本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領域，尤其涉及一種顯示基板及制作方法和顯示設備。

背景技術(shù)：

隨著科技的進步，有機發(fā)光二極管(英文全稱：Organic Light Emitting Display，簡稱：OLED)在生活中的使用越來越廣泛。在平板顯示與平面光源技術(shù)當中，對于兩片平板玻璃的粘結(jié)是一項很重要的技術(shù)，其封裝效果將直接影響器件的性能，這就使得對OLED顯示器件封裝效果質(zhì)量的把控顯得更加重要。

通常對OLED顯示器件的封裝是采用封框膠將兩側(cè)的基板粘結(jié)；這里以采用玻璃膠(英文全稱:Frit)封裝技術(shù)封裝的OLED顯示器件為例，它是將Frit材料配成一定粘度的溶液，涂覆在玻璃基板上，加熱除去溶劑，然后與待封裝玻璃貼合，利用激光(英文全稱：laser)將Frit材料瞬間燒至融化，從而將兩片平板玻璃粘結(jié)在一起。Frit封裝技術(shù)由于采用的是無機封裝介質(zhì)，所以其阻止水汽與氧氣的能力很強。特別適合用于對水汽、氧氣敏感的OLED制造技術(shù)。

其中，如圖1、2所示，根據(jù)圖1在A-A’方向上的截面可以得出圖2所示的Frit部分平面透視結(jié)構(gòu)示意圖，其中如圖2所示在玻璃基板1的緩沖層3上設置有凹孔區(qū)域a和非凹孔區(qū)域b，在非凹孔區(qū)域b設置有金屬層4和絕緣層＝5；通過Frit材料6將玻璃基板1與待封裝玻璃2粘結(jié)在一起；其中，雖然在玻璃基板1上的緩沖層3設置有凹孔區(qū)域a，可是在對OLED顯示器件Frit封裝技術(shù)信賴性測試中發(fā)現(xiàn)，對出現(xiàn)不良(英文全稱：Not Given，簡稱：NG)的OLED顯示器件進行解析時，大部分的封裝漏氣OLED顯示器件是由于Frit材料在非凹孔區(qū)域b發(fā)生了位移脫落斷裂。研究后發(fā)現(xiàn)，非凹孔區(qū)域b的表面與非凹孔區(qū)域b和Frit材料6的接觸面是平行的，通過Frit材料6的粘結(jié)，只是在水平方向上進行了粘接；Frit材料6在未固化前，在外部環(huán)境的影響下，在非凹孔區(qū)域b的表面與非凹孔區(qū)域b和Frit材料6的接觸面就很容易發(fā)生位移，導致位于非凹孔區(qū)域b表面上的Frit材料6脫落斷裂，從而導致OLED顯示器件被水氧侵蝕。總之，現(xiàn)有技術(shù)中采用封框膠對顯示器件中玻璃基板與待封裝基板封裝時，存在封框膠脫落斷裂的概率從而造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實施例提供一種顯示基板及制作方法和顯示設備，能夠降低封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成OLED顯示器件被水氧侵蝕的問題。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案：

第一方面、本發(fā)明實施例提供一種顯示基板，顯示基板上設置有功能膜層，在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)包括凸出陣列；其中，顯示基板與另一顯示基板對盒時，凸出陣列對應的凸起用于嵌入顯示基板與另一顯示基板之間的封框膠。

具體的，凸出陣列由凸出子陣列排列形成；每個凸出子陣列包括平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分。

具體的，功能膜層包括第一功能膜層、第二功能膜層；第一功能膜層的一側(cè)與顯示基板接觸，第二功能膜層的一側(cè)與第一功能膜層的另一側(cè)接觸；第二功能膜層包括凸出陣列；在第二功能膜層上遠離顯示基板的一側(cè)形成有凸出陣列；其中，平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分位于第一功能膜層上。

具體的，在第一功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)設置有凸出陣列。

具體的，功能膜層還包括第三功能膜層；

第三功能膜層覆蓋平坦部分，且第三功能膜層的厚度小于凸起部分的厚度；第三功能膜層上設置有至少一個過孔，設置于平坦部分上的至少一個凸起部分的頂部穿過過孔。

具體的，功能膜層還包括第三功能膜層；

第三功能膜層覆蓋平坦部分和設置于平坦部分上的凸起部分。

具體的，第三功能膜層包括與第一功能膜層接觸的部分。

具體的，至少一層功能膜層包括凹孔區(qū)域和非凹孔區(qū)域；凸出陣列位于非凹孔區(qū)域。

具體的，凸起部分的截面至少為以下一種形狀：圓形、三角形、矩形和多邊形；

具體的，凸起部分的頂部為弧面。

具體的，平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分為金屬。

具體的，第一功能膜層為緩沖層，緩沖層的材料包含SiNx或者SiO2的至少一種。

具體的，第二功能膜層為金屬層。

具體的，第三功能膜層為絕緣層；絕緣層的材料包含SiNx或者SiO2的至少一種。

第二方面、本發(fā)明實施例提供一種顯示基板的制作方法，包括如下：

在顯示基板上形成至少一層功能膜層；

在至少一層功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列；其中，顯示基板與另一顯示基板對盒時，凸出陣列對應的凸起用于嵌入顯示基板與另一顯示基板之間的封框膠。

