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一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器的制作方法

文檔序號(hào):11956896閱讀:770來(lái)源:國(guó)知局
一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器的制作方法與工藝

本發(fā)明屬于濾波器技術(shù)領(lǐng)域。



背景技術(shù):

近年來(lái),隨著移動(dòng)通信、衛(wèi)星通信及國(guó)防電子系統(tǒng)的微型化的迅速發(fā)展,高性能、低成本和小型化已經(jīng)成為目前微波/射頻領(lǐng)域的發(fā)展方向,對(duì)微波功率放大器的性能、尺寸、可靠性和成本均提出了更高的要求。描述這種部件性能的主要指標(biāo)有:工作頻率范圍、輸出功率增益、增益噪聲指數(shù)、輸入輸出三階截取點(diǎn)、電壓駐波比等。

低溫共燒陶瓷是一種電子封裝技術(shù),采用多層陶瓷技術(shù),能夠?qū)o(wú)源元件內(nèi)置于介質(zhì)基板內(nèi)部,同時(shí)也可以將有源元件貼裝于基板表面制成無(wú)源/有源集成的功能模塊。LTCC技術(shù)在成本、集成封裝、布線線寬和線間距、低阻抗金屬化、設(shè)計(jì)多樣性和靈活性及高頻性能等方面都顯現(xiàn)出眾多優(yōu)點(diǎn),已成為無(wú)源集成的主流技術(shù)。其具有高Q值,便于內(nèi)嵌無(wú)源器件,散熱性好,可靠性高,耐高溫,沖震等優(yōu)點(diǎn),利用LTCC技術(shù),可以很好的加工出尺寸小,精度高,緊密型好,損耗小的微波器件。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器,增加了濾波器工作曲線中過(guò)渡帶的陡峭程度,具有體積小、重量輕、可靠性高、電性能優(yōu)異、使用方便、適用范圍廣、成品率高、批量一致性好和造價(jià)低等優(yōu)點(diǎn)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:

一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器,包括上接地板G5,下接地板G6的上邊間隔設(shè)有上接地板G5,下接地板的前邊設(shè)有接地邊框G1,下接地板的左邊設(shè)有接地邊框G3,下接地板的后邊設(shè)有接地邊框G2,下接地板的右邊設(shè)有接地邊框G4,接地邊框G1、接地邊框G2、接地邊框G3和接地邊框G4均設(shè)于下接地板G6和上接地板G5之間,接地邊框G1、接地邊框G2、接地邊框G3和接地邊框G4均與下接地板G6連接,接地邊框G1、接地邊框G2、接地邊框G3和接地邊框G4均與上接地板G5連接;

接地邊框G3的前側(cè)框邊設(shè)有輸入端P1,接地邊框G4的前側(cè)框邊設(shè)有輸出端P2;

接地邊框G1的中間的后邊從前至后依次間隔設(shè)有金屬柱C1、金屬柱C2、金屬柱C3、金屬柱C4、金屬柱C5、金屬柱C6和金屬柱C7,金屬柱C7的左邊設(shè)有金屬柱C8,金屬柱C7的右邊設(shè)有金屬柱C10,金屬柱C7的后邊設(shè)有金屬柱C11;

上接地板G5上設(shè)有Z形缺陷Z1,下接地板G6上設(shè)有Z形缺陷Z2,Z形缺陷Z1和Z形缺陷Z2在垂直投影上為交叉設(shè)置,Z形缺陷Z1和Z形缺陷Z2在垂直投影上的交叉點(diǎn)位于金屬柱C3和金屬柱C4之間;

金屬柱C8的前邊的空腔區(qū)域1為第一級(jí)濾波器,金屬柱C8的后邊的空腔區(qū)域2為第二級(jí)濾波器,金屬柱C10的前邊的空腔區(qū)域4為第四級(jí)濾波器,金屬柱C10的后邊的空腔區(qū)域3為第三級(jí)濾波器。

所述Z形缺陷Z1和Z形缺陷Z2均為Z形開(kāi)孔結(jié)構(gòu)。

所述輸入端口P1和輸出端口P2均為共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的50歐姆阻抗的端口。

