頻電場(chǎng)的電極數(shù)目,使得射頻勢(shì)壘在出口處非常靠近離子存儲(chǔ)裝置4a的軸線,以聚焦離子;圖5b的離子存儲(chǔ)裝置4b采用類似專利us6107628中的方式,使用逐漸縮小的環(huán)形電極來(lái)聚焦離子;圖5c的離子存儲(chǔ)裝置4c采用類似專利us20150206731的方式,離子存儲(chǔ)裝置具有多個(gè)環(huán)形電極41c,圖5d顯示其中一個(gè)環(huán)形電極41c的形狀的例子,通過(guò)絕緣物或斷開部分而將每個(gè)環(huán)形電極分成兩段并沿軸線逐漸變化,每個(gè)環(huán)形電極41c兩段間施加偏置電壓,以達(dá)到聚焦離子的效果。除去這些形式,還可以采用各種業(yè)內(nèi)已知的三維離子阱、直線離子阱或離子阱陣列等。
圖6為本發(fā)明第一實(shí)施方式中的離子導(dǎo)引裝置與四極桿-正交飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用的一個(gè)實(shí)施例;其中8為電噴霧離子源,9為大氣壓接口,2為前級(jí)離子導(dǎo)引,1為所述離子導(dǎo)引裝置,3為離子遷移管,4為離子存儲(chǔ)裝置,5為質(zhì)量分析器(可為四極桿),用于選出母離子,10為碰撞腔,用于產(chǎn)生子離子,11為飛行時(shí)間質(zhì)譜,用于子離子的高分辨率質(zhì)量分析。離子導(dǎo)引裝置1的長(zhǎng)度可以很短,比如100mm,所以整個(gè)裝置長(zhǎng)度與不加遷移管時(shí)的長(zhǎng)度基本一致;而飛行質(zhì)譜的高度主要取決于飛行管的高度,比如在飛行管為1m的情況下,遷移管3的長(zhǎng)度也可以接近1m,該長(zhǎng)度下可以取得非常高的遷移譜分辨率。
圖7為本發(fā)明第一實(shí)施方式中的離子導(dǎo)引裝置與四極桿-正交飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用的另一個(gè)實(shí)施例。在本實(shí)施例中,離子導(dǎo)引裝置1與相關(guān)的離子遷移管3、離子存儲(chǔ)裝置4都位于碰撞腔10的下游,以及飛行時(shí)間質(zhì)譜11的上游。這樣可以對(duì)碰撞產(chǎn)生的子離子進(jìn)行遷移率分析。
圖8顯示為本發(fā)明的第二實(shí)施方式的一個(gè)實(shí)施例;相比于第一實(shí)施方式,該方式中將離子源2和離子遷移管3(以及附屬的離子存儲(chǔ)裝置4)相對(duì)離子導(dǎo)引裝置1a的位置互換。該方式在遷移率分析模式中,被遷移管分離而出射的離子,不需要經(jīng)過(guò)偏轉(zhuǎn)就可以進(jìn)入后級(jí)裝置5。避免了離子因偏轉(zhuǎn)而可能產(chǎn)生的分辨率損失。因此相比第一實(shí)施方式,該方式可取得更高的遷移譜分辨率,但是該方式中儀器的長(zhǎng)度要相應(yīng)增加,但仍然比傳統(tǒng)的方式要短一些。
圖9為本發(fā)明的第三實(shí)施方式的一個(gè)實(shí)施例。該方式中有兩個(gè)離子遷移管12和13,一一分別連接于兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置14及15的兩個(gè)第二遷移管端,當(dāng)然數(shù)量并非以此為限;其中,離子遷移管12用于離子傳輸?shù)诫x子存儲(chǔ)裝置4,因此實(shí)際上是用于離子導(dǎo)引,可施加射頻電場(chǎng)以提高離子傳輸效率;13為傳統(tǒng)用途的離子遷移管,用于離子遷移率分析。該實(shí)施例中,離子存儲(chǔ)裝置4的入口和出口需要分開布置,以連接于兩個(gè)離子遷移管12和13。同時(shí),需要連接的兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置14和15(可為t型、或者l型)直接相連,兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置14和15間可以有一個(gè)真空接口16,這樣兩者可處于不同的氣壓??拷x子源的離子導(dǎo)引裝置14的氣壓與兩個(gè)離子遷移管12和13的氣壓基本一致,而另外一個(gè)離子導(dǎo)引裝置15處于更低的氣壓,這種情況下,離子從離子遷移管出射后的遷移率損失可以有效的避免。