具體的，功能膜層包括第一功能膜層，在顯示基板上制作第一功能膜層包括如下步驟：

在顯示基板上利用沉積工藝形成第一功能膜層；

在第一功能膜層上涂覆第一光刻膠層，并進行第一次曝光顯影，在第一光刻膠層上形成凹孔區(qū)域與非凹孔區(qū)域的圖案；

在第一次曝光顯影后的顯示基板上通過刻蝕工藝在第一功能膜層上形成凹孔區(qū)域與非凹孔區(qū)域，并剝離第一光刻膠層。

具體的，在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列包括如下步驟：

形成第一功能膜層；

在形成第一功能膜層的顯示基板上通過沉積工藝制備第一材料層；

涂覆覆蓋第一材料層的第二光刻膠層，并進行第二次曝光顯影，在第二光刻膠層上第一功能膜層的非凹孔區(qū)域?qū)奈恢眯纬善教共糠值膱D案；

在第二次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝在第一材料層上形成平坦部分，并剝離第二光刻膠層；

在形成平坦部分的顯示基板上通過沉積工藝制備第三材料層；

涂覆覆蓋第三材料層的第三光刻膠層，并進行第三次曝光顯影，在第三光刻膠層上平坦部分對應的位置形成第三功能膜層的圖案；

在第三次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝形成第三功能膜層，并剝離第三光刻膠層；其中，第三功能膜層覆蓋平坦部分；

涂覆覆蓋第三功能膜層的第四光刻膠層，并進行第四次曝光顯影，在第四光刻膠層上形成過孔的圖案；

在第四次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝在第三功能膜層上形成過孔；

在形成過孔的顯示基板上制備第二材料層，第二材料層通過過孔與平坦部分連接；

涂覆覆蓋第二材料層的第五光刻膠層，并進行第五次曝光顯影，在第五光刻膠層上保留凸起部分對應的光刻膠；

在第五次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝在第二材料層上形成凸起部分，并剝離第四光刻膠層和第五光刻膠層，形成包含平坦部分和設置于平坦部分上的凸起部分的第二功能膜層。

具體的，在第五光刻膠層上保留凸起部分對應的光刻膠與凸起部分頂部的形狀相同。

具體的，凸起部分的頂部為弧面時，弧面用于反射固化光線。

具體的，在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列包括如下步驟：

形成第一功能膜層；在形成第一功能膜層的顯示基板上通過沉積工藝制備第一材料層；

涂覆覆蓋第一材料層的第二光刻膠層，并進行第二次曝光顯影，在第二光刻膠層上第一功能膜層的非凹孔區(qū)域?qū)奈恢眯纬善教共糠值膱D案；

在第二次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝在第一材料層上形成平坦部分，并剝離第二光刻膠層；

涂覆覆蓋平坦部分的第三光刻膠層，并通過第三次曝光顯影，在第三光刻膠層上平坦部分的凸起部分對應的位置形成過孔的圖案；

在第三次曝光顯影后的顯示基板上通過沉積工藝在第三光刻膠層上形成第二材料層；其中第二材料層通過過孔與平坦部分連接；

涂覆覆蓋第二材料層的第四光刻膠層，并進行第四次曝光顯影，在第四光刻膠層上保留凸起部分對應的光刻膠；

在第四次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝在第二材料層上形成凸起部分，并剝離第三光刻膠層和第四光刻膠層，形成包含平坦部分和設置與平坦部分上的凸起部分的第二功能膜層；

在第四次曝光顯影后的顯示基板上通過沉積工藝形成覆蓋第二功能膜層的第三材料層；

涂覆覆蓋第三材料層的第五光刻膠層，并進行第五次曝光顯影，在第五光刻膠層上形成第三功能膜層的圖案；

在第五次曝光顯影后的顯示基板通過刻蝕工藝在第三材料層上形成第三功能膜層，并剝離第五光刻膠層。

具體的，在第四光刻膠層上保留的凸起部分對應的光刻膠與凸起部分頂部的形狀相同。

具體的，凸起部分的頂部為弧面時，弧面用于反射固化光線。

第三方面、本發(fā)明實施例提供一種顯示設備，包含權(quán)利要求第一方面提供的任一顯示基板。

本發(fā)明的實施例提供一種顯示基板，通過在顯示基板上設置有功能膜層，在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)包括凸出陣列，并將凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得顯示基板與另一個顯示基板通過封框膠粘結(jié)時，由于凸出陣列的凸起嵌入了封框膠中，這就會增加一個防止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)設置有凸出陣列，并將凸出陣列嵌入封框膠中，使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積更大，所以使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中Frit部分平面透視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)中圖1中A-A’的截面示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的一種顯示器件的具體顯示基板的平面透視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的如圖3所示的顯示器件的顯示基板的B-B’的截面示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的如圖3所示的顯示器件的另一種顯示基板的B-B’的截面示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板凸起部分頂部示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法的具體步驟流程圖；

圖8-a-8-p為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作過程中的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的另一種制作方法的具體步驟的流程圖；

圖10-a-10-q為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的另一種制作過程中的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標記：

