本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域,顯示技術(shù)領(lǐng)域,微納加工領(lǐng)域,尤其涉及一種基于干涉效應(yīng)的非易失性像素單元。
背景技術(shù):
在數(shù)千萬年前就有生物系統(tǒng)可以利用納米結(jié)構(gòu)來產(chǎn)生在陽光下呈現(xiàn)不同顏色的表面,例如蝴蝶等多彩的昆蟲。其原理是納米結(jié)構(gòu)影響了照射在其表面的光的光路,導(dǎo)致干涉,選擇性反射等現(xiàn)象的發(fā)生,呈現(xiàn)出不同的顏色,并且這種顏色的呈現(xiàn)是被動(dòng)式的。這類納米結(jié)構(gòu)被用于制作超疏水材料,應(yīng)用于自清潔表面等。
相變材料,又稱硫系化合物,主要指的是VI族元素與III-V族元素組成的合金。這類合金具有可變的非晶態(tài)、多晶態(tài)等相態(tài),并能夠在相態(tài)之間進(jìn)行納秒級(jí)轉(zhuǎn)變(10~30ns)。在不同相態(tài)下,其光學(xué)特性包括折射率與吸收系數(shù)具有相當(dāng)大的差異,其電學(xué)特性主要表現(xiàn)為電阻值也有相當(dāng)大的差異。在近30年,相變材料被廣泛用于多媒體光學(xué)存儲(chǔ),如DVD中;近10年間,隨著微電子技術(shù)的發(fā)展,相變材料開始被應(yīng)用于高速非易失性存儲(chǔ)器中。
相變材料主要依靠焦耳熱的累積,完成非晶態(tài)與晶態(tài)之間的相互轉(zhuǎn)變。對(duì)相變材料施加較強(qiáng)的電脈沖、激光或熱傳導(dǎo)等熱激勵(lì)方式,當(dāng)材料的溫度超過熔化溫度后快速冷卻,材料呈現(xiàn)非晶態(tài)結(jié)構(gòu),電阻阻值相對(duì)較大,對(duì)整個(gè)光譜的折射性能相對(duì)較好,透過性能相對(duì)較好;施加中等強(qiáng)度的熱激勵(lì),當(dāng)材料的溫度僅超過結(jié)晶溫度后緩慢冷卻,材料呈現(xiàn)晶態(tài)結(jié)構(gòu),電阻阻值相對(duì)較小,對(duì)整個(gè)光譜的折射性能相對(duì)較差,透過性能相對(duì)較差。因此,相變材料可以在不同相態(tài)下呈現(xiàn)不同的光學(xué)性能。
目前市場(chǎng)化的顯示技術(shù)主要包括液晶顯示器LCD及其分支,自發(fā)光顯示器OLED及其分支,以及電子紙E-paper三大類。其中,液晶顯示器和自發(fā)光顯示器在工作時(shí),顯示畫面需要不斷通電保持,不屬于非易失性顯示方式。電子紙E-paper屬于非易失性顯示方式,其中最具代表性的技術(shù)是電子墨水E-ink,它采用有色帶電化學(xué)膠囊團(tuán)構(gòu)成像素,通過對(duì)膠囊的物理浮動(dòng)與數(shù)量變化顯示圖像,具有顯示保持功耗低、非易失性顯示、形態(tài)可彎曲卷曲等優(yōu)點(diǎn);但相對(duì)LCD和OLED來說,E-ink目前的缺點(diǎn)是制備成本高、顯示畫面切換速度慢以及彩色實(shí)現(xiàn)較困難等。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提出一種由反射層、第一透明層、相變層構(gòu)成的非易失性像素單元,用于實(shí)現(xiàn)彩色非易失性顯示單元和顯示陣列。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種基于干涉效應(yīng)的非易失性像素單元,所述像素單元包括多個(gè)亞像素單元,所述亞像素單元包括反射層、位于反射層上的第一透明層、位于第一透明層上的相變層;多個(gè)亞像素單元中的第一透明層的光學(xué)常數(shù)不完全相同或厚度不完全相同。
