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有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板以及有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的制作方法

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有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板以及有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的制作方法

本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域,特別涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板以及有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置。



背景技術(shù):

傳統(tǒng)的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板一般包括掃描線、數(shù)據(jù)線、TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶體管)。

在上述傳統(tǒng)的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的制造過(guò)程中,上述掃描線或數(shù)據(jù)線可能會(huì)出現(xiàn)斷線缺陷。

上述斷線缺陷會(huì)導(dǎo)致上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板無(wú)法正常顯示,因此,存在上述斷線缺陷的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板往往會(huì)作為廢品處理,這會(huì)造成極大的浪費(fèi)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板以及有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置,其能為有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的掃描線或數(shù)據(jù)線中存在的斷線缺陷提供修復(fù)的可能。

為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:

一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板,所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板包括:玻璃基板;開(kāi)關(guān)器件層,所述開(kāi)關(guān)器件層設(shè)置在所述玻璃基板上,所述開(kāi)關(guān)器件層包括:第一備用修復(fù)線,所述第一備用修復(fù)線設(shè)置在所述玻璃基板上,所述第一備用修復(fù)線上覆蓋有第一絕緣層;掃描線,所述掃描線設(shè)置在所述第一絕緣層上,所述掃描線上覆蓋有第二絕緣層;第二備用修復(fù)線,所述第二備用修復(fù)線設(shè)置在所述第二絕緣層上,所述第二備用修復(fù)線上覆蓋有第三絕緣層;數(shù)據(jù)線,所述數(shù)據(jù)線設(shè)置在所述第三絕緣層上;薄膜晶體管開(kāi)關(guān),所述薄膜晶體管開(kāi)關(guān)包括柵極、多晶硅層、源極和漏極;其中,所述第一備用修復(fù)線用于在所述掃描線出現(xiàn)斷線缺陷時(shí)對(duì)所述掃描線進(jìn)行修復(fù),所述第二備用修復(fù)線用于在所述數(shù)據(jù)線出現(xiàn)斷線缺陷時(shí)對(duì)所述數(shù)據(jù)線進(jìn)行修復(fù);有機(jī)發(fā)光顯示器件層,所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)器件層上;蓋板,所述蓋板覆蓋所述玻璃基板、所述開(kāi)關(guān)器件層和所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層,所述蓋板與所述玻璃基板的邊緣部相固定。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板中,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述掃描線與所述第一備用修復(fù)線部分重疊。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板中,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述數(shù)據(jù)線與所述第二備用修復(fù)線部分重疊。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板中,在所述第一備用修復(fù)線與所述第二備用修復(fù)線的交匯處,所述第一備用修復(fù)線具有第一線寬,所述第二備用修復(fù)線具有第二線寬,所述第一線寬小于所述第一備用修復(fù)線的平均線寬,所述第二線寬小于所述第二備用修復(fù)線的平均線寬。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板中,所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層包括:陽(yáng)極層,所述陽(yáng)極層設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)器件層上,所述陽(yáng)極層與所述漏極連接;空穴注入層,所述空穴注入層設(shè)置在所述陽(yáng)極層上;空穴傳輸層,所述空穴傳輸層設(shè)置在所述空穴注入層上;發(fā)光材料層,所述發(fā)光材料層設(shè)置在所述空穴傳輸層上;電子傳輸層,所述電子傳輸層設(shè)置在所述發(fā)光材料層上;電子注入層,所述電子注入層設(shè)置在所述電子傳輸層上;陰極層,所述陰極層設(shè)置在所述電子注入層上。