10-顯示基板；

20-另一顯示基板；

30-第一功能膜層；

40-第二功能膜層；

4010-凸出陣列；4011-平坦部分；4012-第三功能膜層；4013-過孔；4014-凸起部分；4015-第一材料層；4016-第二材料層；4017-第三材料層；

50-封框膠；

6011-第一光刻膠層；6012第二光刻膠層；6013-第三光刻膠層；6014-第四光刻膠層；6015-第五光刻膠層；

a-凹孔區(qū)域；b-非凹孔區(qū)域。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明的實施例提供一種顯示基板，通過在顯示基板上設置有功能膜層，在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)包括凸出陣列，并將凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得顯示基板與另一個顯示基板通過封框膠粘結(jié)時，由于凸出陣列的凸起嵌入了封框膠中，這就會增加一個防止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)設置有凸出陣列，并將凸出陣列嵌入封框膠中，使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積更大，所以使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

實施例一、本發(fā)明實施例提供一種顯示基板，如圖3、4所示，顯示基板10上設置有功能膜層，在至少一層功能膜層的遠離顯示基板10的一側(cè)包括凸出陣列4010，其中，顯示基板10與另一顯示基板20對盒時，凸出陣列4010對應的凸起用于嵌入顯示基板10與另一顯示基板20之間的封框膠50。

由上述可知，根據(jù)圖3在B-B’方向上的截面可以得出圖4所示的顯示基板的具體的平面透視結(jié)構(gòu)示意圖，其中如圖4所示通過在顯示基板上設置有功能膜層，在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)包括凸出陣列，并將凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得顯示基板與另一顯示基板通過封框膠粘結(jié)時，由于凸出陣列的凸起嵌入了封框膠中，這就會增加一個防止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在至少一層功能膜層的遠離顯示基板的一側(cè)設置有凸出陣列，并將凸出陣列嵌入封框膠中，使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積更大，所以使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

實施例二、一種顯示基板，如圖3、圖4和圖6所示，其中：凸出陣列4010由凸出子陣列排列形成；每個凸出子陣列包括平坦部分4011以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分4014。

具體的，所述功能膜層包括第一功能膜層30、第二功能膜層40；所述第一功能膜層30的一側(cè)與所述顯示基板10接觸，所述第二功能膜層40的一側(cè)與所述第一功能膜層30的另一側(cè)接觸；所述第二功能膜層40包括所述凸出陣列4010；在所述第二功能膜層40上遠離所述顯示基板10的一側(cè)形成有凸出陣列4010；其中，所述平坦部分4011以及設置于所述平坦部分4011上的至少一個凸起部分4014位于所述第一功能膜層30上。

具體的，在所述第一功能膜層30的遠離所述顯示基板10的一側(cè)設置有所述凸出陣列4010。

具體的，所述功能膜層還包括第三功能膜層4012；

所述第三功能膜層4012覆蓋所述平坦部分4014，且所述第三功能膜層4012的厚度小于所述凸起部分4014的厚度；所述第三功能膜層4012上設置有至少一個過孔4013，所述設置于所述平坦部分4011上的至少一個凸起部分4014的頂部穿過所述過孔4013。

需要說明的是，這里凸起部分的頂部可以嵌入封框膠中。

具體的，所述第三功能膜層4012包括與所述第一功能膜層30接觸的部分。

具體的，至少一層所述功能膜層包括凹孔區(qū)域a和非凹孔區(qū)域b；所述凸出陣列4010位于所述非凹孔區(qū)域b。

具體的，所述凸起部分4014的截面至少為以下一種形狀：圓形、三角形、矩形和多邊形，所述凸起部分4014的頂部為弧面。

具體的，所述平坦部分4011以及設置于平坦部分4011上的至少一個凸起部分4014為金屬。

需要說明的是，平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分的制備材料可以為鉬。

具體的，所述第一功能膜層30為緩沖層，所述緩沖層的材料包含SiNx或者SiO2的至少一種。

具體的，所述第二功能膜層40為金屬層。

具體的，所述第三功能膜層4012為絕緣層；所述絕緣層的材料包含SiNx或者SiO2的至少一種。

需要說明的是，在實際制備過程中，由于直接將第二功能膜層設置在顯示基板上時，顯示基板對第二功能膜層的固定作用不夠；因此，需要在顯示基板上首先設置第一功能膜層，由于第一功能膜層可以很好的與顯示基板之間的結(jié)合力很強，并且金屬層和第一功能膜層之間的結(jié)合力也很好，這樣就可以很好的固定產(chǎn)品，增加產(chǎn)品的穩(wěn)定性。