進(jìn)一步地,所述相變層上方還有第二透明層,所述第一透明層和第二透明層均由導(dǎo)電材料構(gòu)成。
進(jìn)一步地,所述第一透明層選自ITO,ZnO,AZO等材料;所述第二透明層選自ITO,ZnO,AZO等材料。
進(jìn)一步地,所述亞像素單元還包括位于相變層一側(cè)或兩側(cè)的透明電極,透明電極與相變層相連。
進(jìn)一步地,所述任意兩個(gè)亞像素單元中的第一透明層的光學(xué)常數(shù)或厚度不相同。
進(jìn)一步地,所述多個(gè)亞像素單元中的相變層不完全相同。
進(jìn)一步地,所述任意兩個(gè)亞像素單元中的相變層不相同。
進(jìn)一步地,亞像素元的面積為0.01μm2~0.25mm2。
進(jìn)一步地,所述相變層由相變材料構(gòu)成,所述相變材料選自GeSbTe、GeTeAsSi、GeTe、GeTeBi、GeTeAs、InTe、AsSbTe、SeSbTe、GeSbTeN、GeSbTeSn、AgInSbTe、GeSbTeO、AsTeAg、AuSbTe、AuInTe、SiTeGe、SiSbTe、SbTe等合金材料。
進(jìn)一步地,所述像素單元包括4個(gè)亞像素單元,相變層均由GeSbTe構(gòu)成,第二透明層厚度均為15nm,相變層厚度為5nm,第一透明層和第二透明層均為ITO,4個(gè)亞像素單元中的第一透明層厚度分別為33nm、145nm、165nm、255nm。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明設(shè)計(jì)的顯示單元,屬于非易失性顯示,采用了相態(tài)可變的相變材料,每個(gè)亞像素元在導(dǎo)電電極的電壓控制下可以顯示出兩種不同的顏色,通過陣列組合可以顯示出多種不同的顏色。同時(shí)本發(fā)明具有顯示保持功耗低、非易失性顯示、形態(tài)可彎曲卷曲等優(yōu)點(diǎn)。針對(duì)E-ink的顯示缺點(diǎn):本發(fā)明設(shè)計(jì)的非易失性顯示單元,制備成本低、相態(tài)變化在納秒級(jí)完成,顯示畫面切換在10ms內(nèi)完成。此外,本發(fā)明的顯示像素面積可以在0.01μm2~0.25mm2之間,因此可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用實(shí)現(xiàn)超高分辨率顯示或者實(shí)現(xiàn)低成本大面積低分辨率顯示。本發(fā)明使用的導(dǎo)電層和相變材料厚度均在納米量級(jí),易制備成柔性結(jié)構(gòu),因此可以做在各種基材上,包括透明的玻璃、柔性可卷可彎抗拉伸的材料,這是傳統(tǒng)顯示器遠(yuǎn)不能達(dá)到的。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的一種亞像素元示意圖;
圖2是本發(fā)明的另一種像素元示意圖;
圖3是本發(fā)明的一種顯示陣列示意圖;
圖4是本發(fā)明的一種驅(qū)動(dòng)電路示意圖;
圖5a~g表示相變層3與TFT控制電路的不同連接方式;
