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一種新型太陽能電池的制作方法

文檔序號(hào):12614091閱讀:446來源:國(guó)知局
一種新型太陽能電池的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及光伏領(lǐng)域,特別是涉及一種新型太陽能電池。



背景技術(shù):

在當(dāng)今能源短缺的情況下,太陽能電池作為一種可再生資源,引起了廣泛關(guān)注。另外,由于太陽能電池不會(huì)引起環(huán)境污染,因此太陽能電池行業(yè)在世界各地受大了極大的關(guān)注。

在現(xiàn)有技術(shù)中,太陽能電池的電極通常使用金屬銀制成的導(dǎo)電漿料來印刷制備,電極一般被導(dǎo)電銀漿料完全填充,這就增加了巨額的銀漿單耗成本。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種新型太陽能電池,能夠減少電極印刷過程中金屬漿料的使用量。

為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種新型太陽能電池,包括多個(gè)太陽能電池片,所述太陽能電池片包括硅片、正電極和負(fù)電極,所述負(fù)電極設(shè)于所述硅片的受光面,所述正電極設(shè)于所述硅片受光面相對(duì)的背面,所述負(fù)電極包括相互垂直交叉設(shè)置的主柵和副柵,所述主柵和所述副柵均為金屬線,所述主柵設(shè)有多個(gè)鏤空槽,所述副柵與所述主柵連接處的寬度略寬于其他部分的寬度,所述多個(gè)太陽能電池片依次連接,相鄰兩個(gè)所述太陽能電池片通過焊帶連接,且相鄰兩個(gè)所述太陽能電池片的受光面位置互為相反。

其中,所述焊帶的表面設(shè)有光反射涂層。

其中,所述鏤空槽的形狀為長(zhǎng)方形或橢圓形。

本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況,本發(fā)明的新型太陽能電池由于負(fù)電極的主柵具有多個(gè)鏤空槽,從而能夠減少電極印刷過程中金屬漿料的使用量,可以保持或增加太陽能電池正面電極的導(dǎo)電能力。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例新型太陽能電池的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是圖1中的負(fù)電極的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)一并參閱圖1和圖2,本發(fā)明實(shí)施例的新型太陽能電池包括多個(gè)太陽能電池片1,太陽能電池片1包括硅片11、正電極12和負(fù)電極13,負(fù)電極13設(shè)于硅片11的受光面,正電極12設(shè)于硅片11受光面相對(duì)的背面,負(fù)電極13包括相互垂直交叉設(shè)置的主柵131和副柵132,主柵131和副柵132均為金屬線,主柵131設(shè)有多個(gè)鏤空槽133,副柵132與主柵131連接處的寬度略寬于其他部分的寬度,多個(gè)太陽能電池片1依次連接,相鄰兩個(gè)太陽能電池片1通過焊帶2連接,且相鄰兩個(gè)太陽能電池片1的受光面位置互為相反。在本實(shí)施例中,焊帶2的表面設(shè)有光反射涂層(圖未示)。

由于相鄰兩個(gè)太陽能電池片1 受光面位置互為相反,即太陽能電池片1的受光面與其相鄰的太陽能電池片1的背面的位置相同,在組裝時(shí),將焊帶2平行布置即可實(shí)現(xiàn)相鄰兩個(gè)太陽能電池片1 的連接,焊帶2不需要彎曲,可以降低焊帶2的破裂概率。

負(fù)電極13上的鏤空槽133的形狀可以為長(zhǎng)方形或橢圓形,在本實(shí)施例中,鏤空槽133的形狀為長(zhǎng)方形。

通過上述方式,本發(fā)明實(shí)施例的新型太陽能電池通過在主柵21上設(shè)置多個(gè)鏤空槽211,從而能夠減少電極印刷過程中金屬漿料的使用量,可以保持或增加太陽能電池正面電極的導(dǎo)電能力。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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