由上述可知，根據(jù)圖3在B-B’方向上的截面可以得出圖4所示的顯示基板的平面透視結(jié)構(gòu)示意圖，其中如圖4所示凸出陣列由若干個凸出子陣列組成，其中每個凸出子陣列包括平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分組成；制備第三功能膜層與第一功能膜層的材料可以為SiNx或者SiO2中的至少一種，設置于平坦部分上的至少一個凸起部分是通過設置在第三功能膜層上的過孔，將凸起部分的頂部嵌入封框膠中；其中，平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分形成的材料為金屬；形成的凸起部分的截面可以根據(jù)實際的需要，制備成不同的形狀，如圓形；如圖6所示，當凸起部分的頂部為弧形時，這樣就可以在激光密封時，通過凸起部分頂部的弧形來反射激光光線；現(xiàn)有技術(shù)中，因為發(fā)射激光光線的裝置位于第一基板上的上方，所以位于第一功能膜層非凹孔區(qū)域表面的封框膠只能接收到垂直方向上的激光光線；而本發(fā)明實施例提供凸出子陣列中的凸起部分的頂部為弧形，這樣可以使得位于凸起部分周圍的封框膠不僅接收到垂直方向上的激光光線而且還可以接收到弧形表面所反射的激光光線，從而使得位于凸起部分周圍的封框膠在同樣的時間內(nèi)所接收到的激光光線更多，即激光的能量更多，進而使得封框膠的熔融狀態(tài)更好。

需要說明的是凸出子陣列至少可以包含一個凸起部分。其中如圖3所示，凹孔區(qū)域為陣列排布，凸出陣列圍繞凹孔區(qū)域分布。

實施例三、一種顯示基板，如圖3、圖5和圖6所示，其中：凸出陣列4010由凸出子陣列排列形成；每個凸出子陣列包括平坦部分4011以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分4014。

具體的，所述功能膜層包括第一功能膜層30、第二功能膜層40；所述第一功能膜層30的一側(cè)與所述顯示基板10接觸，所述第二功能膜層40的一側(cè)與所述第一功能膜層30的另一側(cè)接觸；所述第二功能膜層40包括所述凸出陣列4010；在所述第二功能膜層40上遠離所述顯示基板10的一側(cè)形成有凸出陣列4010；其中，所述平坦部分4011以及設置于所述平坦部分4011上的至少一個凸起部分4014位于所述第一功能膜層30上。

具體的，在所述第一功能膜層30的遠離所述顯示基板10的一側(cè)設置有所述凸出陣列4010。

具體的，所述功能膜層還包括第三功能膜層4012；

所述第三功能膜層4012覆蓋所述平坦部分4014，且所述第三功能膜層4012的厚度小于所述凸起部分4014的厚度；所述第三功能膜層4012上設置有至少一個過孔4013，所述設置于所述平坦部分4011上的至少一個凸起部分4014的頂部穿過所述過孔4013。

需要說明的是，這里凸起部分的頂部可以嵌入封框膠中。

具體的，所述第三功能膜層4012包括與所述第一功能膜層30接觸的部分。

具體的，至少一層所述功能膜層包括凹孔區(qū)域a和非凹孔區(qū)域b；所述凸出陣列4010位于所述非凹孔區(qū)域b。

具體的，所述凸起部分4014的截面至少為以下一種形狀：圓形、三角形、矩形和多邊形，所述凸起部分4014的頂部為弧面。

具體的，所述平坦部分4011以及設置于平坦部分4011上的至少一個凸起部分4014為金屬。

需要說明的是，平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分的制備材料可以為鉬。

具體的，所述第一功能膜層30為緩沖層，所述緩沖層的材料包含SiNx或者SiO2的至少一種。

具體的，所述第二功能膜層40為金屬層。

具體的，所述第三功能膜層4012為絕緣層；所述絕緣層的材料包含SiNx或者SiO2的至少一種。

需要說明的是，在實際制備過程中，由于直接將第二功能膜層設置在顯示基板上時，顯示基板對第二功能膜層的固定作用不夠；因此，需要在顯示基板上首先設置第一功能膜層，由于第一功能膜層可以很好的與顯示基板之間的結(jié)合力很強，并且金屬層和第一功能膜層之間的結(jié)合力也很好，這樣就可以很好的固定產(chǎn)品，增加產(chǎn)品的穩(wěn)定性。

由上述可知，根據(jù)圖3在B-B’方向上的截面可以得出圖5所示的顯示器基板的平面透視結(jié)構(gòu)示意圖，其中如圖5所示凸出陣列由若干個凸出子陣列組成，其中每個凸出子陣列包括平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分組成；制備第三功能膜層與第一功能膜層的材料可以為SiNx或者SiO2中的至少一種，其中第三功能膜層設置在第一功能膜層上，并覆蓋平坦部分和設置于平坦部分上的凸起部分；其中，平坦部分以及設置于平坦部分上的至少一個凸起部分形成的材料為金屬；形成的凸起部分的截面可以根據(jù)實際的需要，制備成不同的形狀。

需要說明的是凸出子陣列至少可以包含一個凸起部分。其中如圖3所示，凹孔區(qū)域為陣列排布，凸出陣列圍繞凹孔區(qū)域分布。

其中，這里的嵌入封框膠中的凸起為設置于第一功能膜層上的第三功能膜層，其中，第三功能膜層覆蓋平坦部分和設置于平坦部分上的凸起部分，在對應設置于平坦部分上的凸起部分上方的第三功能膜層上形成了凸出陣列的凸起，并將設置于平坦部分上的凸起部分上方的第三功能膜層上形成的凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得顯示基板與另一顯示基板通過封框膠粘結(jié)時，由于凸出陣列的凸起部分嵌入了封框膠中，這就會增加一個防止第三功能膜層的表面與第三功能膜層和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止第三功能膜層與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在第三功能膜層的一側(cè)設置有凸出陣列，并將凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得第三功能膜層表面與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中第三功能膜層表面與封框膠的接觸面積更大，所以使得第三功能膜層表面與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