一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置,所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置包括:驅(qū)動(dòng)電路;控制器,所述控制器與所述驅(qū)動(dòng)電路連接;有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板,所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板與所述驅(qū)動(dòng)電路和所述控制器連接,所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板包括:玻璃基板;開(kāi)關(guān)器件層,所述開(kāi)關(guān)器件層設(shè)置在所述玻璃基板上,所述開(kāi)關(guān)器件層包括:第一備用修復(fù)線,所述第一備用修復(fù)線設(shè)置在所述玻璃基板上,所述第一備用修復(fù)線上覆蓋有第一絕緣層;掃描線,所述掃描線設(shè)置在所述第一絕緣層上,所述掃描線上覆蓋有第二絕緣層;第二備用修復(fù)線,所述第二備用修復(fù)線設(shè)置在所述第二絕緣層上,所述第二備用修復(fù)線上覆蓋有第三絕緣層;數(shù)據(jù)線,所述數(shù)據(jù)線設(shè)置在所述第三絕緣層上;薄膜晶體管開(kāi)關(guān),所述薄膜晶體管開(kāi)關(guān)包括柵極、多晶硅層、源極和漏極;其中,所述第一備用修復(fù)線用于在所述掃描線出現(xiàn)斷線缺陷時(shí)對(duì)所述掃描線進(jìn)行修復(fù),所述第二備用修復(fù)線用于在所述數(shù)據(jù)線出現(xiàn)斷線缺陷時(shí)對(duì)所述數(shù)據(jù)線進(jìn)行修復(fù);有機(jī)發(fā)光顯示器件層,所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)器件層上;蓋板,所述蓋板覆蓋所述玻璃基板、所述開(kāi)關(guān)器件層和所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層,所述蓋板與所述玻璃基板的邊緣部相固定。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述掃描線與所述第一備用修復(fù)線部分重疊。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述數(shù)據(jù)線與所述第二備用修復(fù)線部分重疊。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,在所述第一備用修復(fù)線與所述第二備用修復(fù)線的交匯處,所述第一備用修復(fù)線具有第一線寬,所述第二備用修復(fù)線具有第二線寬,所述第一線寬小于所述第一備用修復(fù)線的平均線寬,所述第二線寬小于所述第二備用修復(fù)線的平均線寬。

在上述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層包括:陽(yáng)極層,所述陽(yáng)極層設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)器件層上,所述陽(yáng)極層與所述漏極連接;空穴注入層,所述空穴注入層設(shè)置在所述陽(yáng)極層上;空穴傳輸層,所述空穴傳輸層設(shè)置在所述空穴注入層上;發(fā)光材料層,所述發(fā)光材料層設(shè)置在所述空穴傳輸層上;電子傳輸層,所述電子傳輸層設(shè)置在所述發(fā)光材料層上;電子注入層,所述電子注入層設(shè)置在所述電子傳輸層上;陰極層,所述陰極層設(shè)置在所述電子注入層上。

相對(duì)現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明能為有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的掃描線或數(shù)據(jù)線中存在的斷線缺陷提供修復(fù)的可能。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的示意圖。

圖2是圖1所示的開(kāi)關(guān)器件層中的第一備用修復(fù)線與掃描線的位置關(guān)系的示意圖。

圖3是圖1所示的開(kāi)關(guān)器件層中的第二備用修復(fù)線與數(shù)據(jù)線的位置關(guān)系的示意圖。

圖4為圖1中的顯示器件層的示意圖。

具體實(shí)施方式

參考圖1,圖2,圖3和圖4,圖1為本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的示意圖,圖2是圖1所示的開(kāi)關(guān)器件層中的第一備用修復(fù)線與掃描線的位置關(guān)系的示意圖,圖3是圖1所示的開(kāi)關(guān)器件層中的第二備用修復(fù)線與數(shù)據(jù)線的位置關(guān)系的示意圖,圖4為圖1中的顯示器件層的示意圖。

本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置包括驅(qū)動(dòng)電路、控制器、有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板。

所述控制器與所述驅(qū)動(dòng)電路連接。

所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板與所述驅(qū)動(dòng)電路和所述控制器連接,所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板包括:

玻璃基板101。

開(kāi)關(guān)器件層102,所述開(kāi)關(guān)器件層設(shè)置在所述玻璃基板上,所述開(kāi)關(guān)器件層包括:

第一備用修復(fù)線201,所述第一備用修復(fù)線設(shè)置在所述玻璃基板上,所述第一備用修復(fù)線上覆蓋有第一絕緣層202。

掃描線203,所述掃描線設(shè)置在所述第一絕緣層上,所述掃描線上覆蓋有第二絕緣層204。

第二備用修復(fù)線301,所述第二備用修復(fù)線設(shè)置在所述第二絕緣層上,所述第二備用修復(fù)線上覆蓋有第三絕緣層302。

數(shù)據(jù)線303,所述數(shù)據(jù)線設(shè)置在所述第三絕緣層上。

薄膜晶體管開(kāi)關(guān),所述薄膜晶體管開(kāi)關(guān)包括柵極、多晶硅層、源極和漏極。

其中,所述第一備用修復(fù)線用于在所述掃描線出現(xiàn)斷線缺陷時(shí)對(duì)所述掃描線進(jìn)行修復(fù),所述第二備用修復(fù)線用于在所述數(shù)據(jù)線出現(xiàn)斷線缺陷時(shí)對(duì)所述數(shù)據(jù)線進(jìn)行修復(fù)。

平坦化層103。

有機(jī)發(fā)光顯示器件層104,所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)器件層上。

蓋板105,所述蓋板覆蓋所述玻璃基板、所述開(kāi)關(guān)器件層和所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層,所述蓋板與所述玻璃基板的邊緣部相固定。

在本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述掃描線與所述第一備用修復(fù)線部分重疊。

在本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述數(shù)據(jù)線與所述第二備用修復(fù)線部分重疊。

在本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,在所述第一備用修復(fù)線與所述第二備用修復(fù)線的交匯處,所述第一備用修復(fù)線具有第一線寬,所述第二備用修復(fù)線具有第二線寬,所述第一線寬小于所述第一備用修復(fù)線的平均線寬,所述第二線寬小于所述第二備用修復(fù)線的平均線寬。

在本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中,所述有機(jī)發(fā)光顯示器件層包括:

陽(yáng)極層1041,所述陽(yáng)極層設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)器件層上,所述陽(yáng)極層與所述漏極連接。

空穴注入層1042,所述空穴注入層設(shè)置在所述陽(yáng)極層上。

空穴傳輸層1043,所述空穴傳輸層設(shè)置在所述空穴注入層上。

發(fā)光材料層1044,所述發(fā)光材料層設(shè)置在所述空穴傳輸層上。

電子傳輸層1045,所述電子傳輸層設(shè)置在所述發(fā)光材料層上。

電子注入層1046,所述電子注入層設(shè)置在所述電子傳輸層上。

陰極層1047,所述陰極層設(shè)置在所述電子注入層上。

通過(guò)上述技術(shù)方案,由于本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板中存在第一備用修復(fù)線和第二備用修復(fù)線,因此本發(fā)明能夠?yàn)橛袡C(jī)發(fā)光二極管顯示面板的掃描線或數(shù)據(jù)線中存在的斷線缺陷提供修復(fù)的可能,有利于在有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板存在斷線缺陷時(shí)對(duì)所述斷線缺陷進(jìn)行修復(fù),從而避免因有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板無(wú)法修復(fù)而造成浪費(fèi)。

所述第一絕緣層上設(shè)置有第一備用修復(fù)孔陣列,所述第一備用修復(fù)孔陣列包括至少兩第一備用修復(fù)孔,至少兩所述第一備用修復(fù)孔所在的位置與所述第一備用修復(fù)線所在的位置對(duì)應(yīng),即,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述第一備用修復(fù)孔位于所述第一備用修復(fù)線和所述掃描線之間。

所述第二絕緣層上設(shè)置有第二備用修復(fù)孔陣列,所述第二備用修復(fù)孔陣列包括至少兩第二備用修復(fù)孔,至少兩所述第二備用修復(fù)孔所在的位置與所述第二備用修復(fù)線所在的位置對(duì)應(yīng),即,在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述第二備用修復(fù)孔位于所述第二備用修復(fù)線和所述數(shù)據(jù)線之間。

所述第一備用修復(fù)線貫穿所述第一絕緣層。所述第二備用修復(fù)線貫穿所述第二絕緣層。

在垂直于所述玻璃基板的方向上,所述第一備用修復(fù)孔與所述掃描線部分重疊,所述第二備用修復(fù)孔與所述數(shù)據(jù)線部分重疊。

所述第一備用修復(fù)孔的第一橫截面的直徑大于所述第一備用修復(fù)線的寬度。所述第二備用修復(fù)孔的第二橫截面的直徑大于所述第二備用修復(fù)線的寬度。