圖10為本發(fā)明的第三實(shí)施方式的另一個(gè)實(shí)施例。本實(shí)施例仍然是離子遷移譜跟四極桿-飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用的一個(gè)例子。本例包含兩個(gè)離子導(dǎo)引裝置14和15,分別與兩個(gè)遷移管12和13相連,遷移管12和13可以都是彎曲的,并通過(guò)離子存儲(chǔ)裝置4相接。t型離子導(dǎo)引14的出口一端接例如四極桿形式的質(zhì)量分析器5,而離子導(dǎo)引裝置15的入口一端接碰撞腔10的出口。在一種遷移率分析模式下,離子從導(dǎo)引裝置14進(jìn)入離子遷移管12進(jìn)行傳輸,在存儲(chǔ)裝置4進(jìn)行存儲(chǔ),然后返回離子遷移管12進(jìn)行遷移率分析,再通過(guò)離子導(dǎo)引裝置14依次進(jìn)入質(zhì)量分析器5、碰撞腔10、離子導(dǎo)引裝置15、飛行時(shí)間質(zhì)譜10,進(jìn)行串聯(lián)質(zhì)譜分析,這種模式中離子遷移管13不被使用。另一種工作模式下,遷移管12不被使用,離子先經(jīng)過(guò)碰撞腔10進(jìn)行解離,子離子通過(guò)離子導(dǎo)引裝置15、離子遷移管13進(jìn)入離子存儲(chǔ)裝置4,再返回離子遷移管13進(jìn)行遷移率分析,以及后面的飛行時(shí)間質(zhì)譜分析。
除去這兩種模式,還有多種組合模式,比如,離子遷移管12和13以及離子存儲(chǔ)裝置4均作為離子傳輸用,此時(shí)離子經(jīng)過(guò)離子導(dǎo)引14,經(jīng)四極桿質(zhì)量分析器5選出母離子,進(jìn)入碰撞腔10解離產(chǎn)生子離子,然后依次經(jīng)過(guò)離子導(dǎo)引裝置15、離子遷移管13、離子存儲(chǔ)裝置4、離子遷移管12、離子導(dǎo)引裝置14,重新進(jìn)入質(zhì)量分析器5來(lái)選擇子離子,然后進(jìn)入碰撞腔10產(chǎn)生孫離子,這種方式為ms3串聯(lián)質(zhì)譜分析,甚至可循環(huán)進(jìn)行msn串聯(lián)質(zhì)譜分析;再比如,離子遷移管12和13均作為離子遷移率分析用,此時(shí)離子可從離子導(dǎo)引裝置15脈沖式進(jìn) 入離子遷移管13進(jìn)行遷移率分離,離子存儲(chǔ)裝置4選出所需離子遷移率范圍的離子,存儲(chǔ)后脈沖逐入離子遷移管12進(jìn)行遷移率分離,這種方式為ims-ims串聯(lián)遷移率分析;以上方式均可以自由組合,或者交替、穿插使用,以達(dá)到不同的分析目的。
結(jié)合上述各實(shí)施例的原理,本發(fā)明還可提供應(yīng)用于上述設(shè)備中的離子遷移譜方法,以實(shí)現(xiàn)離子遷移率分析及/或其它所需分析。
上述實(shí)施例僅例示性說(shuō)明本發(fā)明的原理及其功效,而非用于限制本發(fā)明。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下,對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此,舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本發(fā)明所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變,仍應(yīng)由本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。