實施例四、本發(fā)明實施例提供一種顯示基板制作方法，具體的制作步驟如下：

步驟S101、在顯示基板10上形成至少一層功能膜層；

步驟S102、在至少一層功能膜層遠離顯示基板10的一側(cè)形成凸出陣列4010；其中，顯示基板10與另一顯示基板20對盒時，凸出陣列4010的凸起用于嵌入顯示基板10與另一顯示基板20之間的封框膠50。

由上述可知，在制備顯示基板時，首先是在顯示基板上形成功能膜層，并在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列，在制備完功能膜層以及設置于功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列的顯示基板上可以涂覆封框膠，然后通過激光密封將顯示基板與另一顯示基板粘結(jié)；而封框膠是通過功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與顯示基板粘結(jié)，由于在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列的凸起嵌入了封框膠中，這樣就可以在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面的垂直方向上產(chǎn)生一個作用力；由于現(xiàn)有技術(shù)中功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面平行的，產(chǎn)生的作用力也只是在水平方向上，封框膠在固化后，在外界環(huán)境的影響下，有可能會在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，從而導致封框膠在非凹孔區(qū)域的表面發(fā)生脫落斷裂；本發(fā)明通過在第一功能膜層的非凹孔區(qū)域制備凸出陣列，使得在封框膠粘結(jié)顯示基板與另一顯示基板時，不僅在水平方向上產(chǎn)生作用力，由于凸出陣列嵌入封框膠中，這就會產(chǎn)生一個防止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)形成凸出陣列，并將凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠的接觸面積更大，所以使得功能膜層遠離顯示基板的一側(cè)與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

具體提供以下兩種情景：

情景一、如圖7和圖8-a-8-p所示，本發(fā)明實施例提供一種顯示基板，以設置在平坦部分的凸起部分的頂部為弧形為例進行說明，制作方法包括如下步驟：

步驟S1010、在顯示基板上30利用沉積工藝制備第一功能膜層30。

其中，如圖8-a所示步驟S1010可以采用等離子體增強化學氣相沉積法(英文全稱：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，簡稱：PECVD)在顯示基板上沉積預定厚度的SiNx與SiO2形成第一功能膜層30。

步驟S1011、在第一功能膜層30上涂覆第一光刻膠層6011，并進行第一次曝光顯影，在第一光刻膠層6011上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b的圖案。

其中，如圖8-b所示步驟S1011中，將顯示基板20上制備的第一功能膜層30覆蓋涂覆形成第一光刻膠層6011，采用單灰階掩膜板工藝曝光，在第一光刻膠層6011上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b的圖案，通過第一次顯影，將形成凹孔區(qū)域a的第一光刻膠層6011去除，將形成非凹孔區(qū)域b的第一光刻膠層6011保留。

步驟S1012、在第一次曝光顯影后的顯示基板20上通過刻蝕工藝在第一功能膜層30上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b，并剝離第一光刻膠層6011。

其中，如圖8-c所示步驟S1012中可以通過干法刻蝕(英文全稱：Dry etching)在第一次曝光顯影后的顯示基板20的第一功能膜層30上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b。

步驟S1013、在形成第一功能膜層30的顯示基板20上通過沉積工藝制備第一材料層4015；

需要說明的是，由于平坦部分以及設置于平坦部分上的凸起部分的制備材料相同且為金屬，而平坦部分以及設置于平坦部分上的凸起部分位于第一材料層上，因此這里以第一材料層的制備材料為鉬金屬進行說明。

其中，如圖8-d所示步驟S1013可以采用PECVD在第二次曝光顯影后的顯示基板20上沉積預定厚度的鉬金屬形成第一材料層4015。

步驟S1014、涂覆覆蓋第二功能膜層40的第二光刻膠層6012，并進行第二次曝光顯影，在第二光刻膠層6012上第一功能膜層30的非凹孔區(qū)域b對應的位置形成平坦部分4011的圖案。

其中，如圖8-e所示步驟S1014中，將顯示基板上20制備的第一材料層4015覆蓋涂覆形成第二光刻膠層6012，采用單灰階掩膜板工藝曝光，在第二光刻膠層6012上形成平坦部分4011的圖案，通過第二次顯影，將形成平坦部分4011的第二光刻膠層6012保留，將其他區(qū)域的第二光刻膠層6012去除。

步驟S1015、在第二次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝在第一材料層4015上形成平坦部分4011，并剝離第二光刻膠層6012。

其中，如圖8-f所示步驟S1015中，可以通過濕法刻蝕(英文全稱：Dry etching)在第二次曝光顯影后的顯示基板20的第一材料層4015上形成平坦部分4011。

步驟S1016、在形成平坦部分4011的顯示基板上通過沉積工藝制備第三材料層4017。

其中，如圖8-g所示步驟S1016可以采用等離子體增強化學氣相沉積法(英文全稱：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，簡稱：PECVD)在顯示基板上沉積預定厚度的SiNx與SiO2形成第三材料層4017。

