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一種應(yīng)用于半導(dǎo)體的磁力噴墨測試工藝的制作方法

文檔序號:12612676閱讀:206來源:國知局

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶片加工,尤其涉及半導(dǎo)體的磁力噴墨測試工藝。



背景技術(shù):

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展,急需一種能夠快速剔除不良品晶粒的作業(yè)方式,提高生產(chǎn)效率,降低生產(chǎn)成本,保證產(chǎn)品供應(yīng)的及時性,提升企業(yè)形象,增強企業(yè)競爭力。

半導(dǎo)體晶片采用測試機進行測試時,對晶片的電性進行噴墨分選,區(qū)分出良品和不良品晶粒。在現(xiàn)有微電子行業(yè)半導(dǎo)體制程中,例如:GPP晶片(具有玻璃鈍化保護P/N結(jié)的類型晶片)在激光切割硅片后,對呈現(xiàn)半切透狀態(tài)的硅片進行分裂,將整個硅片分割成符合要求的單個小晶粒,再手工將不良品晶粒一顆顆剔除,人工耗費極大,生產(chǎn)效率低下,制造成本極高,同時需要建立真空系統(tǒng),增加成本,同時被吸進去的雙面鍍金晶粒無法回收,再次造成經(jīng)濟上的損失。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明針對以上問題,提供了一種操作簡單,能夠高效快速剔除不合格晶粒的應(yīng)用于半導(dǎo)體的磁力噴墨測試工藝。

本發(fā)明的技術(shù)方案是:包括以下步驟:

S1、先激光切割晶片呈半切透狀,形成若干待分離的晶粒;

S2、測試晶粒,區(qū)分不合格晶粒;

S3、磁性墨水配制;

S4、晶片噴墨,對不合格晶粒進行噴墨;

S5、烘干,將噴墨后的晶片放置在烘箱內(nèi),烘箱溫度為80-100℃,時間為15-25min;

S6、裂片,將待裂晶片放置在兩張防靜電麥拉紙之間,再通過硬質(zhì)膠棒滾碾晶片,使其分裂成若干晶粒;

S7、磁鐵吸附帶墨水的不合格晶粒,完成。

步驟S3、磁性墨水配制;

S3.1、原料準備,包括Fe3O4粉末8-15g、酒精150-220ml和墨水400-600ml;

S3.2、原料混合,將Fe3O4粉末溶于盛放墨水的容器,再將酒精加入容器;

S3.3、原料攪拌,攪拌時間為3-6h,溫度為15-30℃;

S3.4、靜置、完成。

還包括表面活性劑,將表面活性劑加入步驟S3.2中的容器內(nèi)。

本發(fā)明在工作中,先將晶片切割呈半切透狀;通過探針臺測試區(qū)分不合格晶粒;配制磁性墨水;對不合格晶粒通過探針臺進行噴墨;晶片烘干,將磁性墨水烘干,便于后續(xù)操作;裂片,將晶片分裂成若干晶粒;最后,通過磁鐵吸附不合格晶粒,完成加工過程,節(jié)省了時間,提高了工作效率。在磁性墨水配制過程中,F(xiàn)e3O4粉末具有磁性的作用,墨水起到標(biāo)記不合格晶粒的作用,酒精起到稀釋和溶解的作用,成本低,方便加工。

本發(fā)明降低了生產(chǎn)成本,提高了工作效率,成品率高。

具體實施方式

本發(fā)明包括以下步驟:

S1、先激光切割晶片呈半切透狀(即切割道深及晶片但未貫穿晶片),形成若干待分離的晶粒;

S2、測試晶粒,區(qū)分不合格晶粒,采用探針臺進行測試;

S3、磁性墨水配制;

S4、晶片噴墨,對不合格晶粒進行噴墨,采用探針臺進行自動噴墨;配制的磁性墨水通過溶劑的稀釋和攪拌實現(xiàn)良好的粘稠狀態(tài),將墨水噴至在芯片的正中心位置;

S5、烘干,將噴墨后的晶片放置在烘箱內(nèi),烘箱溫度為80-100℃,時間為15-25min;

S6、裂片,將待裂晶片放置在兩張防靜電麥拉紙之間,再通過硬質(zhì)膠棒滾碾晶片,使其分裂成若干晶粒;麥拉紙防止靜電,晶粒由于靜電作用被吸附,從而造成飛料,引起混料等異常。

S7、磁鐵吸附帶墨水的不合格晶粒,完成;通過帶有磁性的磁鐵吸附,由于磁性墨水中的Fe3O4粉末具有金屬特性,使得吸附可靠,便于分離。

酒精的作用是稀釋和溶解作用;一是將墨水充分溶解于酒精中;二是對Fe3O4粉末起到稀釋的作用。

步驟S3、磁性墨水配制;

S3.1、原料準備,包括Fe3O4粉末8-15g、酒精150-220ml和墨水400-600ml;

S3.2、原料混合,將Fe3O4粉末溶于盛放墨水的容器,再將酒精加入容器;

S3.3、原料攪拌,攪拌時間為3-6h,溫度為15-30℃;

S3.4、靜置、完成。Fe3O4粉末具有磁性的作用,墨水起到標(biāo)記不合格晶粒的作用。使用前需要充分攪拌至少10min以上。

應(yīng)用中,包括Fe3O4粉末10g、酒精180ml和墨水500ml;將Fe3O4粉末溶于盛放墨水的容器,再將酒精加入容器;攪拌時間為4h,溫度為20℃;靜置,完成。

還包括表面活性劑,將表面活性劑加入步驟S3.2中的容器內(nèi)。表面活性劑具有消除晶片表面張力的作用,便于清洗(在晶粒發(fā)生誤操作噴墨時),還能避免發(fā)生晶片氧化腐蝕的作用。

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