所述一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器由多層低溫共燒陶瓷工藝制成。

本發(fā)明所述的一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器,增加了濾波器工作曲線中過(guò)渡帶的陡峭程度,具有體積小、重量輕、可靠性高、電性能優(yōu)異、使用方便、適用范圍廣、成品率高、批量一致性好和造價(jià)低等優(yōu)點(diǎn),適用于相應(yīng)微波頻段的通信、衛(wèi)星通信等對(duì)體積、電性能、溫度穩(wěn)定性和可靠性有苛刻要求的場(chǎng)合和相應(yīng)的系統(tǒng)中。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是本發(fā)明的俯視圖;

圖3是本發(fā)明的工作曲線圖。

具體實(shí)施方式

如圖1-3所示的一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器,包括上接地板G5,下接地板G6的上邊間隔設(shè)有上接地板G5,下接地板的前邊設(shè)有接地邊框G1,下接地板的左邊設(shè)有接地邊框G3,下接地板的后邊設(shè)有接地邊框G2,下接地板的右邊設(shè)有接地邊框G4,接地邊框G1、接地邊框G2、接地邊框G3和接地邊框G4均設(shè)于下接地板G6和上接地板G5之間,接地邊框G1、接地邊框G2、接地邊框G3和接地邊框G4均與下接地板G6連接,接地邊框G1、接地邊框G2、接地邊框G3和接地邊框G4均與上接地板G5連接;

接地邊框G3的前側(cè)框邊設(shè)有輸入端P1,接地邊框G4的前側(cè)框邊設(shè)有輸出端P2;

接地邊框G1的中間的后邊從前至后依次間隔設(shè)有金屬柱C1、金屬柱C2、金屬柱C3、金屬柱C4、金屬柱C5、金屬柱C6和金屬柱C7,金屬柱C7的左邊設(shè)有金屬柱C8,金屬柱C7的右邊設(shè)有金屬柱C10,金屬柱C7的后邊設(shè)有金屬柱C11;

上接地板G5上設(shè)有Z形缺陷Z1,下接地板G6上設(shè)有Z形缺陷Z2,Z形缺陷Z1和Z形缺陷Z2在垂直投影上為交叉設(shè)置,Z形缺陷Z1和Z形缺陷Z2在垂直投影上的交叉點(diǎn)位于金屬柱C3和金屬柱C4之間;

金屬柱C8的前邊的空腔區(qū)域1為第一級(jí)濾波器,金屬柱C8的后邊的空腔區(qū)域2為第二級(jí)濾波器,金屬柱C10的前邊的空腔區(qū)域4為第四級(jí)濾波器,金屬柱C10的后邊的空腔區(qū)域3為第三級(jí)濾波器。

所述Z形缺陷Z1和Z形缺陷Z2均為Z形開(kāi)孔結(jié)構(gòu)。

所述輸入端口P1和輸出端口P2均為共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的50歐姆阻抗的端口。

所述一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器由多層低溫共燒陶瓷工藝制成。

工作時(shí),本發(fā)明分為為4級(jí)濾波器,圖2中所示的空腔區(qū)域1、空腔區(qū)域2、空腔區(qū)域3和空腔區(qū)域4即為濾波器的4級(jí),金屬柱C1~C11用來(lái)隔離級(jí)間能量,其中第一級(jí)濾波器和第四級(jí)濾波器級(jí)幾乎被完全隔開(kāi),信號(hào)能量從輸入端口P1進(jìn)入,依次經(jīng)過(guò)第一級(jí)濾波器、第二級(jí)濾波器、第三級(jí)濾波器和第四級(jí)濾波器,最后到輸出端口P2輸出,從上接地板G5和下接地板G6挖出的兩塊z形缺陷是為引入交叉耦合產(chǎn)生阻帶傳輸零點(diǎn)以增加濾波器過(guò)渡帶的陡峭。

本發(fā)明所述的一種極高頻SIW交叉耦合帶通濾波器,增加了濾波器工作曲線中過(guò)渡帶的陡峭程度,具有體積小、重量輕、可靠性高、電性能優(yōu)異、使用方便、適用范圍廣、成品率高、批量一致性好和造價(jià)低等優(yōu)點(diǎn),適用于相應(yīng)微波頻段的通信、衛(wèi)星通信等對(duì)體積、電性能、溫度穩(wěn)定性和可靠性有苛刻要求的場(chǎng)合和相應(yīng)的系統(tǒng)中。

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