步驟S1017、涂覆覆蓋第三材料層4017的第三光刻膠層6013，并進行第三次曝光顯影，在第三光刻膠層6013上平坦部分4011對應的位置形成第三功能膜層4012的圖案。

其中，如圖8-h所示步驟S1017中，將顯示基板上20制備的第三材料層4017上覆蓋涂覆形成第三光刻膠層6013，采用單灰階掩膜板工藝曝光，在第三光刻膠層6013上形成第三功能膜層4012的圖案，通過第三次顯影，將形成第三功能膜層4012的第三光刻膠層6013保留，將其他區(qū)域的第三光刻膠層6013去除。

步驟S1018、在第三次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝形成第三功能膜層4012，并剝離第三光刻膠層6013；其中，第三功能膜層4012覆蓋平坦部分4011。

其中，如圖8-i所示步驟S1018中，可以通過干法刻蝕(英文全稱：Dry etching)在第三次曝光顯影后的顯示基板20的第三材料層4017上形成第三功能膜層4012。

步驟S1019、涂覆覆蓋第三功能膜層4012的第四光刻膠層6014，并進行第四次曝光顯影，在第四光刻膠層6014上形成過孔4013的圖案。

其中，如圖8-j所示步驟S1019中，通過將第三功能膜層4012覆蓋涂覆形成第四光刻膠層6014，利用單灰階掩膜板工藝曝光，將形成過孔4013的第四光刻膠層6014去除，將其他區(qū)域的第四光刻膠層6014保留。

步驟S1020、在第四次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝在第三功能膜層4012上形成過孔4013。

其中，如圖8-k所示步驟S1020中，可以通過干法刻蝕(英文全稱：Dry etching)在第四次曝光顯影后的顯示基板20的第三功能膜層4012上形成過孔4013。

步驟S1021、在形成過孔4013的顯示基板20上制備第二材料層4016，第二材料層4016通過過孔4013與平坦部分4011連接。

需要說明的是，由于設置于平坦部分的凸起部分不能一次成型制備出來，因此需要制備第二材料層將設置于第三功能膜層的過孔覆蓋，同時平坦層通過過孔與平坦部分連接，因此可以制備出設置于平坦部分上的凸起部分；考慮到金屬之間的連接牢靠程度，因此在制備平坦層時使用的材料也為鉬金屬。

其中，如圖8-l所示步驟S1021中可以采用PECVD在形成過孔4013的顯示基板20上沉積預定厚度的鉬金屬形成第二材料層4016。

步驟S1022、涂覆覆蓋第二材料層4016的第五光刻膠層6015，并進行第五次曝光顯影，在第五光刻膠層6015上保留凸起部分4014對應的光刻膠40；其中，在第五光刻膠層6015上保留凸起部分4014對應的光刻膠的形狀與凸起部分4014頂部的形狀相同。

其中，如圖8-m和圖8-n所示步驟S1022中，通過將第二材料層4016覆蓋涂覆形成第五光刻膠層6015，采用多灰階掩膜板(英文全稱：Gray-tone mask)曝光，將形成凸起部分的第五光刻膠層6015的光刻膠保留，將其他區(qū)域的第五光刻膠層6015去除；這里的多灰階掩膜板(英文全稱：Gray-tone mask)是指，它是制作出曝光機解析度以下的線路掩膜板，再通過掩膜板中的線路部位遮住一部份的光源，以達成半曝光的效果。

步驟S1023、在第五次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝在第二材料層4016上形成凸起部分4014，并剝離第四光刻膠層6014和第五光刻膠層6015，形成包含平坦部分4011和設置于平坦部分4011上的凸起部分4014的第二功能膜層40。

其中，如圖8-o所示在步驟S1023中，刻蝕工藝可以采用通過蝕刻液對第二材料層進行濕法刻蝕，形成凸起部分4014。

步驟S1030、在上述形成的顯示基板20上涂覆封框膠50，對封框膠50進行激光固化，其中弧面用于向封框膠50反射固化光線。

其中，如圖8-p所示步驟S1030中，當凸起部分4014的頂部為弧形時，這樣就可以在激光密封時，通過凸起部分4014頂部的弧形來反射激光光線，使得位于凸起部分周圍的封框膠50不僅接收到垂直方向上的激光光線而且還可以接收到弧形表面所反射的激光光線，從而使得位于凸起部分4014周圍的封框膠50在同樣的時間內(nèi)所接收到的激光光線更多，即激光的能量更多，進而使得封框膠50的熔融狀態(tài)更好，從而通過固化的封框膠50將顯示基板10與另一顯示基板20粘結(jié)。

需要說的是，這里是以凸出子陣列中的凸起部分的頂部為弧形為例進行說明，對其凸起部分的截面形狀并不做限定；考慮到實際的制作流程，我們在制備平坦部分所使用的材料與柵極的材料相同，平坦層所使用的材料與源極的材料相同，由于平坦層的材料與凸出子陣列的凸起部分的材料相同，所以在制備平坦部分與平坦層時，二者的制備材料可以相同也可以不同。在此對平坦部分與平坦層的材料不做限定。