圖中,反射層1、第一透明層2、相變層3、第二透明層4、透明電極5。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明公開一種基于干涉效應(yīng)的非易失性像素單元,所述像素單元包括多個(gè)亞像素單元,還可以包括相變控制電路;所述亞像素單元包括反射層1、位于反射層1上的第一透明層2、位于第一透明層2上的相變層3;多個(gè)亞像素單元中的第一透明層2的光學(xué)常數(shù)不完全相同或厚度不完全相同。自然光射入顯示陣列表面,在空氣和表面的界面發(fā)生一次反射,在第一透明層2和反射層1界面發(fā)生一次反射,由于第一透明層2的光學(xué)常數(shù)不完全相同或厚度不完全相同,兩束反射光光程不同,產(chǎn)生干涉,并且出射光譜與光程差有關(guān),因此調(diào)制第一透明層2即可得到不同顏色的亞像素元。在此基礎(chǔ)上,將相變層3與現(xiàn)有的相變控制電路,即TFT控制電路,相連后,可進(jìn)一步通過控制電路實(shí)現(xiàn)對(duì)相變層3的相變調(diào)控,實(shí)現(xiàn)二元顏色變化。
若像素單元包括n個(gè)亞像素單元,各個(gè)亞像素單元中的第一透明層2的光學(xué)常數(shù)或厚度各不相同,各個(gè)亞像素單元中的相變層3各不相同,則可實(shí)現(xiàn)n2種顏色,進(jìn)一步通過TFT控制電路對(duì)相變層顏色進(jìn)行調(diào)控,則可表達(dá)2×n2種顏色。
作為相變控制電路的TFT控制電路如圖4所示,每一個(gè)TFT動(dòng)作元件對(duì)應(yīng)一個(gè)上述的亞像素元,由柵線輸入信號(hào)控制TFT柵電極,作為相變用電壓的開關(guān),從源線輸入電壓信號(hào)控制相變,當(dāng)TFT元件處于低阻抗時(shí),電壓施加到顯示薄膜上,使相變材料薄膜發(fā)生相變。
從色彩多元化考慮,所述任意兩個(gè)亞像素單元中的第一透明層2的光學(xué)常數(shù)或厚度不相同。所述多個(gè)亞像素單元中的相變層3不完全相同,甚至于任意兩個(gè)亞像素單元中的相變層3不相同。
如圖5所示,相變層3與TFT控制電路相連的方式包括:
(1)直接與TFT控制電路相連;
(2)當(dāng)?shù)谝煌该鲗?為導(dǎo)電層時(shí),可以通過第一透明層2與TFT控制電路相連;
(3)當(dāng)相變層3上方還有由導(dǎo)電材料構(gòu)成的第二透明層4,相變層3可以通過第二透明層4與TFT控制電路相連;
(4)當(dāng)具有透明電極5時(shí),相變層3還可以通過第二透明層4與TFT控制電路相連;透明電極5一般平鋪在相變層3上,保證導(dǎo)電均勻性。
上述的相變材料層為第VI主族元素與第III~V主族元素組成的合金化合物,這種合金化合物具有可變的非晶態(tài)、多晶態(tài)等相態(tài)。其中的晶態(tài)結(jié)構(gòu),第VI主族元素與周圍的多個(gè)其他族元素原子之間形成共價(jià)鍵,形成多面體結(jié)構(gòu),這些共價(jià)鍵有強(qiáng)有弱,在非晶化過程中較弱的共價(jià)鍵斷裂,晶態(tài)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)榉蔷w結(jié)構(gòu),這樣的共價(jià)鍵部分重組,使得相變材料能夠在相態(tài)之間進(jìn)行納秒級(jí)轉(zhuǎn)變(10~30ns)。在不同相態(tài)下,這種合金化合物的光學(xué)特性包括折射系數(shù)與吸收系數(shù)具有相當(dāng)大的差異,可用于改變每個(gè)亞像素元的狀態(tài)。
在可見光波段光學(xué)性能比較好的合金化合物有由Te或Se與Ge、Si、As、Sb中的一種或多種組成的合金化合物,其中VI主族元素為必要元素,與其他III~V主族元素組成二元、三元或四元的合金化合物。這類合金化合物的相態(tài)變化速度快、常溫下結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、不同相態(tài)的光學(xué)性能差異大。