技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種用于在被處理體上的圖案形成中實(shí)現(xiàn)高精度的最小線寬的控制和穩(wěn)定的最小線寬的再現(xiàn)性等的對被處理體進(jìn)行處理的方法。該方法包括：形成工序，反復(fù)執(zhí)行序列而在處理容器內(nèi)形成氧化硅膜，該序列包括：第1工序，將第1氣體向等離子體處理裝置的處理容器內(nèi)供給；第2工序，對處理容器內(nèi)的空間進(jìn)行吹掃；第3工序，在處理容器內(nèi)生成含有氧氣的第2氣體的等離子體；第4工序，對處理容器內(nèi)的空間進(jìn)行吹掃；準(zhǔn)備工序，其在將被處理體收容于處理容器內(nèi)之前進(jìn)行；處理工序，對收容到處理容器內(nèi)的被處理體進(jìn)行蝕刻處理，準(zhǔn)備工序在處理工序之前進(jìn)行，形成工序在準(zhǔn)備工序中執(zhí)行，且在處理工序中執(zhí)行，在第1工序中不生成第1氣體的等離子體。

技術(shù)研發(fā)人員：木原嘉英;久松亨;本田昌伸;大石智之
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.30
技術(shù)公布日：2017.08.08