由上述可知，在制備顯示器件的基板時，經(jīng)過多次工藝才可實現(xiàn)制備出設置于平坦部分上的凸出陣列，而凸出陣列的凸出子陣列中的凸起部分通過第二材料層來制備，并通過設置于第三功能膜層的過孔將凸起部分的底部與平坦部分連接，而凸起部分的頂部高于第三功能膜層；這就使得在激光密封時，封框膠將顯示基板與另一顯示基板粘結(jié)，由于第三功能膜層的厚度小于凸起部分，使得凸出子陣列的凸起部分嵌入了封框膠中；當顯示基板與另一顯示基板通過封框膠粘結(jié)時，雖然第三功能膜層的表面和封框膠的接觸面是平行的，但是由于凸出陣列的凸起部分嵌入了封框膠中，這就會增加一個防止第三功能膜層的表面和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止第三功能膜層的表面與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在平坦部分上設置有凸出陣列，并通過設置于第三功能膜層柵固定過孔將設置于平坦部分上的凸起部分嵌入封框膠中，使得第三功能膜層的表面與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中第三功能膜層的表面與封框膠的接觸面積更大，所以使得第三功能膜層的表面與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

情景二、如圖9和圖10-a-10-q所示，本發(fā)明實施例提供一種顯示基板，以凸出子陣列中的凸起部分的頂部為弧形為例進行說明，制作方法包括如下步驟：

步驟S2010、在顯示基板上30利用沉積工藝制備第一功能膜層30。

其中，如圖10-a所示步驟S2010可以采用等離子體增強化學氣相沉積法(英文全稱：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，簡稱：PECVD)在顯示基板上沉積預定厚度的SiNx與SiO2形成第一功能膜層30。

步驟S2011、在第一功能膜層30上涂覆第一光刻膠層6011，并進行第一次曝光顯影，在第一光刻膠層6011上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b的圖案。

其中，如圖10-b所示步驟S2011中，將顯示基板20上制備的第一功能膜層30覆蓋涂覆形成第一光刻膠層6011，采用單灰階掩膜板工藝曝光，在第一光刻膠層6011上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b的圖案，通過第一次顯影，將形成凹孔區(qū)域a的第一光刻膠層6011去除，將形成非凹孔區(qū)域b的第一光刻膠層6011保留。

步驟S2012、在第一次曝光顯影后的顯示基板20上通過刻蝕工藝在第一功能膜層30上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b，并剝離第一光刻膠層6011。

其中，如圖10-c所示步驟S2012中可以通過干法刻蝕(英文全稱：Dry etching)在第一次曝光顯影后的顯示基板20的第一功能膜層30上形成凹孔區(qū)域a與非凹孔區(qū)域b。

步驟S2013、在形成第一功能膜層30的顯示基板10上通過沉積工藝制備第一材料層4015。

需要說明的是，由于平坦部分以及設置于平坦部分上的凸起部分的制備材料相同且為金屬，而平坦部分以及設置于平坦部分上的凸起部分位于第一材料層上，因此這里以第一材料層的制備材料為鉬金屬進行說明。

其中，如圖10-d所示步驟S2013可以采用PECVD在第二次曝光顯影后的顯示基板20上沉積預定厚度的鉬金屬形成第一材料層4015。

步驟S2014、涂覆覆蓋第一材料層4015的第二光刻膠層6012，并進行第二次曝光顯影，在第二光刻膠層6012上第一功能膜層30的非凹孔區(qū)域b對應的位置形成平坦部分4011的圖案。

其中，如圖10-e所示在步驟S2014中，通過將第一材料層4015上涂覆第二光刻膠層6012，利用單灰階掩膜板工藝曝光，將形成平坦部分4011的第二光刻膠層6012保留，將其他區(qū)域的第二光刻膠層6012去除。

步驟S2015、在第二次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝在第一材料層4015上形成平坦部分4011，并剝離第二光刻膠層6012。

其中，如圖10-f所示在步驟S2015中，可以采用通過濕法刻蝕對第一材料層4015進行刻蝕，形成平坦部分4011。

步驟S2016、涂覆覆蓋平坦部分4011的第三光刻膠層6013，并通過第三次曝光顯影，在第三光刻膠層6013上平坦部分4011的凸起部分4014對應的位置形成過孔4013的圖案。

其中，如圖10-g和圖10-h所示在步驟S2016中，通過將平坦部分4011上涂覆第三光刻膠層6013，利用單灰階掩膜板工藝曝光，將形成過孔4013的第三光刻膠層6013去除，將其他區(qū)域的第三光刻膠層6013保留。

步驟S2017、在第三次曝光顯影后的顯示基板20上通過沉積工藝在第三光刻膠層6013上形成第二材料層4016；其中第二材料層4016通過過孔4013與平坦部分4011連接。

需要說明的是，由于設置于平坦部分的凸起部分不能一次成型制備出來，因此需要制備第二材料層將設置于第三光刻膠層的過孔覆蓋，同時平坦層通過過孔與平坦部分連接，因此可以制備出設置于平坦部分上的凸起部分；考慮到金屬之間的連接牢靠程度，因此在制備第二材料層時使用的材料也為鉬金屬。