比如:GeSbTe合金系列材料中的Ge2Sb2Te5,在非晶態(tài)時(shí)對(duì)短波長(zhǎng)光的反射率要比晶態(tài)時(shí)的反射率高,在晶態(tài)時(shí)對(duì)長(zhǎng)波長(zhǎng)光的反射率要比非晶態(tài)時(shí)的反射率高,處于這兩種相態(tài)的Ge2Sb2Te5材料薄膜會(huì)表現(xiàn)出兩種不同的顏色。其他同類的相變材料有GeTeAsSi、GeTe、GeTeBi、GeTeAs、InTe、AsSbTe、SeSbTe、GeSbTeN、GeSbTeSn、AgInSbTe、GeSbTeO、AsTeAg、AuSbTe、AuInTe、SiTeGe、SiSbTe、SbTe合金材料等。
用于連接控制電路與相變層3的材料為第III~V主族元素中的一種形成的單質(zhì)或多種按照任意配比組成的化合物。這種化合物透光性能和導(dǎo)電性能較好,并可以做成柔性結(jié)構(gòu),典型的材料為ITO、ZnO、AZO、石墨烯等,導(dǎo)電電極可以同時(shí)充當(dāng)透明層的作用,例如ITO、ZnO、AZO等,也可以只作為電極,與透明層不使用同種材料,例如石墨烯加上任意透明介質(zhì)等。
上述的透明層厚度小于300nm。不同厚度的透明層對(duì)光的吸收量不同,厚度越大,對(duì)光的吸收量越多,并且厚度對(duì)亞像素元呈現(xiàn)出的顏色有極大的影響。當(dāng)大于300nm,會(huì)大幅削弱導(dǎo)電電極的透光性能,影響整個(gè)結(jié)構(gòu)顏色的顯示效果和導(dǎo)電效果。
本發(fā)明中的相變材料層在生長(zhǎng)的時(shí)候是非晶態(tài),因此不受限于襯底,因此本技術(shù)理論上可以在包括傳統(tǒng)單晶/多晶硅襯底、玻璃襯底、高聚物襯底、金屬襯底上實(shí)現(xiàn)。
本發(fā)明中的薄膜結(jié)構(gòu)可以用磁控濺射等方法生長(zhǎng),可以用光刻掩模、納米壓印等工藝制備像素陣列。例如使用射頻磁控濺射在基底上生長(zhǎng)ITO薄膜時(shí),靶材直徑為60nm,In2O3:Sn2O2為90%:10%,濺射本底真空為2×10-4Pa,功率為200W,濺射時(shí)間為300s、480s、800s、1200s時(shí),厚度分別為50nm、70nm、120nm、180nm。
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
如圖1所示,列出一種亞像素元示意圖。在相變層3兩側(cè)加電極,可以通過施加電信號(hào)實(shí)現(xiàn)相變層在兩種相態(tài)之間轉(zhuǎn)變,不同相態(tài)的光學(xué)特性具有相當(dāng)大的差異,對(duì)不同波長(zhǎng)的光具有不同的反射率和折射率,起到調(diào)節(jié)整個(gè)亞像素元的可見光反射率的作用。第一透明層2的厚度可以調(diào)制,其厚度影響在不同面反射的光的光程,進(jìn)而影響干涉效應(yīng)對(duì)不同波長(zhǎng)光的增強(qiáng)和減弱效應(yīng),使得亞像素元呈現(xiàn)出不同的顏色。
如圖2所示的一種由多個(gè)亞像素元組成的像素元,像素元中的n個(gè)(圖中為3個(gè))亞像素元的第一透明層2厚度不同,導(dǎo)致亞像素元呈現(xiàn)出不同的顏色。每個(gè)亞像素元可以在相變材料的控制下呈現(xiàn)出高反射率和低反射率的狀態(tài),對(duì)應(yīng)著兩種顏色,因此單個(gè)像素元在不同狀態(tài)的亞像素元的組合下,可以有2n種(圖中為8種)可能的狀態(tài)。
如圖3所示的一種由圖2中所示的像素元組成的顯示陣列,可以通過底層電路調(diào)節(jié)每個(gè)像素元的狀態(tài),使其呈現(xiàn)不同的顏色,經(jīng)過組合可以顯示出想要顯示的圖案。