所述第一備用修復(fù)孔填充有第一光阻材料。所述第二備用修復(fù)孔填充有第二光阻材料。

所述第一光阻材料用于在受到預(yù)定光線(例如,紫外光)照射以及受到顯影液溶解后使得所述第一備用修復(fù)線的至少一部分在所述第一備用修復(fù)孔中露出。

所述第二光阻材料用于在受到所述預(yù)定光線照射以及受到顯影液溶解后使得所述第二備用修復(fù)線的至少一部分在所述第二備用修復(fù)孔中露出。

所述第一備用修復(fù)孔還用于在所述第一光阻材料被所述顯影液溶解后容納用于連接所述第一備用修復(fù)線和所述掃描線的第一導(dǎo)電材料。

所述第二備用修復(fù)孔還用于在所述第二光阻材料被所述顯影液溶解后容納用于連接所述第二備用修復(fù)線和所述掃描線的第二導(dǎo)電材料。

在上述技術(shù)方案中,為了減少所述第一備用修復(fù)線和所述第二備用修復(fù)線所形成的寄生電容,在所述第一備用修復(fù)線與所述第二備用修復(fù)線的交匯處,所述第一備用修復(fù)線和所述第二備用修復(fù)線的寬度均較小。

然而,為了避免所述第一備用修復(fù)線與所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處出現(xiàn)斷線缺陷,所述第一備用修復(fù)線在所述交匯處還設(shè)置有第一結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊,所述第一結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊設(shè)置在所述第一備用修復(fù)線沿垂直于所述玻璃基板的方向的上方,所述第一結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊用于提高所述第一備用修復(fù)線在所述交匯處的厚度/高度,以提高所述第一備用修復(fù)線在所述交匯處的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,避免所述第一備用修復(fù)線在所述交匯處出現(xiàn)斷線缺陷。

同樣,所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處還設(shè)置有第二結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊,所述第二結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊設(shè)置在所述第二備用修復(fù)線沿垂直于所述玻璃基板的方向的上方,所述第二結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊用于提高所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處的厚度/高度,以提高所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,避免所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處出現(xiàn)斷線缺陷。

所述第一結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊位于任意兩所述第一備用修復(fù)孔之間。

所述第二結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊位于任意兩所述第二備用修復(fù)孔之間。

所述第一結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊是通過(guò)在所述交匯處利用預(yù)定噴嘴對(duì)所述第一備用修復(fù)線聚焦噴涂第一金屬材料來(lái)形成的,所述第一金屬材料為與所述第一備用修復(fù)線的材料相同的材料。

同樣,所述第二結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊是通過(guò)在所述交匯處利用所述預(yù)定噴嘴對(duì)所述第二備用修復(fù)線聚焦噴涂第二金屬材料來(lái)形成的,所述第二金屬材料為與所述第二備用修復(fù)線的材料相同的材料。

所述預(yù)定噴嘴的橫截面為圓環(huán)狀,所述橫截面的外徑(外側(cè)圓的直徑)小于所述第二線寬以及所述第一線寬,具體地,所述外徑與所述第二線寬的比值處于20%至40%的范圍內(nèi),所述外徑與所述第一線寬的比值處于20%至40%的范圍內(nèi)。

由于所述第一結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊是在沿垂直于所述玻璃基板的方向上增加所述第一備用修復(fù)線在所述交匯處的厚度,因此,在所述交匯處,所述第一備用修復(fù)線在所述玻璃基板上的投影面積(線寬)并沒(méi)有增加,同樣,所述第二結(jié)構(gòu)增強(qiáng)塊是在沿垂直于所述玻璃基板的方向上增加所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處的厚度,因此,在所述交匯處,所述第二備用修復(fù)線在所述玻璃基板上的投影面積(線寬)并沒(méi)有增加。因此,所述第一備用修復(fù)線和所述第二備用修復(fù)線在所述交匯處所形成的寄生電容并沒(méi)有增加。

綜上所述,雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上,但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與潤(rùn)飾,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。

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