其中，如圖10-i所示步驟S2017可以采用PECVD在第三次曝光顯影后的顯示基板20上沉積預定厚度的鉬金屬形成第二材料層4016。

步驟S2018、涂覆覆蓋第二材料層4016的第四光刻膠層6014，并進行第四次曝光顯影，在第四光刻膠層6014上保留凸起部分4014對應的光刻膠。

其中，如圖10-j和圖10-k所示步驟S2018中，通過將第二材料層4016覆蓋涂覆形成第四光刻膠層6014，采用多灰階掩膜板(英文全稱：Gray-tone mask)曝光，將形成凸起部分4014的第四光刻膠層6014的光刻膠保留，將其他區(qū)域的第四光刻膠層6014去除；這里的多灰階掩膜板(英文全稱：Gray-tone mask)是指，它是制作出曝光機解析度以下的線路掩膜板，再通過掩膜板中的線路部位遮住一部份的光源，以達成半曝光的效果；其中在第四光刻膠層6014上保留凸起部分4014對應的光刻膠50與凸起部分4014頂部的形狀相同。

步驟S2019、在第四次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝在第二材料層4016上形成凸起部分4014，并剝離第三光刻膠層6013和第四光刻膠層6014；形成包含平坦部分4011和設置于平坦部分4011上的凸起部分4014的第二功能膜層40。

其中，如圖10-l和圖10-m所示在步驟S2019中，刻蝕工藝可以采用通過蝕刻液對第二材料層4016進行濕法刻蝕，形成凸起部分4014。

步驟S2020、在第四次曝光顯影后的顯示基板上通過沉積工藝形成覆蓋平坦部分4011與設置于平坦部分4011上的凸起部分4014上的第三材料層4017。

其中，如圖10-n所示步驟S2020可以采用等離子體增強化學氣相沉積法(英文全稱：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，簡稱：PECVD)在顯示基板上沉積預定厚度的SiNx與SiO2形成第三材料層4017。

步驟S2021、涂覆覆蓋第三材料層4017的第五光刻膠層6015，并進行第五次曝光顯影，在第五光刻膠層6015上形成第三功能膜層4012的圖案。

其中，如圖10-o所示在步驟S2021中，通過將第三材料層4017上涂覆第五光刻膠層6015，利用單灰階掩膜板工藝曝光，將形成第三功能膜層4012圖案的第五光刻膠層6015保留，將其他區(qū)域的第五光刻膠層6015去除。

步驟S2022、在第五次曝光顯影后的顯示基板20通過刻蝕工藝在第三材料層4017上形成第三功能膜層4012的圖案，并剝離第五光刻膠層6015。

其中，如圖10-p所示在步驟S2022中，通過干法刻蝕對第三材料層4017進行刻蝕，形成第三功能膜層4012。

步驟S2030、在上述形成的顯示基板20上涂覆封框膠50，對封框膠50進行激光固化，通過固化的封框膠50將顯示基板10與另一顯示基板20粘結(jié)。

其中，如圖10-q所示步驟S2030中，凸起部分的4014頂部為弧面，對封框膠50進行激光固化時，第三功能膜層4012在覆蓋凸起部分4014的位置形成凸出陣列4010的凸起的頂部為弧面，激光通過第三功能膜層4012進入到凸起部分4014的頂部，凸起部分4014的頂部的弧面用于反射激光穿過覆蓋凸起部分的第三功能膜層4012后形成封框膠50的固化光線；通過固化的封框膠50將顯示基板10與另一顯示基板20粘結(jié)。

由上述可知，嵌入封框膠中的凸起為設置于第一功能膜層上的第三功能膜層，其中，第三功能膜層覆蓋平坦部分和設置于平坦部分上的凸起部分，在對應設置于平坦部分上的凸起部分上方的第三功能膜層上形成了凸出陣列的凸起，并將設置于平坦部分上的凸起部分上方的第三功能膜層上形成的凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得顯示基板與另一顯示基板通過封框膠粘結(jié)時，雖然第三功能膜層的表面與第三功能膜層和封框膠的接觸面是平行的，但是由于凸出陣列的凸起部分嵌入了封框膠中，這就會增加一個防止第三功能膜層的表面與第三功能膜層和封框膠的接觸面發(fā)生位移的作用力，即增大了平行方向上的固定作用，能夠阻止第三功能膜層與封框膠的接觸面之間發(fā)生位移，進而能夠降低由于位移造成的封框膠脫落斷裂的概率，解決封框膠脫落斷裂造成顯示器件被水氧侵蝕的問題。此外，由于在第三功能膜層的一側(cè)設置有凸出陣列，并將凸出陣列的凸起嵌入封框膠中，使得第三功能膜層表面與封框膠的接觸面積相比現(xiàn)有技術(shù)中第三功能膜層表面與封框膠的接觸面積更大，所以使得第三功能膜層表面與封框膠之間的粘結(jié)牢固程度，進而增加了封框膠在顯示基板與另一顯示基板中的粘結(jié)牢固程度。

實施例五、本發(fā)明實施例提供一種顯示設備，包括：實施例一、實施例二和實施例三提供的任意一種顯示基板。

另外，顯示裝置可以為：電子紙、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。